CN221529967U - 一种液体薄膜沉积设备 - Google Patents
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- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims abstract description 21
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 239000003595 mist Substances 0.000 claims abstract description 63
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 26
- 210000002489 tectorial membrane Anatomy 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 25
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 18
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 12
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003546 flue gas Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
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- Spray Control Apparatus (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种液体薄膜沉积设备，属于薄膜沉积技术领域，包括覆膜基材以及用于输送覆膜基材的输送带，还包括集雾室、雾喷管、导气喷头，雾喷管与集雾室出口接通，集雾室入口接通有第一气源，导气喷头内部设有气道，气道进气口接通有第二气源，导气喷头底端设有与气道出气口相贯通的导流部，导流部位于雾喷管出口上方，集雾室中的雾滴与通入的气体充分混合均匀后由雾喷管喷出，此时通过导流部将气道通入的气体引导成扇形喷出，使得从雾喷管喷出的气雾被扇形气体引导成扇面状喷到匀速输送的覆膜基材表面，实现覆膜基材表面薄膜沉积，成本低，效率高，原料利用率高。
Description
技术领域
本实用新型属于薄膜沉积技术领域，尤其是一种液体薄膜沉积设备。
背景技术
薄膜沉积是通过物理气象沉积、化学气象沉积和原子层沉积等方法在基片上沉积一层微米、纳米级别厚的薄膜。目前常用的太阳能硅片薄膜沉积方法是使用化学气象沉积和旋涂等方法获得的，这种技术成本高，通用性差，效率较低、原料利用率低。
发明内容
实用新型目的：提供一种液体薄膜沉积设备，以解决现有技术存在的上述问题。
技术方案：一种液体薄膜沉积设备，包括覆膜基材以及用于输送覆膜基材的输送带，还包括集雾室、雾喷管、导气喷头，所述雾喷管与集雾室出口接通，所述集雾室入口接通有第一气源，所述导气喷头内部设有气道，所述气道进气口接通有第二气源，所述导气喷头底端设有与气道出气口相贯通的导流部，所述导流部位于雾喷管出口上方。
通过上述技术方案：集雾室中的雾滴与通入的气体充分混合均匀后由雾喷管喷出，此时通过导流部将气道通入的气体引导成扇形喷出，使得从雾喷管喷出的气雾被扇形气体引导成扇面状喷到匀速输送的覆膜基材表面，实现覆膜基材表面薄膜沉积，成本低，效率高，原料利用率高。
优选的，所述集雾室内部设有雾化装置。
优选的，所述导流部横截面为四分之一圆状，且该四份之一圆的弧面与所述气道内壁顶端相交。
优选的，所述雾喷管倾斜设置，且倾斜方向朝向所述导流部。
优选的，还包括回收箱，所述回收箱设置在输送带下方，所述回收箱侧面设有第三气源，所述回收箱底部接通有管道，所述管道远离回收箱的一端与集雾室接通。
优选的，所述回收箱内部设有过滤装置。
综上所述，本实用新型具有以下有益效果：集雾室中的雾滴与通入的气体充分混合均匀后由雾喷管喷出，此时通过导流部将气道通入的气体引导成扇形喷出，使得从雾喷管喷出的气雾被扇形气体引导成扇面状喷到匀速输送的覆膜基材表面，实现覆膜基材表面薄膜沉积，成本低，效率高，原料利用率高。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
附图标记为：1、输送带；2、覆膜基材；3、集雾室；4、雾化装置；5、雾喷管；6、导气喷头；7、气道；8、导流部；9、第一气源；10、第二气源；11、回收箱；12、第三气源；13、管道；14、过滤装置。
具体实施方式
在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本实用新型更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本实用新型可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本实用新型发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。
一种液体薄膜沉积设备，如图1，包括覆膜基材2以及用于输送覆膜基材2的输送带1，还包括集雾室3、雾喷管5、导气喷头6，雾喷管5与集雾室3出口接通，集雾室3入口接通有第一气源9，导气喷头6内部设有气道7，气道7进气口接通有第二气源10，导气喷头6底端设有与气道7出气口相贯通的导流部8，导流部8位于雾喷管5出口上方，集雾室3内部设有雾化装置4；
通过雾化装置4将集雾室3中的原料雾化成微米级的液滴颗粒酸雾，雾化装置4优选为超声波振子。
如图1，集雾室3中的雾滴与通入的气体充分混合均匀后由雾喷管5喷出，此时通过导流部8将气道7通入的气体引导成扇形喷出，使得从雾喷管5喷出的气雾被扇形气体引导成扇面状喷到匀速输送的覆膜基材2表面，实现覆膜基材2表面薄膜沉积，成本低，效率高，原料利用率高；
第一气源9向集雾室3通入的气体流量与雾化装置4的雾化效率适配，这样气体与雾滴才能充分混合均匀；
雾喷管5喷出气雾与导流部8喷出气体的流量以及流速适配，使得被引导成扇面状的气雾在满足薄膜沉积质量要求的前提下能够达到最大覆盖面，有利于提升产生效率。
如图1，导流部8横截面为四分之一圆状，且该四份之一圆的弧面与气道7内壁顶端相交，此设置用于将气道7通入的气体引导成扇形喷出，且气体沿着弧面的弧度朝下流动。
如图1，雾喷管5倾斜设置，且倾斜方向朝向导流部8，使得雾喷管5喷出的气雾呈一定角度切入导流部8喷出的扇形气体中，使气雾能够更好的被引导成扇面状喷到匀速输送的覆膜基材2表面。
如图1，还包括回收箱11，回收箱11设置在输送带1下方，回收箱11侧面设有第三气源12，回收箱11底部接通有管道13，管道13远离回收箱11的一端与集雾室3接通，通过第三气源12抽气使得回收箱11内部产生负压，多余的雾气被吸收进回收箱11，雾气凝结成液滴后，通过管道13进入集雾室3内，形成溶液循环使用，起到降本的作用。
如图1，回收箱11内部设有过滤装置14，通过过滤装置14加快雾的凝结速度，并且大部分雾气都被过滤装置14阻挡，凝结掉落在回收箱11内，提高了溶液回收率。
工作原理：通过第一气源9向集雾室3中通入气体，此时集雾室3中的雾滴与通入的气体充分混合均匀后由雾喷管5喷出，此时通过第二气源10向气道7中通入气体，并通过导流部8将气道7通入的气体引导成扇形喷出，使得从雾喷管5喷出的气雾被扇形气体引导成扇面状喷到匀速输送的覆膜基材2表面，实现覆膜基材2表面薄膜沉积，此时通过第三气源12抽气使得回收箱11内部产生负压，多余的雾气被吸收进回收箱11，雾气凝结成液滴后，通过管道13进入集雾室3内，形成溶液循环使用，起到降本的作用，同时通过过滤装置14加快雾的凝结速度，并且大部分雾气都被过滤装置14阻挡，凝结掉落在回收箱11内，提高了溶液回收率，故而该设备成本低，效率高，原料利用率高。
以上结合附图详细描述了本实用新型的优选实施方式，但是，本实用新型并不限于上述实施方式中的具体细节，在本实用新型的技术构思范围内，可以对本实用新型的技术方案进行多种等同变换，这些等同变换均属于本实用新型的保护范围。
Claims (6)
1.一种液体薄膜沉积设备，包括覆膜基材(2)以及用于输送覆膜基材(2)的输送带(1)，其特征在于，还包括集雾室(3)、雾喷管(5)、导气喷头(6)，所述雾喷管(5)与集雾室(3)出口接通，所述集雾室(3)入口接通有第一气源(9)，所述导气喷头(6)内部设有气道(7)，所述气道(7)进气口接通有第二气源(10)，所述导气喷头(6)底端设有与气道(7)出气口相贯通的导流部(8)，所述导流部(8)位于雾喷管(5)出口上方。
2.根据权利要求1所述的一种液体薄膜沉积设备，其特征在于，所述集雾室(3)内部设有雾化装置(4)。
3.根据权利要求1所述的一种液体薄膜沉积设备，其特征在于，所述导流部(8)横截面为四分之一圆状，且该四份之一圆的弧面与所述气道(7)内壁顶端相交。
4.根据权利要求1所述的一种液体薄膜沉积设备，其特征在于，所述雾喷管(5)倾斜设置，且倾斜方向朝向所述导流部(8)。
5.根据权利要求1所述的一种液体薄膜沉积设备，其特征在于，还包括回收箱(11)，所述回收箱(11)设置在输送带(1)下方，所述回收箱(11)侧面设有第三气源(12)，所述回收箱(11)底部接通有管道(13)，所述管道(13)远离回收箱(11)的一端与集雾室(3)接通。
6.根据权利要求5所述的一种液体薄膜沉积设备，其特征在于，所述回收箱(11)内部设有过滤装置(14)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202323216108.8U CN221529967U (zh) | 2023-11-28 | 2023-11-28 | 一种液体薄膜沉积设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202323216108.8U CN221529967U (zh) | 2023-11-28 | 2023-11-28 | 一种液体薄膜沉积设备 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN221529967U true CN221529967U (zh) | 2024-08-13 |
Family
ID=92180989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202323216108.8U Active CN221529967U (zh) | 2023-11-28 | 2023-11-28 | 一种液体薄膜沉积设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN221529967U (zh) |
-
2023
- 2023-11-28 CN CN202323216108.8U patent/CN221529967U/zh active Active
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| GR01 | Patent grant | ||
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