CN2791830Y - 无感防爆金属化薄膜电容 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种金属化薄膜电容,具体来说是一种无感防爆金属化薄膜电容。本实用新型通过在介质薄膜上的金属蒸镀层上设置等宽的空白窄缝,将蒸镀层分隔成等距的金属段,能够在电压过高或非正常环境下造成金属层损坏时,而不影响其它金属段的正常工作,并且不会造成损耗增加影响电容的温度系数,从而提高电容在使用过程中的性能及安全性。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种金属化薄膜电容,具体来说是一种无感防爆金属化薄膜电容。
技术背景
现有的金属化介质电容,通常包括金属化纸介电容和金属化薄膜电容。其中,金属化纸介电容是在电容器纸上覆上一层金属膜,用两层金属膜做电极,卷成圆柱形或者扁柱形芯子,然后密封在金属壳或者绝缘材料(如火漆、陶瓷、玻璃釉等)壳中制成。它的特点是体积较小,容量可以做得较大,但是有固有电感和损耗都比较大,用于低频比较合适;金属化薄膜电容,结构和金属化纸介电容相同,介质是涤纶或者聚苯乙烯。涤纶薄膜电容,介电常数较高,体积小,容量大,稳定性较好,适宜做旁路电容,聚苯乙烯薄膜电容,介质损耗小,绝缘电阻高,但是温度系数大,可用于高频电路。适宜做旁路电容,聚苯乙烯薄膜电容,介质损耗小、绝缘电阻高,但是温度系数大,可用于高频电路。
实用新型内容
本实用新型克服了上述缺点,提供一种结构简单、感性低、防爆性能好的金属化薄膜电容。
本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是:所述金属化薄膜电容的内芯包括两层介质薄膜,并由所述介质薄膜叠卷而成,所述每层介质薄膜的一侧表面上有一层蒸镀层,所述蒸镀层都设置在两层介质薄膜的同一侧,每层蒸镀层的侧边留有空白窄边,两层叠卷层的窄边侧位置相反,其特征在于:所述蒸镀层均匀地设置有与叠卷方向垂直的等宽等距的空白窄缝,将所述蒸镀层分隔为等宽等距的蒸镀层金属区块。
所述蒸镀层上与所述窄边位置相反的一侧可设置有H形的保险带,所述保险带在每一区块的个数为至少一个。
所述空白窄缝与叠卷方向可成0~90°角,且不包括0°。
所述蒸镀层金属区块之间窄缝的宽度可为0.2~10mm。
本实用新型通过空白窄缝将介质薄膜上的蒸镀层分隔成等距的金属段,能够尽量避免在电压过高时产生飞弧,造成金属层的部分脱落,同时降低电容的温度系数,从而提高电容在使用过程中的性能,降低了损耗,提高了使用的安全性。
附图说明
图1为本实用新型叠卷前的结构示意图
图2为实施例1的叠卷过程中的结构示意图
图3为实施例1的叠卷后的结构示意图
图4为实施例2的叠卷过程中的结构示意图
图5为实施例2的叠卷后的结构示意图
具体实施方式
如图1所示,金属化薄膜电容的内芯包括两层叠卷的介质薄膜4,所述每层介质薄膜的一侧表面上有一层蒸镀层1,所述蒸镀层的都在两层介质薄膜的同一侧,每层蒸镀层的侧边留有空白窄边2,两层介质薄膜在叠卷位置时的窄边侧位置相反,所述蒸镀层均匀地设置有与叠卷方向垂直的空白窄缝,所述窄缝的宽度为2.2mm,所述蒸镀层被所述空白窄缝3分割的若干等宽的金属区块,其宽度为10mm。所述蒸镀层上与所述窄边位置相反的一侧设置有H形的保险带5,其中在每一区块中有两个。将所述的两层带有蒸镀层的介质薄膜叠卷成圆柱形或者扁柱形形成电容内芯,以两层金属膜做电极,然后密封在金属壳或者绝缘材料壳中制成。
工作过程中,电流经过每层的金属化蒸镀层流过整个电容,由于窄缝的存在,在电压较高的情况下,金属化蒸镀层不易飞弧,避免了因飞弧引起的金属层部分脱落或击穿,导致的电流密度过高,使用温度升高,使电容在运行中降低了损耗,也提高了运行的安全性。从而改善了电容的性能,同时降低了电容的感性、也降低了温度系数。同时,由于在每个金属区块都设置有H形的保险带5,使得在电容流过的电流过大时,将金属带击穿截断,电容将回路断开,避免了电流过大对回路其他元件造成的损害。
实施例1中,如图2、3所示,将上述两层涂有蒸镀层的介质薄膜,叠卷成圆筒形,制成圆柱形电容的内芯。
实施例2中,如图4、5所示,将上述两层涂有蒸镀层的介质薄膜,叠卷成扁柱形,制成扁柱形电容的内芯。
Claims (4)
1.一种无感防爆金属化薄膜电容,其内芯包括两层介质薄膜,并由所述介质薄膜叠卷而成,所述每层介质薄膜的一侧表面上有一层蒸镀层,所述蒸镀层都设置在两层介质薄膜的同一侧,每层蒸镀层的侧边留有空白窄边,两层叠卷层的窄边侧位置相反,其特征在于:所述蒸镀层均匀地设置有与叠卷方向垂直的等宽等距的空白窄缝,将所述蒸镀层分隔为等宽等距的蒸镀层金属区块。
2.根据权利要求1所述的无感防爆金属化薄膜电容,其特征在于:所述蒸镀层上与所述窄边位置相反的一侧设置有H形的保险带,所述保险带在每一区块的个数为至少一个。
3.根据权利要求1或2所述的无感防爆金属化薄膜电容,其特征在于:所述空白窄缝与叠卷方向成0~90°角,且不包括0°。
4.根据权利要求1或2所述的无感防爆金属化薄膜电容,其特征在于:所述蒸镀层金属区块之间窄缝的宽度为0.2~10mm。
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- 2005-04-28 CN CN 200520017340 patent/CN2791830Y/zh not_active Expired - Fee Related
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