CN221133368U - 化学清洗槽的酸性药水补充机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及清洗设备技术领域，具体为一种化学清洗槽的酸性药水补充机构，包括储液槽，储液槽的顶部连接有输送管，储液槽的一侧安装有高度调节组件，高度调节组件的一侧安装有升降板，升降板的底部安装有喷液组件，喷液组件位于清洗槽的上部，喷液组件包括T形架，T形架的下部内侧安装有喷洒板，T形架的上部内侧竖向安装有竖管，竖管的底端与喷洒板连接。该化学清洗槽的酸性药水补充机构中，喷液组件能够将药水均匀喷出至清洗槽的上部，保证药水均匀分布在清洗槽内，且通过高度调节组件能够调节喷液组件的高度，能够保证其随着液面的升高而升高，使得喷出药水的高度于液位始终保持一致，从而避免药水产生溅射造成安全问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及清洗设备技术领域，具体地说，涉及一种化学清洗槽的酸性药水补充机构。
背景技术
在半导体制程中，必须定期或不定期地对半导体制程设备的零件进行清洗及再生，以维持半导体制程设备的效能，并可延长设备的使用寿命，清洗的方式有化学清洗、物理清洗等。
在进行化学清洗时，一般需要向化学清洗槽内进行酸性药水的补充，现有的补充方式为人工补充，人工通过水管向化学清洗槽内倒入药水，靠近药水倒入处的药水浓度较高，远离药水倒入处的药水浓度较低，导致清洗槽内药水分布不均匀，且倒入药水时容易产生溅射，从而造成一定的安全问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种化学清洗槽的酸性药水补充机构，以解决上述背景技术中提出的靠近药水倒入处的药水浓度较高，远离药水倒入处的药水浓度较低，导致清洗槽内药水分布不均匀，且倒入药水时容易产生溅射，从而造成一定的安全问题的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供了一种化学清洗槽的酸性药水补充机构，包括储液槽，所述储液槽的顶部连接有输送管，所述储液槽的一侧安装有高度调节组件，所述高度调节组件的一侧安装有升降板，所述升降板的底部安装有喷液组件，所述喷液组件位于清洗槽的上部，所述喷液组件包括T形架，所述T形架的下部内侧安装有喷洒板，所述T形架的上部内侧竖向安装有竖管，所述竖管的底端与喷洒板连接，所述竖管的顶端贯穿升降板且与输送管的一端连接。
作为优选，所述升降板的顶部安装有支架，所述支架的顶部开设有圆孔，所述输送管穿过圆孔。
作为优选，所述喷洒板的底部表面均匀开设有若干喷口。
作为优选，所述高度调节组件包括外筒，所述外筒的内部竖向安装有丝杆，所述丝杆上安装有丝杆滑块，所述外筒的一侧设置有升降口，所述丝杆能够转动带动丝杆滑块升降，所述丝杆滑块的一侧与升降板连接，所述升降板的一端能够沿着升降口进行升降。
作为优选，所述丝杆的一端通过电机驱动进行转动，所述丝杆滑块上开设有螺纹孔，所述丝杆与丝杆滑块螺纹连接。
作为优选，所述T形架的底部水平结构宽度与清洗槽的内部宽度相适配，所述T形架的外表面涂覆有耐腐蚀涂层。
作为优选，所述外筒的底端一侧与储液槽的一侧外壁焊接固定。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果：
该化学清洗槽的酸性药水补充机构中，通过其中设置的喷液组件能够将药水均匀喷出至清洗槽的上部，保证药水均匀分布在清洗槽内，且通过高度调节组件能够调节喷液组件的高度，能够保证其随着液面的升高而升高，使得喷出药水的高度于液位始终保持一致，从而避免药水产生溅射造成安全问题。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图；
图2为本实用新型中高度调节组件的结构示意图；
图3为本实用新型中喷液组件的结构示意图。
图中各个标号意义为：
1、清洗槽；2、储液槽；3、高度调节组件；31、外筒；311、升降口；32、丝杆；33、丝杆滑块；34、电机；4、升降板；41、支架；5、喷液组件；51、T形架；52、喷洒板；521、喷口；53、竖管；6、输送管。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供一种化学清洗槽的酸性药水补充机构，如图1-图3所示，包括储液槽2，储液槽2的顶部连接有输送管6，储液槽2的一侧安装有高度调节组件3，高度调节组件3的一侧安装有升降板4，升降板4的底部安装有喷液组件5，喷液组件5位于清洗槽1的上部，喷液组件5包括T形架51，T形架51的下部内侧安装有喷洒板52，T形架51的上部内侧竖向安装有竖管53，竖管53的底端与喷洒板52连接，竖管53的顶端贯穿升降板4且与输送管6的一端连接，通过喷洒板52进行药水的喷洒，将药水均匀洒至清洗槽1内。
本实施例中，升降板4的顶部安装有支架41，支架41的顶部开设有圆孔，输送管6穿过圆孔，便于输送管6的支撑。
具体的，喷洒板52的底部表面均匀开设有若干喷口521，便于药水向外均匀喷出。
进一步的，高度调节组件3包括外筒31，外筒31的内部竖向安装有丝杆32，丝杆32上安装有丝杆滑块33，外筒31的一侧设置有升降口311，丝杆32能够转动带动丝杆滑块33升降，丝杆滑块33的一侧与升降板4连接，升降板4的一端能够沿着升降口311进行升降，使得喷液组件5能够进行升降，在补充药水时，始终控制喷液组件5位于液位上部1cm左右，保证喷液组件5不会沾染药水，也能够避免药水下落造成溅射。
进一步的，丝杆32的一端通过电机34驱动进行转动，丝杆滑块33上开设有螺纹孔，丝杆32与丝杆滑块33螺纹连接，通过丝杆32能够带动丝杆滑块33稳定移动。
进一步的，T形架51的底部水平结构宽度与清洗槽1的内部宽度相适配，T形架51的外表面涂覆有耐腐蚀涂层，能够起到很好的耐腐蚀效果，避免长期使用T形架51受到腐蚀。
进一步的，外筒31的底端一侧与储液槽2的一侧外壁焊接固定，保证高度调节组件3的竖向固定。
本实用新型的化学清洗槽的酸性药水补充机构在使用时，首先将该装置稳定放置，接着将输送管6的一端对准储液槽2内，输送管6上安装抽液泵，通过抽液泵将药水输送至喷液组件5，并通过喷洒板52进行药水的喷洒，将药水均匀洒至清洗槽1内，在喷洒时，随着清洗槽1内液位的上升，通过高度调节组件3控制喷液组件5位于液位上部1cm左右，保证喷液组件5不会沾染药水，也能够避免药水下落造成溅射，高度调节组件3的控制方式为电机34工作带动丝杆32转动，通过丝杆32能够带动丝杆滑块33稳定升降，进而实现升降板4的升降，即可带动喷液组件5的升降。
最后，需要说明的是，本实施例中的电机34中的电子元器件均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件，其结构和原理都为本领域技术人员可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知，在本装置空闲处，将上述中所有电器件分别通过导线进行连接，具体连接手段应参考上述工作原理中各电器件之间先后工作顺序完成电性连接，其均为本领域公知技术。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本实用新型的优选例，并不用来限制本实用新型，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (7)
1.化学清洗槽的酸性药水补充机构，包括储液槽(2)，其特征在于：所述储液槽(2)的顶部连接有输送管(6)，所述储液槽(2)的一侧安装有高度调节组件(3)，所述高度调节组件(3)的一侧安装有升降板(4)，所述升降板(4)的底部安装有喷液组件(5)，所述喷液组件(5)位于清洗槽(1)的上部，所述喷液组件(5)包括T形架(51)，所述T形架(51)的下部内侧安装有喷洒板(52)，所述T形架(51)的上部内侧竖向安装有竖管(53)，所述竖管(53)的底端与喷洒板(52)连接，所述竖管(53)的顶端贯穿升降板(4)且与输送管(6)的一端连接。
2.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述升降板(4)的顶部安装有支架(41)，所述支架(41)的顶部开设有圆孔，所述输送管(6)穿过圆孔。
3.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述喷洒板(52)的底部表面均匀开设有若干喷口(521)。
4.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述高度调节组件(3)包括外筒(31)，所述外筒(31)的内部竖向安装有丝杆(32)，所述丝杆(32)上安装有丝杆滑块(33)，所述外筒(31)的一侧设置有升降口(311)，所述丝杆(32)能够转动带动丝杆滑块(33)升降，所述丝杆滑块(33)的一侧与升降板(4)连接，所述升降板(4)的一端能够沿着升降口(311)进行升降。
5.根据权利要求4所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述丝杆(32)的一端通过电机(34)驱动进行转动，所述丝杆滑块(33)上开设有螺纹孔，所述丝杆(32)与丝杆滑块(33)螺纹连接。
6.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述T形架(51)的底部水平结构宽度与清洗槽(1)的内部宽度相适配，所述T形架(51)的外表面涂覆有耐腐蚀涂层。
7.根据权利要求4所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述外筒(31)的底端一侧与储液槽(2)的一侧外壁焊接固定。
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