CN221049030U - 掩模版贴膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及掩模版技术领域，并公开了一种掩模版贴膜设备，包括基座、掩模版放置平台以及贴膜装置，掩模版放置平台活动设于基座，掩模版放置平台设有定位框口，定位框口用以容置待贴膜的掩模版，贴膜装置包括两卡台和驱动机构，两卡台与所述基座活动连接，并位于定位框口上方；驱动机构设于基座，并与两卡台传动连接；所述驱动机构驱动两所述卡台相对靠近或远离，以使两卡台能够配合夹持固定不同型号的光学膜。在本实用新型技术方案中，通过驱动机构驱动两卡台相对靠近或远离就可以使得两卡台配合夹持型号不同的光学膜，提高了设备的普适性。

Description

掩模版贴膜设备

技术领域

本实用新型涉及掩模版技术领域，特别涉及一种掩模版贴膜设备。

背景技术

掩模版是一种由表面记载着图形、文字等信息的金属层薄膜或光阻层薄膜和材质为高纯度融石英或其它材质的玻璃载板组合而成的广泛用于IC、FPD、MEMS、光学器件等行业的模具。

在掩模版加工过程在，需要在掩模版的表面贴附一层光学膜，如此来避免颗粒直接掉落在掩模版表面，防止脏污的掩模版对图形曝光效果造成影响。在现有贴膜工艺中，不同尺寸、型号的光学膜需要依赖不同的夹具进行夹持。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种掩模版贴膜设备，旨在提供一种普适性更强的掩模版贴膜设备。

为实现上述目的，本实用新型提出的掩模版贴膜设备，包括：

基座；

掩模版放置平台，所述掩模版放置平台活动设于所述基座，所述掩模版放置平台设有定位框口，所述定位框口用以容置待贴膜的掩模版；以及

贴膜装置，所述贴膜装置包括两卡台和驱动机构，两所述卡台与所述基座活动连接，并位于所述定位框口上方；所述驱动机构设于所述基座，并与两所述卡台传动连接；所述驱动机构驱动两所述卡台相对靠近或远离，以使两所述卡台能够配合夹持固定不同型号的光学膜。

在本实用新型的一实施例中，所述驱动机构包括：

机架，所述机架设于所述基座；

升降机构，所述升降机构设于所述机架，所述升降机构用以驱动所述卡台升降；

横移机构，所述横移机构设于所述升降机构，所述横移机构用以驱动两所述卡台靠近或远离；以及

转动机构，所述转动机构设于所述横移机构，两所述卡台设于所述转动机构。

在本实用新型的一实施例中，所述卡台设有光栅检测装置，所述光栅检测装置用以检测所述光学膜的放置位置。

在本实用新型的一实施例中，所述掩模版贴膜设备还包括夹持组件，所述夹持组件设于所述基座，并用以夹持所述掩模版，所述夹持组件包括至少两个夹持单元，所述夹持单元分设于所述定位框口的两侧并相对设置，每一所述夹持单元具有夹持端，多个所述夹持端配合形成大小可调的夹持空间，所述夹持单元包括：

夹紧块，所述夹紧块活动设于所述基座并位于所述定位框口内，所述夹紧块用夹紧所述掩模版；和

夹持电机，所述夹持电机设于所述掩模版放置平台，所述夹持电机朝向所述定位框口设有驱动轴，所述驱动轴穿设于所述定位框口并与所述夹紧块相连接。

在本实用新型的一实施例中，所述定位框口设有多个压力传感器，多个所述压力传感器分设于所述定位框口的四角。

在本实用新型的一实施例中，所述掩模版贴膜设备还包括调节组件，所述调节组件包括：

调节块，所述调节块可活动的设于所述掩模版放置平台；和

调节电机，所述调节电机具有输出端，所述输出端设有调节丝杆，所述调节丝杆远离所述调节电机的一端连接所述调节块。

在本实用新型的一实施例中，所述夹紧块为尼龙夹紧块。

在本实用新型的一实施例中，所述掩模版放置平台的一侧设有转动柱，所述定位框口可转动的设于所述转动柱。

在本实用新型的一实施例中，所述定位框口的一侧设有缓冲件，所述缓冲件的一端与所述定位框口相抵接。

在本实用新型的一实施例中，所述掩模版贴膜设备还包括掩模版驱动机构，所述掩模版驱动机构包括导轨和滑块，所述导轨设于所述基座，所述导轨朝向所述滑块设有多个排气口，所述掩模版放置平台设于所述滑块。

在本实用新型技术方案中，提出了一种掩模版贴膜设备，该掩模版贴膜设备包括基座、掩模版放置平台以及贴膜装置，在进行贴膜操作时，掩模版放置于掩模版放置平台，掩模版放置平台设有定位框口，掩模版通过定位框口进行定位，贴膜装置通过两个可靠近的卡台夹持一片光学膜通过移动、翻转等操作后将光学膜贴附在掩模版上，通过两个间距可调的卡台可夹持不同型号的光学膜从而解决了现有一种光学膜就需要定制一种夹具的问题，提高了设备的普适性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型所提供的掩模版贴膜设备的一实施例的立体结构示意图；

图2为图1中A处的局部放大图；

图3为图1中贴膜装置的结构示意图；

图4为图3中B处的局部放大图。

附图标号说明：

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，在本实用新型中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

掩模版是一种由表面记载着图形、文字等信息的金属层薄膜或光阻层薄膜和材质为高纯度融石英或其它材质的玻璃载板组合而成的广泛用于IC、FPD、MEMS、光学器件等行业的模具。

在掩模版加工过程在，需要在掩模版的表面贴附一层光学膜，如此来避免颗粒直接掉落在掩模版表面，防止脏污的掩模版对图形曝光效果造成影响。在现有贴膜工艺中，不同尺寸、型号的光学膜需要依赖不同的夹具进行夹持。为解决上述问题，本实用新型提出了一种掩模版贴膜设备，旨在提供一种普适性更强的掩模版贴膜设备，图1至图4为本实用新型掩模版贴膜设备所提供的一实施例的结构示意图。

请参考图1至图4，本实用新型提出一种掩模版贴膜设备1000，包括基座1、掩模版放置平台2以及贴膜装置4，掩模版放置平台2活动设于基座1，掩模版放置平台2设有定位框口21，定位框口21用以容置待贴膜的掩模版，贴膜装置4包括两卡台41和驱动机构，两卡台41与所述基座1活动连接，并位于定位框口21上方；驱动机构设于基座1，并与两卡台41传动连接；所述驱动机构驱动两所述卡台41相对靠近或远离，以使两卡台41能够配合夹持固定不同型号的光学膜1100。

在本实用新型技术方案中，提出了一种掩模版贴膜设备1000，该掩模版贴膜设备1000包括基座1、掩模版放置平台2以及贴膜装置4，在进行贴膜操作时，掩模版放置于掩模版放置平台2，掩模版放置平台2设有定位框口21，掩模版通过定位框口21进行定位，贴膜装置4通过两个可靠近的卡台41夹持一片光学膜1100通过移动、翻转等操作后将光学膜1100贴附在掩模版上，通过两个间距可调的卡台41可夹持不同型号的光学膜1100从而解决了现有一种光学膜1100就需要定制一种夹具的问题，提高了设备的普适性。

为实现对掩模版的贴膜，需要从掩模版的正上方向下贴附光学膜1100，为此，用以夹持光学膜1100的卡台41通过机架421设于掩模版的正上方并与掩模版间隔一段距离设置，为实现卡台41上光学膜1100朝向掩模版的贴附动作，驱动机构还包括升降机构422，具体地，请进一步参阅图3，需要说明的是，该升降机构422可以是升降气缸，也可以是通过电机驱动的丝杆滑块结构，本实用新型对此不做限制，在本实用新型的一实施例中，升降机构422包括升降电机422a、升降滑块422b以及第一丝杆422c，具体地，请进一步参阅图3，第一丝杆422c设于机架421并沿垂直向设置，升降滑块422b设有内螺纹并与第一丝杆422c配合，通过升降电机422a驱动第一丝杆422c转动从而驱动升降滑块422b上下移动，丝杆滑块结构能够将电机的旋转运动转化为直线运动，实现对卡台41位置(也同时对光学膜1100位置)精确的定位和控制；具有高效率、高精度和高刚性的特点，能够满足精密定位的需求；同时，丝杆滑块也具有自锁功能，可以保持光学膜1100的位置稳定，不易发生滑动；此外，它的结构简单、可靠性高，易于安装和维护。

为匹配不同型号的光学膜1100的夹持，驱动机构还包括横移机构423，具体地，请进一步参阅图3，横移机构423包括横移电机423a、第二丝杆423b以及横移滑块423c，第二丝杆423b设于升降滑块422b并沿水平方向延伸设置，在一实施例中，横移机构423包括两个相对设置的横移电机423a、两个相对设置的第二丝杆423b以及两个可以相互远离或靠近的两个横移滑块423c，两个横移滑块423c分别通过两个横移电机423a进行驱动，需要说明的是，横移机构423可以是连杆机构，也可以是丝杠滑块机构，本实用新型对此不做限制，在本实用新型的一实施例中，横移机构423采用丝杠滑块机构，丝杆滑块结构能够将电机的旋转运动转化为直线运动，实现对两卡台41位置(也即两卡台41之间的间距)精确的定位和控制；具有高效率、高精度和高刚性的特点，能够满足精密定位的需求；同时，丝杆滑块也具有自锁功能，可以保持光学膜1100的位置稳定，不易发生滑动。

为实现光学膜1100的无损夹持，每一卡台41具有一个L形弹性隔层411，具体地，请进一步参阅图4，将光学膜1100放置于L形槽(图中未标注)上，两卡台41逐渐靠近夹紧，两卡台41始终通过柔性材质的弹性隔层411与光学膜1100接触，如此便可以实现对光学膜1100的无损夹持。当光学膜1100被放置在两卡台41上夹紧时，此时光学膜1100的贴附面(即与掩模版粘接的一面)朝向上，为实现对光学膜1100的翻转，驱动机构还包括转动机构，转动机构通过转动电机驱动转轴424转动，卡台41连接于转轴424，如此以实现光学膜1100的向下翻转，以使得光学膜1100的贴附面与掩模版相对。

为实现对光学膜1100的定位，防止光学膜1100放置位置偏离而导致不能刚好贴附，卡台41设有光栅检测装置43，具体地，请进一步参阅图4，光栅检测装置43被安装在光学膜1100的侧面，通过光栅和光电传感器之间的相互作用来实现测量。

为实现对掩模版的固定，掩模版贴膜设备1000还包括夹持组件3，具体地，请进一步参阅图1和图2，在本实用新型的一实施例中，夹持组件3包括两个夹持单元31，夹持单元31分设于定位框口21的两侧并相对设置，每一夹持单元31具有夹持端，多个夹持端配合形成大小可调的夹持空间3a，掩模版放置于该夹持空间3a内限位夹紧，需要说明的是，夹持单元31可以是通过气缸驱动的夹紧块311，也可以是通过电机驱动，本实用新型对此不做限制，在本实用新型的一实施例中，每一夹持单元31包括夹紧块311和夹持电机312，夹紧块311活动设于基座1并位于定位框口21内，夹紧块311用夹紧掩模版，夹持电机312设于掩模版放置平台2，夹持电机312朝向定位框口21设有驱动轴313，驱动轴313穿设于定位框口21并与夹紧块311相连接。

为防止驱动机构在控制光学膜1100下压过程中压力过大而导致设备或光学膜1100、掩模版受损，定位框口21设有多个压力传感器5，具体地，请进一步参阅图1，掩模版的四角放置于四个压力传感器5，当升降机构422向下压使得光学膜1100与掩模版贴附时，四个压力传感器5会同时受到压力，当压力达到压力传感器5设定的最大值时，升降机构422会停止下压，此时，光学膜1100完全贴附于掩模版。

为实现对掩模版角度的微调，掩模版贴膜设备1000还包括调节组件6，该调节组件6包括调节块61和调节电机62，具体地，请进一步参阅图2，调节块61可活动的设于掩模版放置平台2，通过调节电机62输出端的调节丝杆63进行调节，调节块61可以在调节电机62的作用下推动定位框口21，以使得定位框口21绕转动柱7转动一定角度，使得掩模版与光学膜1100对齐。

为防止调节组件6在对定位框口21调节过程中，定位框口21调节过度，导致调节角度偏大，定位框口21的一侧设有缓冲件8，具体地，请进一步参阅图2，缓冲件8的一端与定位框口21相抵接，需要说明的是，该缓冲件8可以是弹簧，也可以是硅胶块，本实用新型对此不做限制，在本实用新型的一实施例中，缓冲件8为弹簧，弹簧可以向定位框口21施加弹力，不仅可以防止定位框口21调节过度还可以实现定位框口21的复位。

为实现掩模版的位置调节，掩模版贴膜设备1000还包括掩模版驱动机构，具体地，请进一步参阅图1，掩模版驱动机构包括导轨和滑块，导轨设于基座1，导轨朝向所述滑块设有多个排气口，多个排气口内接多根供气管(图中未标注)，通过供气管向滑块提供流动空气，以使得滑块可以通过气浮的原理在导轨上浮动，滑块内设有线圈，通过电生磁原理产生磁力带动滑块在导轨上运动，掩模版放置平台2设于滑块，通过滑块移动带动掩模版一起运动。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种掩模版贴膜设备，其特征在于，包括：

基座；

掩模版放置平台，所述掩模版放置平台活动设于所述基座，所述掩模版放置平台设有定位框口，所述定位框口用以容置待贴膜的掩模版；以及

贴膜装置，所述贴膜装置包括两卡台和驱动机构，两所述卡台与所述基座活动连接，并位于所述定位框口上方；所述驱动机构设于所述基座，并与两所述卡台传动连接；所述驱动机构驱动两所述卡台相对靠近或远离，以使两所述卡台能够配合夹持固定不同型号的光学膜。

2.如权利要求1所述的掩模版贴膜设备，其特征在于，所述驱动机构包括：

机架，所述机架设于所述基座；

升降机构，所述升降机构设于所述机架，所述升降机构用以驱动所述卡台升降；

横移机构，所述横移机构设于所述升降机构，所述横移机构用以驱动两所述卡台靠近或远离；以及

转动机构，所述转动机构设于所述横移机构，两所述卡台设于所述转动机构。

3.如权利要求2所述的掩模版贴膜设备，其特征在于，所述卡台设有光栅检测装置，所述光栅检测装置用以检测所述光学膜的放置位置。

4.如权利要求1至3中任一项所述的掩模版贴膜设备，其特征在于，所述掩模版贴膜设备还包括夹持组件，所述夹持组件设于所述基座，并用以夹持所述掩模版，所述夹持组件包括至少两个夹持单元，所述夹持单元分设于所述定位框口的两侧并相对设置，每一所述夹持单元具有夹持端，多个所述夹持端配合形成大小可调的夹持空间，所述夹持单元包括：

夹紧块，所述夹紧块活动设于所述基座并位于所述定位框口内，所述夹紧块用夹紧所述掩模版；和

夹持电机，所述夹持电机设于所述掩模版放置平台，所述夹持电机朝向所述定位框口设有驱动轴，所述驱动轴穿设于所述定位框口并与所述夹紧块相连接。

5.如权利要求4所述的掩模版贴膜设备，其特征在于，所述定位框口设有多个压力传感器，多个所述压力传感器分设于所述定位框口的四角。

6.如权利要求4所述的掩模版贴膜设备，其特征在于，所述掩模版贴膜设备还包括调节组件，所述调节组件包括：

调节块，所述调节块可活动的设于所述掩模版放置平台；和

调节电机，所述调节电机具有输出端，所述输出端设有调节丝杆，所述调节丝杆远离所述调节电机的一端连接所述调节块。

7.如权利要求4所述的掩模版贴膜设备，其特征在于，所述夹紧块为尼龙夹紧块。

8.如权利要求4所述的掩模版贴膜设备，其特征在于，所述掩模版放置平台的一侧设有转动柱，所述定位框口可转动的设于所述转动柱。

9.如权利要求4所述的掩模版贴膜设备，其特征在于，所述定位框口的一侧设有缓冲件，所述缓冲件的一端与所述定位框口相抵接。

10.如权利要求4所述的掩模版贴膜设备，其特征在于，所述掩模版贴膜设备还包括掩模版驱动机构，所述掩模版驱动机构包括导轨和滑块，所述导轨设于所述基座，所述导轨朝向所述滑块设有多个排气口，所述掩模版放置平台设于所述滑块。