CN221235652U - 薄膜双面镀铜设备 - Google Patents

薄膜双面镀铜设备 Download PDF

Info

Publication number
CN221235652U
CN221235652U CN202323155779.8U CN202323155779U CN221235652U CN 221235652 U CN221235652 U CN 221235652U CN 202323155779 U CN202323155779 U CN 202323155779U CN 221235652 U CN221235652 U CN 221235652U
Authority
CN
China
Prior art keywords
roller
film
shaft sleeve
copper plating
baffle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202323155779.8U
Other languages
English (en)
Inventor
刘国春
张微微
李学法
张国平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jiangyin Nali New Material Technology Co Ltd
Original Assignee
Jiangyin Nali New Material Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiangyin Nali New Material Technology Co Ltd filed Critical Jiangyin Nali New Material Technology Co Ltd
Priority to CN202323155779.8U priority Critical patent/CN221235652U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN221235652U publication Critical patent/CN221235652U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本实用新型属于真空镀膜技术领域,公开了一种薄膜双面镀铜设备,包括真空腔室、中间辊组、靶材以及两个镀膜辊。该中间辊组设置于该真空腔室中,被配置为放卷和收卷受镀薄膜。两个镀膜辊设置于该真空腔室中,并分别设置于该中间辊组的两侧,该镀膜辊包括同轴依次设置的第一辊体和第二辊体,一个受镀薄膜依次绕设于两个镀膜辊的该第一辊体,另一个受镀薄膜依次绕设于两个镀膜辊的该第二辊体,该受镀薄膜分别以相对的两侧面朝向两个镀膜辊。该靶材设置于该真空腔室中,被配置为向两个镀膜辊上绕设的该受镀薄膜溅射镀铜。该薄膜双面镀铜设备能够保证受镀薄膜的镀铜效率,同时能够避免缺陷,提高成品合格率。

Description

薄膜双面镀铜设备
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种薄膜双面镀铜设备。
背景技术
在对于单卷薄膜的双面磁控镀铜加工中,使用的镀铜设备包括真空腔室、辊体和靶材,上述辊体和靶材均设置于真空腔室中。受镀薄膜绕卷在辊体上,靶材间隔设置于辊体侧部,并对绕卷于辊体上的受镀薄膜溅射镀铜。
在磁控镀铜工艺中,靶材对受镀薄膜输入的能量越大,则镀铜效率越高,但是受镀薄膜本身受到伤害的概率也就越大;若减小靶材对受镀薄膜输入的能量,虽然能够防止受镀薄膜本身受到伤害,但是会极大地影响镀膜生产的效率。
靶材对受镀薄膜输入的能量与受镀薄膜的表面积的总和成正比。在现有技术中,辊体为一个整体,对于幅宽为1米以上的受镀薄膜进行磁控镀铜后,由于受镀薄膜的幅宽过大,因此其接收靶材的输入能量就越高,受镀薄膜容易出现表面出孔、膜面变形、波浪纹、鼓筋、起皱或翘边等不良缺陷,影响镀铜加工的合格率。
因此,亟需一种薄膜双面镀铜设备,以解决以上问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种薄膜双面镀铜设备,该薄膜双面镀铜设备能够保证受镀薄膜的镀铜效率,同时能够避免缺陷,提高成品合格率。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
薄膜双面镀铜设备,包括:
真空腔室;
中间辊组,所述中间辊组设置于所述真空腔室中,被配置为放卷和收卷受镀薄膜;
两个镀膜辊,两个所述镀膜辊设置于所述真空腔室中,并分别设置于所述中间辊组的两侧,所述镀膜辊包括同轴依次设置的第一辊体和第二辊体,一个所述受镀薄膜依次绕设于两个所述镀膜辊的所述第一辊体,另一个所述受镀薄膜依次绕设于两个所述镀膜辊的所述第二辊体,所述受镀薄膜分别以相对的两侧面朝向两个所述镀膜辊;
靶材,所述靶材设置于所述真空腔室中,被配置为向两个所述镀膜辊上绕设的所述受镀薄膜溅射镀铜。
作为本实用新型提供的薄膜双面镀铜设备的优选方案,所述薄膜双面镀铜设备还包括挡板组件,两个所述镀膜辊上均设置有所述挡板组件,所述挡板组件包括第一挡板和第二挡板,所述第一挡板环设于所述第一辊体背离所述第二辊体的端部;所述第二挡板环设于所述第二辊体背离所述第一辊体的端部。
作为本实用新型提供的薄膜双面镀铜设备的优选方案,所述挡板组件还包括中间挡件,所述中间挡件环设于所述第一辊体和所述第二辊体彼此相对的一端,部分遮蔽所述第一辊体和所述第二辊体。
作为本实用新型提供的薄膜双面镀铜设备的优选方案,所述中间挡件包括第一中间挡板和第二中间挡板,所述第一中间挡板环设于所述第一辊体的端部,所述第二中间挡板环设于所述第二辊体的端部,所述第一中间挡板和所述第二中间挡板彼此对接。
作为本实用新型提供的薄膜双面镀铜设备的优选方案,所述第一中间挡板和所述第二中间挡板分别可拆卸连接于所述第一辊体和所述第二辊体。
作为本实用新型提供的薄膜双面镀铜设备的优选方案,所述中间辊组包括放卷辊和收卷辊;所述放卷辊和收卷辊沿第一方向间隔布置,所述放卷辊的转轴和所述收卷辊的转轴均与所述镀膜辊的转轴平行,第一方向垂直于所述镀膜辊的转轴方向,所述放卷辊被配置为放卷未镀铜的所述受镀薄膜,所述收卷辊被配置为收卷镀铜后的所述受镀薄膜。
作为本实用新型提供的薄膜双面镀铜设备的优选方案,所述放卷辊包括放卷轴、第一放卷轴套和第二放卷轴套;所述第一放卷轴套和所述第二放卷轴套分别套设于所述放卷轴外,且间隔设置;
所述收卷辊包括收卷轴、第一收卷轴套和第二收卷轴套,所述第一收卷轴套和所述第二收卷轴套分别套设于所述收卷轴外,且间隔设置;
所述第一放卷轴套、所述第一收卷轴套和所述第一辊体对应,一个所述受镀薄膜依次绕设于所述第一放卷轴套、所述第一辊体和所述第一收卷轴套;
所述第二放卷轴套、所述第二收卷轴套和所述第二辊体对应,另一个所述受镀薄膜依次绕设于所述第二放卷轴套、所述第二辊体和所述第二收卷轴套。
作为本实用新型提供的薄膜双面镀铜设备的优选方案,所述中间辊组还包括多个张力辊,所述放卷辊和所述收卷辊之间设置有多个所述张力辊,所述张力辊被配置为抻直所述受镀薄膜。
作为本实用新型提供的薄膜双面镀铜设备的优选方案,所述中间辊组包括多个导向辊和多个展平辊;
所述受镀薄膜绕过所述展平辊后绕置于所述镀膜辊上,所述展平辊能够保证绕卷于所述镀膜辊上的所述受镀薄膜的平整度;
所述受镀薄膜绕出所述镀膜辊后,绕过所述导向辊,所述导向辊能够为绕出所述镀膜辊的所述受镀薄膜提供导向。
作为本实用新型提供的薄膜双面镀铜设备的优选方案,靶材为多个,两个所述镀膜辊相互背离的两侧分别间隔设置有弧形布置的多个所述靶材。
本实用新型的有益效果:
本实施例提供的薄膜双面镀铜设备包括真空腔室、中间辊组、靶材以及两个镀膜辊。该中间辊组、靶材以及两个镀膜辊均设置于真空腔室内部,该真空腔室为受镀薄膜的镀铜工序提供真空环境。两个镀膜辊分别设置于该中间辊组的两侧,中间辊组被配置为放卷和收卷受镀薄膜,以实现受镀薄膜在两个镀膜辊上的滚动,实现连续镀铜。靶材被配置为向两个镀膜辊上绕设的该受镀薄膜溅射镀铜。该镀膜辊包括同轴依次设置的第一辊体和第二辊体,一个受镀薄膜依次绕设于两个镀膜辊的该第一辊体,另一个受镀薄膜依次绕设于两个镀膜辊的该第二辊体,该受镀薄膜分别以相对的两侧面朝向两个镀膜辊。也就是说,通过上述中间辊组和两个镀膜辊的设置方式,能够实现受镀薄膜的连续双面镀铜。同时,上述镀膜辊分为同轴设置的第一辊体和第二辊体,且第一辊体和第二辊体分别绕置受镀薄膜,但是同时转动工作,能够减小受镀薄膜幅宽,在同样的靶材功率的情况下,能够避免缺陷,提高成品合格率,且能够保证受镀薄膜的镀铜效率。
附图说明
图1是本实用新型实施例提供的薄膜双面镀铜设备的主视图;
图2是本实用新型实施例提供的薄膜双面镀铜设备的左视图。
图中:
10、受镀薄膜;
100、真空腔室;
200、中间辊组;210、放卷辊;211、放卷轴;212、第一放卷轴套;213、第二放卷轴套;214、第一中间隔套;220、收卷辊;221、收卷轴;222、第一收卷轴套;223、第二收卷轴套;224、第二中间隔套;230、张力辊;240、导向辊;250、展平辊;
300、镀膜辊;310、第一辊体;320、第二辊体;
400、靶材;
500、挡板组件;510、第一挡板;520、第二挡板;530、中间挡件;531、第一中间挡板;532、第二中间挡板。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型,而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。
在本实用新型的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本实施例的描述中,术语“上”、“下”、“右”、“左”等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述和简化操作,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分,并没有特殊的含义。
图1示出本实用新型实施例提供的薄膜双面镀铜设备的主视图;图2示出本实用新型实施例提供的薄膜双面镀铜设备的左视图。参照图1和图2,本实施例提供了一种薄膜双面镀铜设备。该薄膜双面镀铜设备包括真空腔室100、中间辊组200、靶材400以及两个镀膜辊300。
具体地,该中间辊组200、该靶材400以及两个镀膜辊300均设置于真空腔室100中。该真空腔室100用以为受镀薄膜10的镀铜工序提供真空环境。该中间辊组200设置于两个镀膜辊300之间,被配置为放卷和收卷受镀薄膜10,以实现受镀薄膜10在两个镀膜辊300上的滚动,实现受镀薄膜10的双面连续镀铜。该靶材400被配置为向两个镀膜辊300上绕设的该受镀薄膜10溅射镀铜。
优选地,该靶材400为多个,两个镀膜辊300相互背离的两侧分别间隔设置有弧形布置的多个靶材400,如图1所示。上述设置能够提升受镀薄膜10溅射镀铜的均匀性,有效提升镀膜效率和效果。
再为具体地,参照图2,该镀膜辊300包括同轴依次设置的第一辊体310和第二辊体320。一个受镀薄膜10依次绕设于两个镀膜辊300的该第一辊体310,另一个受镀薄膜10依次绕设于两个镀膜辊300的第二辊体320,该受镀薄膜10分别以相对的两侧面朝向两个镀膜辊300。也就是说,上述第一辊体310和第二辊体320分别绕置受镀薄膜10,同时转动工作,能够减小受镀薄膜10的幅宽,在靶材400的功率相同的情况下,能够避免缺陷,提高成品合格率,同时保证受镀薄膜10的镀铜效率。
继续参照图1和图2,该中间辊组200包括放卷辊210和收卷辊220。该放卷辊210和收卷辊220沿第一方向间隔布置。该放卷辊210的转轴和该收卷辊220的转轴均与该镀膜辊300的转轴平行,第一方向垂直于该镀膜辊300的转轴方向,该放卷辊210被配置为放卷未镀铜的该受镀薄膜10,该收卷辊220被配置为收卷镀铜后的该受镀薄膜10。该收卷辊220和放卷辊210进行配合,以实现受镀薄膜10的连续放卷、连续镀铜和连续收卷。
具体地,该放卷辊210包括放卷轴211、第一放卷轴套212和第二放卷轴套213。该第一放卷轴套212和该第二放卷轴套213分别套设于该放卷轴211外,且间隔设置。在本实施例中,该第一放卷轴套212和该第二放卷轴套213之间设置有第一中间隔套214,用以对第一放卷轴套212和该第二放卷轴套213进行间隔,防止绕设于第一放卷轴套212上的受镀薄膜10和该第二放卷轴套213上的受镀薄膜10之间相互影响。类似地,该收卷辊220包括收卷轴221、第一收卷轴套222和第二收卷轴套223,该第一收卷轴套222和该第二收卷轴套223分别套设于该收卷轴221外,且间隔设置。在本实施例中,该第一收卷轴套222和该第二收卷轴套223之间设置有第二中间隔套224,用以对第一收卷轴套222和该第二收卷轴套223进行间隔,防止绕设于第一收卷轴套222上的受镀薄膜10和该第二收卷轴套223上的受镀薄膜10之间相互影响。该第一放卷轴套212、该第一收卷轴套222和该第一辊体310对应,一个受镀薄膜10依次绕设于该第一放卷轴套212、该第一辊体310和该第一收卷轴套222;该第二放卷轴套213、该第二收卷轴套223和该第二辊体320对应,另一个受镀薄膜10依次绕设于该第二放卷轴套213、该第二辊体320和该第二收卷轴套223。
再为具体地,该中间辊组200还包括多个张力辊230,该放卷辊210和该收卷辊220之间设置有多个张力辊230,该张力辊230被配置为抻直该受镀薄膜10,用以保证受镀薄膜10张紧,从而防止受镀薄膜10出现起皱等缺陷。
更为具体地,该中间辊组200包括多个导向辊240和多个展平辊250。该受镀薄膜10绕过该展平辊250后绕置于该镀膜辊300上,该展平辊250能够保证绕卷于该镀膜辊300上的该受镀薄膜10的平整度。该受镀薄膜10绕出该镀膜辊300后,绕过该导向辊240,该导向辊240能够为绕出该镀膜辊300的该受镀薄膜10提供导向。
可选地,根据该放卷辊210、收卷辊220和两个镀膜辊300的相对布置位置,可以在受镀薄膜10转弯处设置导向辊240或展平辊250,用以保证受镀薄膜10在两个镀膜辊300之间的滚动流畅性,如图1所示。
继续参照图2,该薄膜双面镀铜设备还包括挡板组件500。两个镀膜辊300上均设置有该挡板组件500,该挡板组件500包括第一挡板510和第二挡板520,该第一挡板510环设于该第一辊体310背离该第二辊体320的端部;该第二挡板520环设于该第二辊体320背离该第一辊体310的端部。上述第一挡板510和第二挡板520主要用于对镀膜辊300伸出第一辊体310端部和伸出第二辊体320端部的转轴等部件进行封盖防护,防止靶材400对受镀薄膜10溅射镀铜时的铜离子溅射到转轴等部件上,造成设备损坏。
具体地,配合于第一辊体310和第二辊体320同轴设置的结构,该挡板组件500还包括中间挡件530。该中间挡件530环设于该第一辊体310和该第二辊体320彼此相对的一端,部分遮蔽该第一辊体310和该第二辊体320。该中间挡件530主要用于对第一辊体310和第二辊体320之间间隙中露出的转轴等部件进行封盖防护,防止铜离子溅射造成损坏。
再为具体地,该中间挡件530包括第一中间挡板531和第二中间挡板532,该第一中间挡板531环设于该第一辊体310的端部,该第二中间挡板532环设于该第二辊体320的端部,该第一中间挡板531和该第二中间挡板532彼此对接。通过上述设置,能够便于中间挡件530在镀膜辊300中间位置的安装。
更为具体地,该第一中间挡板531和该第二中间挡板532分别可拆卸连接于该第一辊体310和该第二辊体320。在本实施例中,该第一中间挡板531和第二中间挡板532分别通过螺栓连接于该第一辊体310和该第二辊体320,该第一中间挡板531和第二中间挡板532能够拆卸,以便于维修和清洁。
显然,本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例,而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.薄膜双面镀铜设备,其特征在于,包括:
真空腔室(100);
中间辊组(200),所述中间辊组(200)设置于所述真空腔室(100)中,被配置为放卷和收卷受镀薄膜(10);
两个镀膜辊(300),两个所述镀膜辊(300)设置于所述真空腔室(100)中,并分别设置于所述中间辊组(200)的两侧,所述镀膜辊(300)包括同轴依次设置的第一辊体(310)和第二辊体(320),一个所述受镀薄膜(10)依次绕设于两个所述镀膜辊(300)的所述第一辊体(310),另一个所述受镀薄膜(10)依次绕设于两个所述镀膜辊(300)的所述第二辊体(320),所述受镀薄膜(10)分别以相对的两侧面朝向两个所述镀膜辊(300);
靶材(400),所述靶材(400)设置于所述真空腔室(100)中,被配置为向两个所述镀膜辊(300)上绕设的所述受镀薄膜(10)溅射镀铜。
2.根据权利要求1所述的薄膜双面镀铜设备,其特征在于,所述薄膜双面镀铜设备还包括挡板组件(500),两个所述镀膜辊(300)上均设置有所述挡板组件(500),所述挡板组件(500)包括第一挡板(510)和第二挡板(520),所述第一挡板(510)环设于所述第一辊体(310)背离所述第二辊体(320)的端部;所述第二挡板(520)环设于所述第二辊体(320)背离所述第一辊体(310)的端部。
3.根据权利要求2所述的薄膜双面镀铜设备,其特征在于,所述挡板组件(500)还包括中间挡件(530),所述中间挡件(530)环设于所述第一辊体(310)和所述第二辊体(320)彼此相对的一端,部分遮蔽所述第一辊体(310)和所述第二辊体(320)。
4.根据权利要求3所述的薄膜双面镀铜设备,其特征在于,所述中间挡件(530)包括第一中间挡板(531)和第二中间挡板(532),所述第一中间挡板(531)环设于所述第一辊体(310)的端部,所述第二中间挡板(532)环设于所述第二辊体(320)的端部,所述第一中间挡板(531)和所述第二中间挡板(532)彼此对接。
5.根据权利要求4所述的薄膜双面镀铜设备,其特征在于,所述第一中间挡板(531)和所述第二中间挡板(532)分别可拆卸连接于所述第一辊体(310)和所述第二辊体(320)。
6.根据权利要求1所述的薄膜双面镀铜设备,其特征在于,所述中间辊组(200)包括放卷辊(210)和收卷辊(220);所述放卷辊(210)和所述收卷辊(220)沿第一方向间隔布置,所述放卷辊(210)的转轴和所述收卷辊(220)的转轴均与所述镀膜辊(300)的转轴平行,第一方向垂直于所述镀膜辊(300)的转轴方向,所述放卷辊(210)被配置为放卷未镀铜的所述受镀薄膜(10),所述收卷辊(220)被配置为收卷镀铜后的所述受镀薄膜(10)。
7.根据权利要求6所述的薄膜双面镀铜设备,其特征在于,所述放卷辊(210)包括放卷轴(211)、第一放卷轴套(212)和第二放卷轴套(213);所述第一放卷轴套(212)和所述第二放卷轴套(213)分别套设于所述放卷轴(211)外,且间隔设置;
所述收卷辊(220)包括收卷轴(221)、第一收卷轴套(222)和第二收卷轴套(223),所述第一收卷轴套(222)和所述第二收卷轴套(223)分别套设于所述收卷轴(221)外,且间隔设置;
所述第一放卷轴套(212)、所述第一收卷轴套(222)和所述第一辊体(310)对应,一个所述受镀薄膜(10)依次绕设于所述第一放卷轴套(212)、所述第一辊体(310)和所述第一收卷轴套(222);
所述第二放卷轴套(213)、所述第二收卷轴套(223)和所述第二辊体(320)对应,另一个所述受镀薄膜(10)依次绕设于所述第二放卷轴套(213)、所述第二辊体(320)和所述第二收卷轴套(223)。
8.根据权利要求6所述的薄膜双面镀铜设备,其特征在于,所述中间辊组(200)还包括多个张力辊(230),所述放卷辊(210)和所述收卷辊(220)之间设置有多个所述张力辊(230),所述张力辊(230)被配置为抻直所述受镀薄膜(10)。
9.根据权利要求1所述的薄膜双面镀铜设备,其特征在于,所述中间辊组(200)包括多个导向辊(240)和多个展平辊(250);
所述受镀薄膜(10)绕过所述展平辊(250)后绕置于所述镀膜辊(300)上,所述展平辊(250)能够保证绕卷于所述镀膜辊(300)上的所述受镀薄膜(10)的平整度;
所述受镀薄膜(10)绕出所述镀膜辊(300)后,绕过所述导向辊(240),所述导向辊(240)能够为绕出所述镀膜辊(300)的所述受镀薄膜(10)提供导向。
10.根据权利要求1所述的薄膜双面镀铜设备,其特征在于,靶材(400)为多个,两个所述镀膜辊(300)相互背离的两侧分别间隔设置有弧形布置的多个所述靶材(400)。
CN202323155779.8U 2023-11-22 2023-11-22 薄膜双面镀铜设备 Active CN221235652U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202323155779.8U CN221235652U (zh) 2023-11-22 2023-11-22 薄膜双面镀铜设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202323155779.8U CN221235652U (zh) 2023-11-22 2023-11-22 薄膜双面镀铜设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN221235652U true CN221235652U (zh) 2024-06-28

Family

ID=91598406

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202323155779.8U Active CN221235652U (zh) 2023-11-22 2023-11-22 薄膜双面镀铜设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN221235652U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2017199523A1 (ja) しわ発生防止装置付ロールプレス機とロールプレス方法
EP2176442B1 (de) Vakuumbehandlung von bandförmigen substraten
CN100497728C (zh) 一种在柔性基材上沉积磁性薄膜的方法
JP5109301B2 (ja) 成膜装置および成膜方法
CN110983285A (zh) 可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备
CN221235652U (zh) 薄膜双面镀铜设备
CN209697741U (zh) 一种极耳抚平结构及卷绕设备
CN215354799U (zh) 复合功能复卷机
CN211719713U (zh) 用于全极耳电池极片的辊压装置
CN215050645U (zh) 一种采用大功率电子束蒸镀的双面卷绕镀膜机
CN203691734U (zh) 真空等离子体表面处理设备
CN211142163U (zh) 可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备
CN114103386B (zh) 锂带压延设备、锂铜双面复合设备及锂铜双面复合方法
CN216998566U (zh) 一种真空镀膜设备
CN113265623A (zh) 一种采用大功率电子束蒸镀的双面卷绕镀膜机
CN211142158U (zh) 一种真空悬浮镀膜机收卷轮的固定装置
CN218291093U (zh) 一种双面多工位卷绕式真空镀膜机
CN209368352U (zh) 一种真空镀膜机卷绕机
CN111607777A (zh) 一种隧道式不锈钢装饰卷板的连续卷绕真空镀膜生产装置
CN216663226U (zh) 双面镀膜装置
CN218345540U (zh) 一种基于柔性基材双面镀膜卷绕装置及卷绕镀膜设备
CN218089774U (zh) 一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜机
CN219468138U (zh) 包膜机构及电池生产线
CN218909478U (zh) 一种量子点复合液晶膜加工用放卷装置
US20230406663A1 (en) Roll exchange chamber, roll-to-roll processing system and method of continuously providing a flexible substrate

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant