CN221086220U - 烘箱、涂布设备及电池生产系统 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种烘箱、涂布设备及电池生产系统。烘箱包括沿烘箱的高度方向相邻布置的两层烘腔，各层烘腔包括第一烘区、第二烘区和第一走带组件，第一烘区和第二烘区沿烘箱的纵长方向相邻布置。第一走带组件设于第一烘区，且沿第一走带路径布置，第一走带路径在平行高度方向的平面内的正投影从第一烘区在纵向方向上一端朝向另一端曲折延伸。其中，相邻两层烘腔中，任一者的第二烘区与另一者的第一烘区在高度方向上相邻布置，且两者的第一烘区在高度方向上相错开并且在纵长方向上相邻接。本申请的技术方案，能够减小烘干装置的占地面积。

Description

烘箱、涂布设备及电池生产系统

技术领域

本申请涉及电池技术领域，特别是涉及一种烘箱、涂布设备及电池生产系统。

背景技术

节能减排是汽车产业可持续发展的关键，电动车辆由于其节能环保的优势成为汽车产业可持续发展的重要组成部分。对于电动车辆而言，电池技术又是关乎其发展的一项重要因素。

极片是电池的核心部件。极片在生产时，需要将活性物质浆料涂布在卷料基材上，并利用烘箱对涂布有浆料的料带基材进行干燥处理。传统的烘箱为了防止涂布层开裂，通常会提供较长的烘干路线，导致烘箱占地面积较大。

发明内容

鉴于上述问题，本申请提供一种烘箱、涂布设备及电池生产系统，能够减小烘干装置的占地面积。

第一方面，本申请提供了一种烘箱，包括沿烘箱的高度方向相邻布置的至少两层烘腔，各层烘腔包括第一烘区、第二烘区和第一走带组件，第一烘区和第二烘区沿烘箱的纵长方向相邻布置。第一走带组件设于第一烘区，且沿第一走带路径布置，第一走带路径在平行高度方向的平面内的正投影从第一烘区在纵向方向上一端朝向另一端曲折延伸。其中，相邻两层烘腔中，任一者的第二烘区与另一者的第一烘区在高度方向上相邻布置，且两者的第一烘区在高度方向上相错开并且在纵长方向上相邻接。

本申请实施例的技术方案中，两层烘腔上下布置，在相同长度的烘干路线下，大大缩短了烘箱的纵向长度，降低烘箱的占地面积。其次，在第一烘区内设置平行高度方向的平面内曲折延伸的第一走带组件，提高了第一烘区的烘干路线，在相同长度的烘干路线下，可进一步缩短烘箱的纵向长度。再次，两层烘腔嵌合式连接烘箱结构不仅紧凑。与传统的水平布置的烘干装置相比，在相同长度的烘干路线下，上述烘箱可大大降低占地面积。

在一些实施例中，在烘箱的高度方向上，同一烘腔中，第一烘区的尺寸大于第二烘区的尺寸。此时，第一烘区提供了较高的走带空间，有利于提高烘箱在高度方向上的空间利用率，并提高第一走带组件在高度方向上的走带路径。

在一些实施例中，第一走带路径具有至少一个波峰部和至少一个波谷部，波峰部和波谷部在纵长方向上相间设置，且相邻波峰部和波谷部之间沿高度方向交错设置。此时，第一走带组件沿在高度方向上往复设置的第一走带路径布置，在烘箱有限的空间内，能够形成较长的烘干路线，有利于提高烘干装置的烘干路线，提高烘干装置的烘干效率和烘干效果。

在一些实施例中，第一走带路径包括多个第一路径段和至少一个第二路径段，多个第一路径段在纵长方向上相邻布置，且各第一路径段沿高度方向延伸设置。第二路径段设置于相邻两个第一路径段之间。此时，第一走带路径大致沿高度方向和纵长方向做方形波状延伸，第一走带路径的延伸长度较长，有助于提高烘箱的烘干路线。

在一些实施例中，烘箱还包括第二走带组件，第二走带组件设于第二烘区内，第二走带组件沿第二走带路径布置，第二走带路径从所在第二烘区在纵长方向上的一端朝向另一端呈直线状延伸。此时，第二走带组件沿第二走带路径大致呈直线状延伸，可适应第二烘区的尺寸要求，同时简化第二烘区的内部构造。

在一些实施例中，各烘腔包括入口和出口，入口和出口在烘箱的纵长方向上相对设置。相邻两层烘腔中，任一者的入口与另一者的出口位于烘箱的相同一侧。如此，料带可以于烘箱的相同一侧从其中一层烘腔转入相邻的另一层烘腔，料带转运更加方便和简单，可实现同一料带在不同层烘腔之间的转运，延长料带的烘干路线，提高料带的烘干效率。

在一些实施例中，第一烘区与出口连通，第二烘区与入口连通。此时，在一些情况下，料带可以先在第二烘区内的第二走带组件的引导下水平走带，水平走带时，可以降低料带上的涂布层在重力作用下掉落/偏移/厚度不同等风险，利用第二烘区可以对料带的涂布层进行初步干燥，有助于+提高料带的厚度均匀性。

在一些实施例中，烘箱还包括烘干组件，各烘腔内设置有烘干组件和走带组件和走带组件，走带组件包括第一走带组件，在相交于走带组件的走带路径的方向上，同一烘腔内的烘干组件与走带组件相对布置。此时，同一烘腔内，烘干组件与走带组件沿第一方向相对布置，烘干组件正对走带于走带组件上的料带，烘干组件对料带的烘干效果较好效果。

在一些实施例中，相邻两层烘腔中，其中一者的烘干组件被配置为朝向位于对应走带路径的料带的正面布置，另一者的烘干组件被配置为朝向位于对应走带路径的料带的反面布置。如此，烘箱可以实现料带的双面烘干，使得烘箱适应双面涂布的涂布设备。

在一些实施例中，走带组件包括多个过辊，多个过辊沿走带组件的走带路径间隔布置。此时，通过过辊形成走带组件，走带组件结构简单，且通过过辊可以张紧料带，利于料带的输送。

在一些实施例中，烘干组件包括送风腔体和风嘴，风嘴设置于送风腔体，且朝向走带组件开口。此时，烘干组件利用送风腔体与风嘴配合，利用风嘴对送风腔体内的空气进行分流，烘干组件的烘干范围较大，能效利用高。

在一些实施例中，烘箱包括进风室和多个分流风管，各分流风管的一端均连通进风室的出口，另一端连通至少一个送风腔体。此时，可利用同一风源同时对多个送风腔体实现送风，可较小风源的数量，降低成本。

在一些实施例中，烘箱还包括回风室，回风室连通各层烘腔，回风室和进风室分别位于烘箱在宽度方向上的相反两侧。此时，回风室和进风室设置烘箱的相反两侧，可以均化烘箱宽度方向上的结构分布，结构布置更加合理。

在一些实施例中，各烘腔彼此独立。如此，在一些情形下，可降低两层烘腔环境的相互干扰，提高烘箱可适应的场景。

在一些实施例中，相邻两层烘腔中，位于下方的所述烘腔的所述第一烘区包括凸出部，所述凸出部相对于所述第二烘区背离位于上方的所述烘腔凸出设置。如此，可进一步降低烘箱的占地面积。同时，凸出部的设置还可以增加第一烘区的空间，提高第一走带组件的走带路径，进而延长烘箱的烘干路线。

第二方面，本申请提供了一种涂布设备，包括涂布装置和上述烘箱。

在一些实施例中，涂布装置包括正面涂布装置和反面涂布装置，两者位于烘箱在纵长方向的相背两侧。各烘腔包括入口和出口，入口和出口在烘箱的纵长方向上相对设置。相邻两层烘腔中，任一者的入口与另一者的出口位于烘箱的相同一侧，位于烘箱相同侧的正面涂布装置和入口，正面涂布装置用于向进入入口的料带的正面执行涂布操作；位于烘箱相同侧的反面涂布装置和出口，反面涂布装置用于向退出出口的料带的反面执行涂布操作。

此时，涂布设备可以对料带的正面和反面均涂布，可实现料带的双面涂布。而且，料带的正面和反面涂布分步进行，可以在正面浆料烘干完全后涂布反面浆料，并对反面浆料完全烘干，有助于提高料带的烘干效果。

第三方面，本申请提供了一种电池生产系统，其包括上述涂布设备。

上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本申请的具体实施方式。

附图说明

通过阅读对下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本申请的限制。而且在全部附图中，用相同的附图标号表示相同的部件。在附图中：

图1为一个或多个实施例的烘干装置的内部结构示意图。

图2为图1所述的烘干装置的应用示意图。

图3为示出了第一方向与走带方向的位置示意图一。

图4为示出了第一方向与走带方向的位置示意图二。

图5为图1所示的烘装置的另一应用场景图。

图6为图1所示的烘干装置在右视方位下的外形示意图。

图7为一个或多个实施例的涂布设备的结构示意图。

具体实施方式中的附图标号如下：

1000、涂布设备；100、烘箱；Z、高度方向；X、纵长方向；Y、第一方向；F、走带方向；G、第一方向；10、烘腔；11、上烘腔；12、下烘腔；T、凸出部；K、避让空间；I、入口；O、出口；10a、第一烘区；10b、第二烘区；12、走带组件；12a、第一走带组件；B1、波峰部；B2、波谷部；a1、第一走带路径；a11、第一路径段；a12、第二路径段；12b、第二走带组件；b1、第二走带路径；12A、过辊；13、烘干组件；13a、送风腔体；13b、风嘴；14、进风室；15、分流风管；16、回风室；16a、回风口；17、排风机；18、循环风机；19、换热器；200、涂布装置；210、正面涂布装置；220、反面涂布装置；L、料带；L1、正面；L2、反面；300、收卷机构；400、放卷机构。

具体实施方式

下面将结合附图对本申请技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本申请的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本申请的保护范围。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同；本文中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。

在本申请实施例的描述中，若有出现技术术语“第一”“第二”等仅用于区别不同对象，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量、特定顺序或主次关系。在本申请实施例的描述中，“多个”的含义是两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

在本申请实施例的描述中，若有出现术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，若有出现，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

在本申请实施例的描述中，若有出现，术语“多个”指的是两个以上(包括两个)，同理，“多组”指的是两组以上(包括两组)，“多片”指的是两片以上(包括两片)。

在本申请实施例的描述中，若有出现，技术术语“中心”“纵向”“横向”“长度”“宽度”“厚度”“上”“下”“前”“后”“左”“右”“竖直”“水平”“顶”“底”“内”“外”“顺时针”“逆时针”“轴向”“径向”“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请实施例的限制。

在本申请实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，若有出现，技术术语“安装”“相连”“连接”“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；也可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请实施例中的具体含义。

电芯是组成电池的最小单元，而极片是形成电芯的核心部件。通过极片与隔离件卷绕/层叠形成电极组件，电极组件容置在壳体内，并向壳体内注入电解液可得到电芯。极片通常包括基材和涂覆在基材双面的活性物质。基材需要具备导电集流功能。活性物质参与电化学反应，以得到电流。

极片在生产过程中，通常是将料带基材通过放卷机构放卷，而后经涂布装置向基材涂布包含活性物质的浆料、而后经烘干装置烘干以将活性物质固化于基材、而后收卷于收卷机构。传统的烘干装置，大多在水平面内沿直线路径输送料带，为了降低料带因输送速度过快而涂布层烘干效果差甚至开裂等问题，传统的烘干装置通常具备较长的烘干线路，如此烘干装置的占地面积较大。

为了降低烘干装置的占地面积，可以考虑从高度方向上延长烘干装置的烘干路线，以此缩短在水平方向的烘干路线。进一步地，还可以考虑将直线式的烘干路线调整为曲线式的烘干路线，进一步提高烘干装置的烘干路线长度，在保证烘干装置的烘干效果的同时，降低其占地面积。进一步地，还可以考虑提高单层烘腔在高度方向的空间利用率，进一步降低占地面积。

基于此，为了降低烘干装置的占地面积，本申请实施例提供了一种烘干装置，其上下设置有至少两层烘腔，各层烘腔均包括第一烘区和第二烘区，且在第一烘区内设置有曲折延伸的第一走带组件。首先，在相同长度的烘干路线下，多层烘腔的结构缩短了烘箱的纵向长度。其次，在第一烘区内设置曲折延伸的第一走带组件，进一步提高了第一烘区的烘干路线，有助于进一部缩短烘箱的纵向长度。如此，可大大降低烘箱的占地面积。

本申请实施例中的烘干装置，可以用于极片的烘干，也可以用于其他如涂布有涂层的塑料薄膜、钢带等料带的烘干。当然，烘干装置也可以作为未涂布有涂层的料带的烘干。

利用本申请实施例的烘干装置，可以搭配涂布装置组成涂布设备。涂布设备用于在料带基材上形成稳固涂层的设备，其涂布装置用于对基材涂布浆料，其烘干装置可以对涂布有浆料的料带烘干，以固化浆料形成涂层。此外，涂布设备还可以包括放卷机构、收卷机构等，通常地，未涂布的料带经放卷机构放卷途径涂布装置、烘干装置后收卷于收卷机构。

本申请实施例公开的电池生产系统，包括上述涂布设备，可用于极片的涂布生产。当然，电池生产系统还可以包括模切设备、分切设备、纠偏设备等，关于电池生产系统的其他具体配置可以参考常规设置。

下面对本申请实施例提供的烘箱进行详细介绍。

图1为一个或多个实施例的烘干装置的内部结构示意图。图2为图1所述的烘干装置的应用示意图。

根据本申请的一个或多个实施例，请参照图1和图2，本申请实施例提供的烘箱100，包括沿烘箱100的高度方向Z相邻布置的至少两层烘腔10，各层烘腔10包括第一烘区10a、第二烘区10b和第一走带组件12a，第一烘区10a和第二烘区10b沿烘箱100的纵长方向X相邻布置。第一走带组件12a设于第一烘区10a，且沿第一走带路径a1布置，第一走带路径a1在平行高度方向Z的平面内的正投影从第一烘区10a在纵向方向上一端朝向另一端曲折延伸。其中，相邻两层烘腔10中，任一者的第二烘区10b与另一者的第一烘区10a在高度方向Z上相邻布置，且两者的第一烘区10a在高度方向Z上相错开并且在纵长方向X上相邻接。

在本申请实施例中，烘箱100的高度方向Z通常对应为重力方向，烘箱100的纵长方向X通常对应水平面内的长度方向。

烘腔10是烘箱100内形成的用于提供烘干场所的腔体结构。烘箱100包括在烘箱100的高度方向Z上相邻布置的至少两层烘腔10。在一些实施例中，该烘箱100可以仅包括两层烘腔10，且该两层烘腔10中满足“相邻两层烘腔10中，任一者的第二烘区10b与另一者的第一烘区10a在高度方向Z上相邻布置，且两者的第一烘区10a在高度方向Z上相错开并且在纵长方向X上相邻接”这一条件。在其他实施例中，该烘箱100还可以包括其他层的烘腔10，且全部层烘腔10在烘箱100的高度方向Z上依次布置，至于其他层烘腔10的具体构造与该两层烘腔10的具体构造是否相同，本领域技术人员可以进行常规设计。也就是说，至少存在相邻的两层烘腔10满足上述条件。当然，也可以是任意相邻的两层烘腔10满足上述条件。

至少两层烘腔10中，各层烘腔10之间可以彼此独立而不直接连通，也可以彼此直接相连通。在一些实施例中，该两层烘腔10之间彼此连通，料带L可以经两层烘腔10之间连通通道从其中一个烘腔10走带至另一烘腔10。

至少有相邻的两层烘腔10中，各层烘腔10包括第一烘区10a和第二烘区10b，第一烘区10a和第二烘区10b在烘箱100的纵长方向X上相邻布置。可理解地，第一烘区10a和第二烘区10b是连通的，以方便料带L可从在第一烘区10a和第二烘区10b之间连续走带。此外，通常第一烘区10a和第二烘区10b内设置有走带组件12和烘干组件13，走带组件12用于引导料带L走带，烘干组件13用于对料带L执行烘干。

第一烘箱100内设有第一走带组件12a，第一走带组件12a沿第一走带路径a1布置。第一走带组件12a可以沿第一走带路径a1连续的布置，即第一走带组件12a为沿第一走带路径a1延伸的连续结构，此时第一走带组件12a可以为皮带组件，皮带组件中的皮带沿第一走带路径a1连续布置。第一走带组件12a还可以沿第一走带路径a1间断式布置，此时第一走带组件12a可以包括多个过辊12A，多个过辊12A沿第一走带路径a1彼此间隔的布置。

平行高度方向Z的平面通常为竖直平面，第一走带路径a1在平行高度方向Z的平面内的正投影可理解为第一走带路径a1在竖直平面的正投影。

该正投影从第一烘区10a在纵长方向X上的一端朝向另一端曲折延伸，通常“该一端”和“该另一端”为第一烘区10a的入口端和出口端，也就是说，第一走带路径a1大致从第一烘区10a的入口端朝向其出口端曲折延伸。

“曲折延伸”即非直线延伸。传统的走带组件布置方式是沿水平方向沿直线状的走带路径布置，而本申请实施例中的第一走带组件沿在竖直平面内非直线状的第一走带路径布置，在起点和终点相同的情况下，第一走带组件所具备的烘干路线更长。

为方便说明，该相邻两层烘腔10中的一者为上烘腔11，另一者为下烘腔12，且上烘腔11位于下烘腔12的上方。下烘腔12的第二烘区10b位于上烘腔11的第一烘区10a的下方，下烘腔12的第一烘区10a位于上烘腔11的第二烘区10b的下方。

两个第二烘区10b在高度方向Z上错开，是指上烘腔11的第二烘区10b的最高处(通常为其内顶壁)高于下烘腔12的第二烘区10b的最高处(通常为其内顶壁)，上烘腔11的第二烘区10b的最低处(通常为其内底壁)高于下烘腔12的第二烘区10b的最低处(通常为其内底壁)。

两个第二烘区10b在纵长方向X上相邻接，是指两者沿纵长方向X的投影相交。可以理解地，两者沿纵长方向X的投影是不重合的。

换而言之，结合图1，上烘腔11的第一烘区10a和第二烘区10b围合形成有朝下开口的第一空间，该第一空间位于其第二烘区10b的下方。下烘腔12的第一烘区10a和第二烘区10b围合形成朝上开口的第二空间，该第二空间位于其第二烘区10b的上方。上烘腔11的第一烘区10a嵌入第二空间，下烘腔12的第一烘区10a嵌入第一空间。

上述烘箱100，两层烘腔10上下布置，在相同长度的烘干路线下，大大缩短了烘箱100的纵向长度，降低烘箱100的占地面积。其次，在第一烘区10a内设置在平行高度方向Z的平面内曲折延伸的第一走带组件12a，提高了第一烘区10a的烘干路线，在相同长度的烘干路线下，可进一步缩短烘箱100的纵向长度。再次，两层烘腔10嵌合式连接，烘箱100结构不仅紧凑。与传统的水平布置的烘干装置相比，在相同长度的烘干路线下，上述烘箱100可大大降低占地面积。

关于本申请实施例中提及的“烘干路线”是指料带L在烘箱100内走带时所需要经过的路径。“料带L”是指呈带状、可收卷的结构。

在一些实施例中，在烘箱100的高度方向Z上，第一烘区10a的尺寸大于第二烘区10b的尺寸。

在高度方向Z上，第一烘区10a的尺寸大于第二烘区10b的尺寸，也即是说，第一烘区10a比第二烘区10b厚。通常地，第二烘区10b位于第一烘在高度方向Z上的靠近其顶部的一侧或者靠近其底部设置的一侧。

由于第一烘区10a在高度方向Z上的尺寸较大，第一走带组件12a在第一烘区10a内延伸时，第一走带组件12a可在高度方向Z上的较宽范围内布置并引导走带。

此时，第一烘区10a提供了较高的走带空间，有利于提高烘箱100在高度方向Z上的空间利用率，并提高第一走带组件12a在高度方向Z上的走带路径，而且可进一步提高烘箱100的结构紧凑性。

在一些实施例中，请参照图1，第一走带路径a1具有至少一个波峰部B1和至少一个波谷部B2，波峰部B1和波谷部B2在纵长方向Y上相间设置，且相邻波峰部B1和波谷部B2之间沿高度方向交错设置。

第一走带路径a1的是曲折延伸的，在某一段延伸范围，当第一走带路径a1呈朝高度方向Z上的上方拱起时，该段范围内的最高位置为波峰部B1。在某一段延伸范围内，当第一走带路径a1呈朝高度方向Z上的下方拱起时，该段范围内的最低位置为波谷部B2。

类似于波形结构，第一走带路径包括至少一个波峰部B1和至少一个波谷部B2。波峰部B1和波谷部B2相间布置，即波峰部B1与波谷部B2相邻布置，当存在多个波峰部B1时，波峰部B1之间存在波谷部B2；当存在多个波谷部B2时，波谷部B2之间存在波峰部B1。

当第一走带路径a1包括波峰部B1和波谷部B2，第一走带路径a1在延伸过程中,至少一部分是在高度方向Z上往复设置的。在一些实施例中，第一走带路径a1可以在高度方向Z上往复设置有多次，第一走带路径a1可以呈由第一烘区10a的入口端朝向其出口端延伸的波浪状、锯齿状、方形波状的波形构造。

此时，第一走带组件12a沿在高度方向Z上往复设置的第一走带路径a1布置，在烘箱100有限的空间内，能够形成较长的烘干路线，有利于提高烘干装置的烘干路线，提高烘干装置的烘干效率和烘干效果。

需要说明地，第一走带路径a1“在高度方向Z上往复设置”包括部分路径完全沿高度方向Z笔直上升、部分路径完全沿高度方向Z笔直下降(如第一走带路径a1呈方形波状)；还包括部分路径与高度方向Z呈角度的上升，部分路径与高度方向Z呈角度的下降(如第一走带路径a1呈锯齿波状、正弦波状)。

在一些实施例中，请参照图1，第一走带路径a1包括多个第一路径段a11和至少一个第二路径段a12，多个第一路径段a11在纵长方向X上相邻布置，且各第一路径段a11沿高度方向Z延伸设置。第二路径段a12设置于相邻两个第一路径段a11之间。

第一路径段a11是第一走带路径a1中沿高度方向Z笔直延伸的路径段。两个第一路径段a11之间通过第二路径段a12连接，第二路径段a12可以是直线段(如水平段)，也可以是曲线段。

此时，第一走带路径a1大致沿高度方向Z和纵长方向X做方形波状延伸，第一走带路径a1的延伸长度较长，有助于提高烘箱100的烘干路线。

在一些实施例中，请参照图1，烘箱100还包括第二走带组件12b，第二走带组件12b设于第二烘区10b内，第二走带组件12b沿第二走带路径b1布置，第二走带路径b1从所在第二烘区10b在纵长方向X上的一端朝向另一端呈直线状延伸。

第二走带路径b1是引导第二走带组件12b布置的参照路线，其可以由第二走带组件12b所在的线路所形成。第二走带组件12b可以沿第二走带路径b1连续的布置，即第二走带组件12b为沿第二走带路径b1延伸的连续结构，此时第二走带组件12b可以为皮带组件，皮带组件中的皮带沿第二走带路径b1连续布置。第二走带组件12b还可以沿第二走带路径b1间断式布置，此时第二走带组件12b可以包括多个过辊12A，多个过辊12A沿第二走带路径b1彼此间隔的布置。

第二烘区10b在高度方向Z的尺寸小于第一烘区10a在高度方向Z上的尺寸，即第二烘区10b内部在高度方向Z上供走带的空间较小。

此时，第二走带组件12b沿第二走带路径b1大致呈直线状延伸，可适应第二烘区10b的尺寸要求，同时简化第二烘区10b的内部构造。

在一些实施例中，请参照图1和图2，各烘腔10包括入口I和出口O，入口I和出口O在烘箱100的纵长方向X上相对设置。相邻两层烘腔10中，任一者的入口I与另一者的出口O位于烘箱100的相同一侧。

相邻两层烘腔10中，任一层烘腔10的入口I与另一层烘腔10的出口O位于烘腔10在纵长方向X的相同一侧。相邻两层烘腔10分别为上烘腔11和下烘腔12。一种布置方式是：上烘腔11的入口I和下烘腔12的出口O均位于烘箱100在纵长方向X上的左侧，上烘腔11的出口O和下烘腔12的入口I均位于烘箱100在纵长方向X上的右侧；另一种布置方式是：下烘腔12的入口I和上烘腔11的出口O均位于烘箱100在纵长方向X上的左侧，下烘腔12的出口O和上烘腔11的入口I均位于烘箱100在纵长方向X上的右侧。

在实际作业时，料带L从其中一层烘腔10的入口I进入后，经烘干后从该层烘腔10的出口O排出，而后从相邻的另一层烘腔10的入口I进入，经烘干后从该相邻的另一层烘腔10的出口O排出。

如此，料带L可以于烘箱100的相同一侧从其中一层烘腔10转入相邻的另一层烘腔10，料带L转运更加方便和简单，可实现同一料带L在不同层烘腔10之间的转运，延长料带L的烘干路线，提高料带L的烘干效率。

在一些实施例中，请参照图1和图2，第一烘区10a与出口O连通，第二烘区10b与入口I连通。即，第一烘区10a与所在层烘腔10的出口O径直连通，料带L从第一烘区10a进入该层烘腔10的出口O。第二烘区10b与所在层烘腔10的入口I径直连通，料带L从该层烘腔10的入口I直接进入该层烘腔10的第二烘区10b。

此时，在一些情况下，料带L可以先在第二烘区10b内的第二走带组件12b的引导下水平走带，水平走带时，可以降低料带L上的涂布层在重力作用下掉落/偏移/厚度不同等风险，利用第二烘区10b可以对料带L的涂布层进行初步干燥，有助于提高料带L的厚度均匀性。

在一些实施例中，请参照图1和图2，烘箱100还包括烘干组件13，各烘腔10内设置有烘干组件13和走带组件12和走带组件12，走带组件12包括第一走带组件12a，在相交于走带组件12的走带路径的方向上，同一烘腔10内的烘干组件13与走带组件12相对布置。

走带组件12是用于料带L于烘腔10内走带的组件，其可以是皮带组件、过辊12A组件等。每一烘腔10内均设置有独立的走带组件12，走带组件12包括上述第一走带组件12a，此外，在一些情形下，第一走带组件12a还包括上述第二走带组件12b。

走带组件12的走带方向F是沿其走带路径朝向各烘腔10的出口O设置的方向。将相交于走带组件12的走带路径的方向定义为第一方向G，第一方向G可以与走带路径大致垂直，即第一方向G与走带方向F大致垂直。

烘干组件13是用于实现料带L烘干的组件，其可以是电阻丝加热件、风加热件等。每一烘腔10内均设置有烘干组件13。各烘腔10内，烘干组件13可以包括多个。多个烘干组件13沿走带组件12进行布置。第一烘区10a和第二烘区10b内设置有烘干组件13。

此时，同一烘腔10内，烘干组件13与走带组件12沿第一方向G相对布置，烘干组件13正对走带于走带组件12上的料带L，烘干组件13对料带L的烘干效果较好。

其中，同一烘腔10内，烘干组件13可以布置在走带组件12在第一方向G上的相同一侧，也可以布置第一方向G的两侧。当烘干组件13布置在走带组件12在第一方向G的相同一侧，则烘腔10内，烘干组件13仅对料带L的同一表面进行烘干，即实现单面烘干。当烘干组件13布置在走带组件12在第一方向G的两侧，则烘腔10内，烘干组件13可对料带L的正面L1和反面L2进行烘干，即实现双面烘干。

在一些实施例中，请参照图1和图2，相邻两层烘腔10中，其中一者的烘干组件13被配置为朝向位于对应走带路径的料带L的正面L1布置，另一者的烘干组件13被配置为朝向位于对应走带路径的料带L的反面L2布置。

也就是说，各层烘腔10中，烘干组件13对料带L的相同一面进行烘干，且两层烘腔10的烘干组件13分别对料带L的不同两个表面进行烘干。

示例地，上烘腔11中，烘干组件13对料带L的正面L1进行烘干，其包括上烘腔11中的第一烘区10a和第二烘区10b内的烘干组件13均对料带L的正面L1进行烘干。下烘腔12中，烘干组件13对料带L的反面L2进行烘干，其包括下烘腔12中的第一烘区10a和第二烘区10b内的烘干组件13均对料带L的反面L2进行烘干。

图3与图4分别示出了第一方向G与走带方向F的位置示意图。

结合第一方向G理解，如图3与图4所示，朝向各烘腔10的走带组件12的走带方向F看，若上烘腔11的烘干组件13位于垂直其走带路径的第一方向G上的左手侧，则下烘腔12的烘干组件13位于垂直其走带路径的第一方向G的右手侧。

料带L具有相背设置的两个表面(正面L1和反面L2)，该两个表面上的一个或者两个均可以被涂布。

图5为图1所示的烘装置的另一应用场景图。在一应用中，请参见图5，料带L从下烘腔12的入口I进入后，料带L的正面L1被烘干，从下烘腔12的出口O退出的料带L，在进入上烘腔11的入口I前翻转180度，而后料带L的反面L2被上烘腔11中的烘干组件13烘干。在图2所示实施例中，下烘腔12可以用于一个料带L的正面L1的烘干，上烘腔11可以用于另一料带L的反面L2的烘干。

如此，烘箱100可以实现料带L的双面烘干，使得烘箱100适应双面涂布的涂布设备1000。

在一些实施例中，请参照图1、图2和图5，走带组件12包括多个过辊12A，多个过辊12A沿走带组件12的走带路径间隔布置。

过辊12A是可以自转的圆柱状、圆筒状结构，各个过辊12A的自转轴线之间通常是彼此平行。多个过辊12A沿走带组件12的走带路径间隔布置。

第一走带组件12a和第二走带组件12b可以由多个过辊12A组成。

通过过辊12A形成走带组件12，走带组件12结构简单，且通过过辊12A可以张紧料带L，利于料带L的输送。

在一些实施例中，请参照图1、图2和图5，烘干组件13包括送风腔体13a和风嘴13b，风嘴13b设置于送风腔体13a，且朝向走带组件12开口。

送风腔体13a是内部具有流通空气空腔的腔体结构，通常地，送风腔体13a用于流通空气。送风腔体13a用于流通空气。具体地，送风腔体13a内可以设置加热装置，或者在送风腔体13a外设置加热装置，以加热其流通的空气。

风嘴13b是用于将送风腔体13a内的空气朝向走带组件12喷射的喷嘴结构，有利于实现精准送风。各烘干组件13包括多个风嘴13b，全部风嘴13b沿送风腔体13a的外周壁布置。风嘴13b主要设置在送风腔体13a面向走带组件12设置的外周壁上。

此时，烘干组件13利用送风腔体13a与风嘴13b配合，利用风嘴13b对送风腔体13a内的空气进行分流，烘干组件13的烘干范围较大，能效利用高。

图6为图1所示的烘干装置在右视方位下的外形示意图。

在一些实施例中，请参照图6，并结合图1,烘箱100包括进风室14和多个分流风管15，各分流风管15的一端均连通进风室14的出口O，另一端连通至少一个送风腔体13a。

通常地，进风室14设置有一个或者多个。进风室14用于收集风(可以具有一定温度)，而后风经其出口O流入各个分流风管15，最后分流道各个送风腔体13a。进风室14可以是分体设置在烘箱100上结构，也可以由烘箱100的某个结构一体成型。通常地，进风室14为管状结构。

各分流风管15可以具备一个或多个出口O，分流风管15的各出口O对应连通一送风腔体13a。其中，烘箱100的全部送风腔体13a可以与同一进风室14连通，实现统一送风。或者，部分送风腔体13a一进风室14连通，其余部分送分腔体与另一进风室14连通。

此时，可利用同一风源同时对多个送风腔体13a实现送风，可较小风源的数量，降低成本。

另外，继续参见图6，烘箱100还可以包括换热器19、循环风机18等。换热器19、循环风机18和进风室14连通，换热器19用于将流入进风室14的空气加热，循环风机18用于促使大气流经换热器19，而后进入进风室14。关于换热器19、循环风机18的具体构造可以进行常规选择。

在一些实施例中，继续参见图6，烘箱100还包括回风室16，回风室16连通各层烘腔10，回风室16和进风室14分别位于烘箱100在宽度方向上的相反两侧。

烘箱100的宽度方向与其高度方向Z和纵长方向X大致两两垂直设置。回风室16可以是分体设置在烘箱100上结构，也可以由烘箱100的某个结构一体成型。通常地，回风室16为管状结构。

结合图6，回风室16连通有排风机17，在排风机17的作用下，各烘腔10内的气体进入回风室16，最后排出烘箱100。可以在各烘腔10的腔壁上设置回风口16a(如图1、图2和图5所示)，烘腔10通过回风口16a与回风室16连通。

回风室16和进风室14设置在烘箱100宽度方向上的相反两侧，即回风室16设置在烘箱100的宽度方向的一侧，进风室14设置在另一侧。需要说明的，当回风室16配置有多个，则全部回风室16位于烘箱100在宽度方向上的相同一侧。同理，当进风室14配置有多个，则全部进风室14位于烘箱100在宽度方向上的相同一侧。通常，回风室16和进风室14均配置一个。

通常得，分流风管15设置在各送风腔体13a朝向回风室16的一侧。如此，分流风管15的设置长度较短。在图6所示实施例中，进风室14设置在烘箱100的左侧，回风室16设置在烘箱100的后侧，分流风管15设置在给烘腔10的左侧。

回风室16和进风室14设置烘箱100的相反两侧，可以均化烘箱100宽度方向上的结构分布，结构布置更加合理。

在实际应用时，在循环风机18和排风机17的协同下，实现空气在烘腔10内外的循环流动。

上述实施例中，利用回风室16和进风室14可实现各烘腔10的统一送风/回风，可简化烘箱100的结构，并降低烘箱100的成本。当然，在其他实施例中，各烘腔10也可以独立送风/回风。

在一些实施例中，参照图1、图2、图5，各烘腔10彼此独立。即，两层烘腔10之间是彼此不连通。如此，在一些情形下，可降低两层烘腔10环境的相互干扰，提高烘箱100可适应的场景。

在一些实施例中，参照图1、图2、图5，所述两层烘腔10中，位于下方的所述烘腔10的所述第一烘区10a包括凸出部T，所述凸出部T相对于所述第二烘区10b背离位于上方的所述烘腔10凸出设置。

凸出部T参与下方的烘腔10(即下烘腔12)的第一烘区10a的内部空间界定，凸出部T内空间可用于第一走带组件12a布置。凸出部T相对下烘腔12的第一烘区10a朝向凸出，且与该第一烘区10a形成有避让空间K。

在实际应用时，由于凸出部T相对下烘腔12的第二烘区10b朝向凸出，凸出部T支撑在地面上，烘箱100仅利用凸出部T与地面接触，凸出部T与第二烘区10b所形成的避让空间K可作其他用途，如运输小车行走等。

如此，可进一步降低烘箱100的占地面积。同时，凸出部T的设置还可以增加第一烘区10a的空间，提高第一走带组件12a的走带路径，进而延长烘箱100的烘干路线。

在本申请的一实施例中，参照图1，烘箱100包括沿烘箱100的高度方向Z相邻布置的两层烘腔10，各层烘腔10包括第一烘区10a、第二烘区10b、第一走带组件12a、第二走带组件12b，第一烘区10a和第二烘区10b沿烘箱100的纵长方向X相邻布置，且在烘箱100的高度方向Z上，第一烘区10a的尺寸大于第二烘区10b的尺寸。第一走带组件12a设于第一烘区10a，且沿第一走带路径a1布置，第一走带路径a1从第一烘区10a在纵向方向上的一端朝向另一端延伸，且在延伸过程中于烘箱100的高度方向Z上往复设置。其中，相邻两层烘腔10中，任一者的第二烘区10b与另一者的第一烘区10a在高度方向Z上相邻布置，且两者的第一烘区10a在高度方向Z上相错开并且在纵长方向X上相邻接。第二走带组件12b设于第二烘区10b内，第二走带组件12b沿第二走带路径b1布置，第二走带路径b1从所在第二烘区10b在纵长方向X上的一端朝向另一端呈直线状延伸。

图7为一个或多个实施例的涂布设备1000的结构示意图。

另外，请参照图7，本申请实施例还提供了一种涂布设备1000，包括涂布装置200和上述烘箱100。涂布装置200用于在料带L上涂布浆料层。关于涂布装置200的具体构造，可以采取常规选择。如上文所述，涂布设备1000还可以包括收卷机构300和放卷机构400。该涂布设备1000包括上述所有有益效果，在此不赘述。

在一些实施例中，继续参考图7，涂布装置200包括正面涂布装置210和反面涂布装置220，两者位于烘箱100在纵长方向X的相背两侧。各烘腔10包括入口I和出口O，入口I和出口O在烘箱100的纵长方向X上相对设置。两层烘腔10中，任一者的入口I与另一者的出口O位于烘箱100的相同一侧，位于烘箱100相同侧的正面涂布装置210和入口I，正面涂布装置210用于向进入入口I的料带L的正面L1执行涂布操作；位于烘箱100相同侧的反面涂布装置220和出口O，反面涂布装置220用于向退出出口O的料带L的反面L2执行涂布操作。

正面涂布装置210和反面涂布装置220的具体构造请参照常规设置。正面涂布装置210用于对料带L的正面L1涂布，反面涂布装置220用于对料带L的反面L2涂布，料带L的正面L1和反面L2是在其厚度方向上相背设置的两个表面。

示例地，正面涂布装置210用于在下烘腔12的入口I前对料带L的正面L1进行涂布，反面涂布装置220用于在退出下烘腔12的出口O后对料带L的反面L2进行涂布。

入口I与正面涂布装置210位于相同一侧的烘腔10用于对料带L的正面L1进行烘干，入口I与反面涂布装置220位于相同一侧的烘腔10用于对料带L的反面L2进行烘干。

此时，涂布设备1000可以对料带L的正面L1和反面L2均涂布，可实现料带L的双面涂布。而且，料带L的正面L1和反面L2涂布分步进行，可以在正面L1浆料烘干完全后涂布反面L2浆料，并对反面L2浆料完全烘干，有助于提高料带L的烘干效果。

当然，在其他实施例中，涂布装置200也可以仅包括正面涂布装置210或者仅包括反面涂布装置220，或者正面涂布装置210和反面涂布装置220的布置位置不同。

另外，本申请实施例还提供了一种电池生产系统，其包括上述涂布设备1000。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (18)

1.一种烘箱，其特征在于，包括：

沿所述烘箱的高度方向相邻布置的至少两层烘腔，各所述烘腔包括：

第一烘区和第二烘区，两者沿所述烘箱的纵长方向相邻布置；

第一走带组件，设于所述第一烘区，且沿第一走带路径布置；所述第一走带路径在平行所述高度方向的平面内的正投影从所述第一烘区在所述纵长方向上的一端朝向另一端曲折延伸；

其中，相邻两层所述烘腔中，任一者的所述第二烘区与另一者的所述第一烘区在所述高度方向上相邻布置，且两者的所述第一烘区在所述高度方向上相错开并且在所述纵长方向上相邻接。

2.根据权利要求1所述的烘箱，其特征在于，在所述烘箱的高度方向上，同一所述烘腔中，所述第一烘区的尺寸大于所述第二烘区的尺寸。

3.根据权利要求1所述的烘箱，其特征在于，所述第一走带路径具有至少一个波峰部和至少一个波谷部，所述波峰部和所述波谷部在所述纵长方向上相间设置，且相邻所述波峰部和所述波谷部之间沿所述高度方向交错设置。

4.根据权利要求3所述的烘箱，其特征在于，所述第一走带路径包括多个第一路径段和至少一个第二路径段，多个所述第一路径段在所述纵长方向上相邻布置，且各所述第一路径段沿所述高度方向延伸设置；

所述第二路径段设置于相邻两个所述第一路径段之间。

5.根据权利要求1所述的烘箱，其特征在于，所述烘箱还包括第二走带组件，所述第二走带组件设于所述第二烘区内；

所述第二走带组件沿第二走带路径布置，所述第二走带路径从所在所述第二烘区在所述纵长方向上的一端朝向另一端呈直线状延伸。

6.根据权利要求1所述的烘箱，其特征在于，各所述烘腔包括入口和出口，所述入口和所述出口在所述烘箱的纵长方向上相对设置；

相邻两层所述烘腔中，任一者的所述入口与另一者的所述出口位于所述烘箱的相同一侧。

7.根据权利要求6所述的烘箱，其特征在于，各所述烘腔中，所述第一烘区与所述出口连通，所述第二烘区与所述入口连通。

8.根据权利要求1-7任一项所述的烘箱，其特征在于，所述烘箱还包括烘干组件和走带组件，所述走带组件包括所述第一走带组件；

各所述烘腔内设置有所述烘干组件和走带组件，在相交于所述走带组件的走带路径的方向上，同一所述烘腔内的所述烘干组件与所述走带组件相对布置。

9.根据权利要求8所述的烘箱，其特征在于，相邻两层所述烘腔中，其中一者的所述烘干组件被配置为朝向位于对应所述走带路径的料带的正面布置，另一者的所述烘干组件被配置为朝向位于对应所述走带路径的料带的反面布置。

10.根据权利要求8所述的烘箱，其特征在于，所述走带组件包括多个过辊，所述多个过辊沿所述走带组件的走带路径间隔布置。

11.根据权利要求8所述的烘箱，其特征在于，所述烘干组件包括送风腔体和风嘴，所述风嘴设置于所述送风腔体，且朝向所述走带组件开口。

12.根据权利要求11所述的烘箱，其特征在于，所述烘箱包括进风室和多个分流风管，各所述分流风管的一端均连通所述进风室的出口，另一端连通至少一个所述送风腔体。

13.根据权利要求12所述的烘箱，其特征在于，所述烘箱还包括回风室，所述回风室连通各层所述烘腔；

所述回风室和所述进风室分别位于所述烘箱在宽度方向上的相反两侧。

14.根据权利要求1-7任一项所述的烘箱，其特征在于，各所述烘腔彼此独立。

15.根据权利要求1-7任一项所述的烘箱，其特征在于，相邻两层所述烘腔中，位于下方的所述烘腔的所述第一烘区包括凸出部，所述凸出部相对于所述第二烘区背离位于上方的所述烘腔凸出设置。

16.一种涂布设备，其特征在于，包括涂布装置和如权利要求1-15任一项所述的烘箱。

17.根据权利要求16所述的涂布设备，其特征在于，所述涂布装置包括正面涂布装置和反面涂布装置，两者位于所述烘箱在所述纵长方向的相背两侧；

各所述烘腔包括入口和出口，所述入口和所述出口在所述烘箱的纵长方向上相对设置；相邻两层所述烘腔中，任一者的所述入口与另一者的所述出口位于所述烘箱的相同一侧；

位于所述烘箱相同侧的所述正面涂布装置和所述入口，所述正面涂布装置用于向进入所述入口的料带的正面执行涂布操作；位于所述烘箱相同侧的所述反面涂布装置和所述出口，所述反面涂布装置用于向退出所述出口的料带的反面执行涂布操作。

18.一种电池生产系统，其特征在于，包括如权利要求16或17所述的涂布设备。