CN203691734U - 真空等离子体表面处理设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型适用于等离子处理技术领域，提供了一种真空等离子体表面处理设备，用于处理卷绕材料，所述处理设备具有壳体，所述壳体内具有真空腔室，所述真空腔室内容置有放料轴、收料轴及若干导向轴，所述放料轴和收料轴分别由两个伺服电机驱动，所述真空腔室内还设有导向装置、纠偏感应器以及由正负电极板构成的若干等离子区域。实际应用时，卷绕材料绕过所述导向装置上的两个导辊并通过所述纠偏感应器最后收于所述收料轴。本实用新型操作简单、节约成本、生产率高且能在真空环境下直接对所有需要进行等离子体表面处理。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子处理技术领域，尤其涉及一种真空等离子体表面处理设备。
背景技术
等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面活化、改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。在现有的真空等离子处理设备当中，大多数只能处理单片材料。对于卷性材料，更多的必须加工成单片后才能利用现有的等离子处理设备进行处理。这不仅使得加工过程复杂，加工工序繁琐，生产效率低下，而且也大大地增加了生产成本。也有的利用常压等离子设备进行处理，但其处理效果和杂乱气体对材料的影响又不能很好解决。当前在大气压环境下对卷材进行收放卷、纠偏、张力控制等技术已经很成熟，但在真空环境下对卷材的等离子表面处理还尚未有大的发展与进步。
综上可知，现有的等离子处理设备，在实际使用上显然存在不便与缺陷，所以有必要加以改进。
实用新型内容
针对上述的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种真空等离子体表面处理设备，操作简单、节约成本、生产率高且能在真空环境下直接对所有需要进行等离子体表面处理。
为了实现上述目的，本实用新型提供一种真空等离子体表面处理设备，用于处理卷绕材料，所述处理设备具有壳体，所述壳体内具有真空腔室，所述真空腔室内容置有放料轴、收料轴及若干导向轴，所述放料轴和收料轴分别由两个伺服电机驱动，所述真空腔室内还设有导向装置、纠偏感应器以及由正负电极板构成的若干等离子区域。
根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述纠偏感应器呈U型，所述卷绕材料的端面与所述纠偏感应器的U型中间部位保持接触。
根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述等离子区域的四周及前部设置有金属挡板，所述金属挡板将所述等离子区域与外围的真空腔室空间完全隔离。
根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述电极板中的正极板与外围的等离子体发生电源正极相连接，所述电极板中的负极板外围的等离子体发生电源负极相连接。
根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述放料轴和收料轴分别通过磁粉离合器连接到真空腔室外部带刹车的驱动电机上。
根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，处于所述等离子区域内的卷绕材料均与所述正负电极板保持平行。
本实用新型通过在真空腔室内容置放料轴、收料轴及若干导向轴，实现对卷绕材料的传送，所述放料轴和收料轴分别由两个伺服电机驱动，所述真空腔室内还设有导向装置、纠偏感应器以及由正负电极板构成的若干等离子区域。实际应用时，卷绕材料绕过所述导向装置上的两个导辊并通过所述纠偏感应器最后收于所述收料轴。本实用新型操作简单、节约成本、生产率高且能在真空环境下直接对所有需要进行等离子体表面处理。
附图说明
图1是本实用新型一实施例的真空等离子体表面处理设备结构示意图；
图2是本实用新型另一实施例的真空等离子体表面处理设备结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
参见图1和图2，本实用新型提供了一种真空等离子体表面处理设备，其用于对卷绕材料的表面处理。
具体的，该处理设备包括壳体1，所述壳体1内部具有真空腔室2，所述真空腔室2内设置有放料轴4、收料轴5及若干导向轴3，导向轴3用于规划卷绕材料的走线位置，确保卷绕材料从相邻两片极板中间通过并与极板保持平行。所述放料轴4和收料轴5分别由两个伺服电机驱动。在所述真空腔室2内还设置有由正负电极板8构成的若干等离子区域10，进行表面处理时，卷绕材料从所述等离子区域10中穿过。
优选的是，所述真空腔室2内还设置有纠偏装置，所述纠偏装置包括导向装置6及纠偏感应器7，卷绕材料绕过所述导向装置6上的两个导辊并通过所述纠偏感应器7最后收于所述收料轴5。纠偏感应器7用于检查卷绕材料位置与设定值的偏差，并通过所述导向装置6来调整卷绕材料到合适位置。本实用新型的等离子处理设备的纠偏精度偏差为±1mm。
具体应用中，所述纠偏感应器7呈U型，卷绕材料的端面与所述纠偏感应器7的U型中间保持接触。另外，在所述等离子区域10的四周及前部设置有金属挡板9，所述金属挡板9把所述等离子区域10与外围的真空腔室空间完全隔离。
本实施例中，电极板8中的正极板与外围的等离子体发生电源正极相连接，所述电极板8中的负极板与外围的等离子体发生电源负极相连接。且优选的，所述放料轴4和收料轴5分别通过磁粉离合器连接到腔体外部带刹车的驱动电机上。所述等离子区域(10)两侧的电极板(8)分别为正负极板，处于所述等离子区域10内的卷绕材料均与所述正电极板及负电极板保持平行。
本实用新型的具体应用中，所述具有纠偏功能的处理卷性材料的等离子处理设备可处理的卷性材料的宽度最大为500mm。再结合图1，图中的粗线为卷绕材料的走料路线。卷绕材料从放料轴4开始，在导向轴3的导向下，经过几个等离子处理区域10到达纠偏导向装置6，然后再经过纠偏感应器7，到达收料轴5。
等离子体处理区域10位于真空腔体一侧紧贴腔体壁放置，以最大程度的节省空间。极板一般成对安装，本实施例中有四片电极板8，构成三个等离子处理区域。在实际应用中，可加装更多极板来加长处理区域。
等离子体处理区域10外除后部和靠近真空腔体2内壁的一侧外，均有金属屏蔽罩，以阻断等离子体逸出到收放卷区域，进而影响收放卷结构的使用寿命。加装此结构后，可使收放卷导辊、纠偏结构和支撑导辊的寿命达到与常压使用时一致。
放料轴4和收料轴5固定在真空腔体2的后壁上，通过磁粉离合器与腔体外后部的驱动电机相连，驱动电机带有刹车装置，用于实现导辊旋转的快速启停。
在距离放料轴4和收料轴5最近的两条辅助导辊上，安装有张力控制器，用以调整卷绕材料缠绕的力度，保证材料不会拉伤或拖坠，进而保护材料。
本设备将现有的自动放卷、纠偏、自动收卷设备改进后应用于真空环境，使真空等离子体表面处理设备具备了这一功能，从而使卷绕材料不用再进行切割、摆放、换料等步骤，而直接进行处理，大大简化了生产工序；同时，自动纠偏绕卷功能使材料不用经过人工卷料和取放操作，避免了二次污染，极大提高了生产效率和使用效果。
另外由于等离子体处理区有金属挡板隔离，将卷绕材料走料系统与等离子体处理区域完全隔离，从而避免了等离子体对走料、纠偏和收放卷系统的侵蚀作用，增强了这些设备的使用寿命。
综上所述，本实用新型通过在真空腔室内容置放料轴、收料轴及若干导向轴，实现对卷绕材料的传送，所述放料轴和收料轴分别由两个伺服电机驱动，所述真空腔室内还设有导向装置、纠偏感应器以及由正负电极板构成的若干等离子区域。实际应用时，卷绕材料绕过所述导向装置上的两个导辊并通过所述纠偏感应器最后收于所述收料轴。本实用新型操作简单、节约成本、生产率高且能在真空环境下直接对所有需要进行等离子体表面处理。
当然，本实用新型还可有其它多种实施例，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。
Claims (6)
1.一种真空等离子体表面处理设备，用于处理卷绕材料，其特征在于，所述处理设备具有壳体，所述壳体内具有真空腔室，所述真空腔室内容置有放料轴、收料轴及若干导向轴，所述放料轴和收料轴分别由两个伺服电机驱动，所述真空腔室内还设有导向装置、纠偏感应器以及由正负电极板构成的若干等离子区域。
2.根据权利要求1所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述纠偏感应器呈U型，所述卷绕材料的端面与所述纠偏感应器的U型中间部位保持接触。
3.根据权利要求2所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述等离子区域的四周及前部设置有金属挡板，所述金属挡板将所述等离子区域与外围的真空腔室空间完全隔离。
4.根据权利要求1所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述电极板中的正极板与外围的等离子体发生电源正极相连接，所述电极板中的负极板与外围的等离子体发生电源负极相连接。
5.根据权利要求1所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述放料轴和收料轴分别通过磁粉离合器连接到真空腔室外部带刹车的驱动电机上。
6.根据权利要求1所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，处于所述等离子区域内的卷绕材料均与所述正负电极板保持平行。
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| CN108655115A (zh) * | 2018-06-01 | 2018-10-16 | 江阴瑞兴科技有限公司 | 一种连续进出料式等离子清洗设备 |
| CN110012583A (zh) * | 2019-05-21 | 2019-07-12 | 江苏长沐智能装备有限公司 | 水平线式等离子体表面处理机 |
| CN110733922A (zh) * | 2019-10-05 | 2020-01-31 | 杨建霞 | 具有纠偏功能的金属卷性材料等离子处理设备 |
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