CN221005052U - 一种涡旋喷射式喷嘴结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于灶具技术领域，具体涉及一种涡旋喷射式喷嘴结构。所述喷嘴本体顶部均匀设有数个喷射孔，数个喷射孔均向喷嘴本体的中心内倾斜，且呈涡旋式分布。所述喷嘴本体的顶面为凹面，喷射孔内嵌在喷嘴本体顶部的内部。所述喷嘴本体的顶面为平面，喷射孔内嵌在喷嘴本体的内部，且喷射孔的顶部设有呈涡旋式结构分布的孔座，孔座的中心与喷射孔贯通。所述喷射孔的数量至少为3个。它借鉴涡流的效果，让三股（及以上）燃气气流围绕一个虚拟中心轴，从而在引射管进气口产生类似漩涡的效果，加大对周边空气的吸力，从而将更多的空气导入炉头预混腔。
Description
技术领域
本实用新型属于灶具技术领域，具体涉及一种涡旋喷射式喷嘴结构。
背景技术
常规灶具，都采用单喷嘴-引射管的结构；利用燃气喷射气流产生的负压，将引射管口附近空气吸入，与燃气在炉头预混腔内进行混合。受限于单股气流的引射能力，往往出现空气补充不足。
实用新型内容
为解决现有技术的缺陷和不足问题；本实用新型的目的在于一种结构简单，涉及合理的涡旋喷射式喷嘴结构。
为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：它包含喷嘴本体；所述喷嘴本体顶部均匀设有数个喷射孔，数个喷射孔均向喷嘴本体的中心内倾斜，且呈涡旋式分布。
作为优选，所述喷嘴本体的顶面为凹面，喷射孔内嵌在喷嘴本体顶部的内部。
作为优选，所述喷嘴本体的顶面为平面，喷射孔内嵌在喷嘴本体的内部，且喷射孔的顶部设有呈涡旋式结构分布的孔座，孔座的中心与喷射孔贯通。
作为优选，所述喷射孔的数量至少为3个，便于涡旋的形成。
本实用新型采用上述技术方案后，具有以下有益效果：它借鉴涡流的效果，让三股（及以上）燃气气流围绕一个虚拟中心轴，从而在引射管进气口产生类似漩涡的效果，加大对周边空气的吸力，从而将更多的空气导入炉头预混腔。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，本实用新型由下述的具体实施及附图作以详细描述。
图1为本实用新型的实施例一的主视图；
图2为本实用新型的实施例一的俯视图；
图3为本实用新型的实施例一的立体图；
图4为本实用新型的实施例二的主视图；
图5为本实用新型的实施例二的俯视图；
图6为本实用新型的实施例二的立体图；
附图标记说明：喷嘴本体1 、喷射孔11、孔座12。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面通过附图中示出的具体实施例来描述本实用新型。但是应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。
在此，还需要说明的是，为了避免因不必要的细节而模糊了本实用新型，在附图中仅仅示出了与根据本实用新型的方案密切相关的结构和/或处理步骤，而省略了与本实用新型关系不大的其他细节。
实施例一：
参看如图1-图3所示，本具体实施方式采用以下技术方案：它包含喷嘴本体1；所述喷嘴本体1顶部均匀设有三个喷射孔11，三个喷射孔11均向喷嘴本体1的中心内倾斜，且呈涡旋式分布。
所述喷嘴本体1的顶面为凹面，喷射孔11内嵌在喷嘴本体1顶部的内部。
实施例二： 参看如图4-图6所示，本具体实施方式采用以下技术方案：它包含喷嘴本体1；所述喷嘴本体1顶部均匀设有三个喷射孔11，三个喷射孔11均向喷嘴本体1的中心内倾斜，且呈涡旋式分布。
所述喷嘴本体1的顶面为平面，喷射孔11内嵌在喷嘴本体1的内部，且喷射孔11的顶部设有呈涡旋式结构分布的孔座12，孔座12的中心与喷射孔11贯通。
本实用新型中所述喷射孔11的数量至少为3个，便于涡旋的形成。
本实用新型借鉴涡流的效果，让三股（及以上）燃气气流围绕一个虚拟中心轴，从而在引射管进气口产生类似漩涡的效果，加大对周边空气的吸力，从而将更多的空气导入炉头预混腔。
对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (4)
1.一种涡旋喷射式喷嘴结构,它包含喷嘴本体，其特征在于：所述喷嘴本体顶部均匀设有数个喷射孔，数个喷射孔均向喷嘴本体的中心内倾斜，且呈涡旋式分布。
2.根据权利要求1所述的一种涡旋喷射式喷嘴结构,其特征在于：所述喷嘴本体的顶面为凹面，喷射孔内嵌在喷嘴本体顶部的内部。
3.根据权利要求1所述的一种涡旋喷射式喷嘴结构,其特征在于：所述喷嘴本体的顶面为平面，喷射孔内嵌在喷嘴本体的内部，且喷射孔的顶部设有呈涡旋式结构分布的孔座，孔座的中心与喷射孔贯通。
4.根据权利要求1所述的一种涡旋喷射式喷嘴结构,其特征在于：所述喷射孔的数量至少为3个。
Priority Applications (1)
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Country Status (1)
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2023
- 2023-09-19 CN CN202322540598.0U patent/CN221005052U/zh active Active
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