CN2399401Y - 平面显示器连续镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种平面显示器连续镀膜装置。由五个长方形箱体喷淋烘干室、进样室、溅射室、翻转室、电子束蒸发室及抽气机构等组成,其中喷淋烘干室为非真空室,进样室、溅射室、翻转室和电子束蒸发室为线列式连续镀膜的真空室,手动矩形闸板阀装于真空室间,抽气用四台涡轮分子泵分别连接在四个真空室与四个机械泵间,其中溅射室另连与进样室共用的涡轮分子泵。它应用磁控溅射制备绝缘膜及电子束蒸发发光膜,其薄膜质量高、镀层牢固、稳定性好。
Description
本实用新型涉及发光技术,是一种应用于制备交流薄膜电致发光平面显示器的连续镀膜设备。
在现有技术中,发光领域制备交流薄膜电致发光平面显示器,采用的设备多是我国60年代生产的小型单台式的电阻蒸发式镀膜机、电子束镀膜机以及后改造的直流磁控溅射台,镀制的膜层性能多是不够稳定,膜层不牢固,绝缘性能差,寿命短,近几年所生产的设备或是只完成了制备绝缘膜的功能,或是只完成电子束蒸发发光膜的功能。
为了克服上述不足,本实用新型的目的是提供一种应用磁控溅射制备绝缘膜及电子束蒸发发光膜,其薄膜质量高、均匀性好的平面显示器连续镀膜装置。
为了实现上述目的,本实用新型的技术方案是:由五个长方形箱体喷淋烘干室、进样室、溅射室、翻转室、电子束蒸发室及涡轮分子泵、机械泵、手动矩形闸板阀、圆形闸板阀和电磁阀组成,其中:所述喷淋烘干室为非真空室,所述进样室、溅射室、翻转室和电子束蒸发室为线列式连续镀膜真空室,隔离用手动矩形闸板阀安装在所述进样室、溅射室、翻转室、电子束蒸发室之间,四台抽气用涡轮分子泵一端通过闸板阀分别与进样室、溅射室、翻转室及电子束蒸发室相连,另一端通过电磁阀分别与四个机械泵相连,其中溅射室同时另连接与进样室共用的涡轮分子泵,所述机械泵通向排汽管道;
所述溅射室的正前方壁面上设置有三支长方形磁控把,其磁控把靶面立置平行排列;所述进样室、溅射室、翻转室和电子束蒸发室为夹壁水冷双层全不锈钢结构;所述样品的传动采用步进电机,传动丝杠带动样品移动,通过微机控制。
本实用新型具备如下优点:
1.本实用新型选用了涡轮分子泵抽气,洁净、无油可靠地保证了各室高真空的要求,抽速快、操作方便、工作周期短、工作效率高。
2.薄膜质量高,镀层牢固。本实用新型系为连续作业镀膜,设置进样室可预先对样品表面进行高压离子轰击,然后再陆续进入溅射室和电子束蒸发室,这一过程全部是在真空中完成,避免了样品反复暴露大气带来的表面污染,提高了膜层质量。
3.薄膜均匀性、稳定性好。本实用新型在溅射室采用微机控制步进马达以恒速或可调速并用方式驱动样品,沿靶面平行移动,磁控靶的设计新颖,靶材利用率高,质量流量控制器MFC进气气流分布的合理,保证了溅射镀膜的均匀性。在电子束蒸发室采用了放置样品台坩埚加热样品,保证了蒸发镀膜的均匀性。
附图说明:
图1为本实用新型结构示意图。
下面结合附图对本实用新型结构及原理作进一步详细说明。
如图1所示,由五个长方形箱体喷淋烘干室1、进样室2、溅射室3、翻转室4,电子束蒸发室5及涡轮分子泵6、机械泵7、手动矩形闸板阀8、CF150圆形闸板阀9和电磁阀10组成,其中:所述喷淋烘干室1为非真空室,所述进样室2、溅射室3、翻转室4和电子束蒸发室5为线列式连续镀膜真空室,隔离用手动矩形闸板阀8安装在所述进样室2、溅射室3、翻转室4、电子束蒸发室5之间,四台抽气用FB450涡轮分子泵6一端通过CF闸板阀9分别与进样室2、溅射室3、翻转室4及电子束蒸发室5相连,另一端通过电磁阀10分别与四个2XZ-8旋片式直联机械泵7相连,其中溅射室3同时另连接与进样室2共用的涡轮分子泵6,所述机械泵7通向排气管道;
所述溅射室3的正前方壁面上设置有379×90mm2三支长方形磁控把31,其磁控把31靶面立置平行排列;
所述进样室2、溅射室3、翻转室4和电子束蒸发室5为夹壁水冷双层全不锈钢结构;
所述样品的传动采用步进电机,传动丝杠带动样品移动,通过微机控制。
本实用新型的工作过程如下:
本实用新型中,所述进样室2前加一喷淋烘干室1用于清洗烘干样品,进样室2用于在不破坏主溅射室真空环境条件下交换样品并对样品进行预先处理;在溅射室3内制作绝缘膜,溅射室3正前方壁面上设置三支长方形磁控靶,靶面立置平行排列,对于工艺成膜质量,减少薄膜表面的污染非常有利,磁控靶31单独通水冷却,加上真空室壁面冷却防止靶极匹配器过热,以保证磁控靶正常工作,样品从溅射室3立式出来,经翻转室4将其变成水平置放,再经传动机构送入电子束蒸发室5;本实用新型机械机构中采用步进电机,传动丝杠带动样品移动,通过微机控制,样品的加热与控制采用跟踪加热跟踪测温方式,四个真空室为长方体形、夹壁水冷双层全不锈钢结构,减少了高温辐射对真空室传动系统内各部件造成的热影响,四台抽气用涡轮分子泵机组以快速抽气方式获得清洁的高真空环境。
本实用新型所述样品的传动中电控部分属现有技术。
Claims (4)
1.一种平面显示器连续镀膜装置,其特征在于:由五个长方形箱体喷淋烘干室(1)、进样室(2)、溅射室(3)、翻转室(4)、电子束蒸发室(5)及涡轮分子泵(6)、机械泵(7)、手动矩形闸板阀(8)、圆形闸板阀(9)和电磁阀(10)组成,其中:所述喷淋烘干室(1)为非真空室,所述进样室(2)、溅射室(3)、翻转室(4)和电子束蒸发室(5)为线列式连续镀膜真空室,隔离用手动矩形闸板阀(8)安装在所述进样室(2)、溅射室(3)、翻转室(4)、电子束蒸发室(5)之间,四台抽气用涡轮分子泵(6)一端通过闸板阀(9)分别与进样室(2)、溅射室(3)、翻转室(4)及电子束蒸发室(5)相连,另一端通过电磁阀(10)分别与四个机械泵(7)相连,其中溅射室(3)同时另连接与进样室(2)共用的涡轮分子泵(6),所述机械泵(7)通向排汽管道。
2.按照权利要求1所述平面显示器连续镀膜装置,其特征在于:所述溅射室(3)的正前方壁面上设置有三支长方形磁控把(31),其磁控把(31)靶面立置平行排列。
3.按照权利要求1所述平面显示器连续镀膜装置,其特征在于:所述进样室(2)、溅射室(3)、翻转室(4)和电子束蒸发室(5)为夹壁水冷双层全不锈钢结构。
4.按照权利要求1所述平面显示器连续镀膜装置,其特征在于:所述样品的传动采用步进电机,传动丝杠带动样品移动,通过微机控制。
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CN 99250740 CN2399401Y (zh) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | 平面显示器连续镀膜装置 |
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CN2399401Y true CN2399401Y (zh) | 2000-10-04 |
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CN 99250740 Expired - Fee Related CN2399401Y (zh) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | 平面显示器连续镀膜装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1999
- 1999-12-22 CN CN 99250740 patent/CN2399401Y/zh not_active Expired - Fee Related
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