CN220984479U - 清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种清洗装置，包括夹持部件、检测部件和背面清洗部件，夹持部件用于对晶圆进行夹持，检测部件设置在夹持部件上，用于对夹持部件夹持的晶圆的背面的污染状态进行检测，背面清洗部件设置在夹持部件上，用于对夹持部件夹持的晶圆的背面进行清洗。本实用新型提供的清洗装置，能够减少晶圆背面受到污染的情况，提高晶圆背面的清洁度，减少半导体工艺中晶圆因背面受到污染而带来的问题，并且，能够有针对性的对受到污染的晶圆背面进行清洗，而非无差别的对每个晶圆的背面均进行清洗。

Description

清洗装置

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，具体地，涉及一种清洗装置。

背景技术

湿法清洗工艺是贯穿半导体工艺的重要工艺环节，为了降低清洗装置的使用成本以及提高清洗装置的产能，在湿法清洗工艺中，除必要的对晶圆背面进行清洗的湿法清洗工艺之外，多数湿法清洗工艺只对晶圆的正面进行清洗。

在现有的只对晶圆正面进行清洗的湿法清洗工艺过程中，晶圆被夹持在夹持装置上，化学药液通过喷淋部件喷淋向晶圆的正面，对晶圆的正面进行清洗，之后，去离子水(Deionized water，缩写为DIW)通过喷淋部件喷淋向晶圆的正面，去除化学药液，之后，向晶圆的正面吹送氮气，将晶圆的正面吹干，并且，在整个工艺过程中，还向晶圆的背面吹送氮气，防止晶圆正面的液体流到晶圆的背面。

但是，若喷淋部件出现异常情况，例如，工艺结束时未停止喷淋、仍有液体流出，由于工艺结束时向晶圆的背面吹送的氮气的流量相对于工艺过程中向晶圆的背面吹送的氮气流量较低，如：氮气流量可能会由100L/min降低至20L/min，因此，喷淋部件流出的液体可能会喷淋至夹持装置上，并反溅至晶圆的背面，造成晶圆背面的污染。背面被污染的晶圆不仅会影响其自身的半导体产品的电性能以及良率，并且，背面被污染的晶圆在清洗工艺结束后还会被机械手传输回晶圆盒中，造成传输机械手以及晶圆盒中位于其下方的晶圆正面被污染，进而影响整体半导体产品的电性能以及良率。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种清洗装置，其能够减少晶圆背面受到污染的情况，提高晶圆背面的清洁度，减少半导体工艺中晶圆因背面受到污染而带来的问题，并且，能够有针对性的对受到污染的晶圆背面进行清洗，而非无差别的对每个晶圆的背面均进行清洗。

为实现本实用新型的目的而提供一种清洗装置，包括夹持部件、检测部件和背面清洗部件，所述夹持部件用于对晶圆进行夹持，所述检测部件设置在所述夹持部件上，用于对所述夹持部件夹持的所述晶圆的背面的污染状态进行检测，所述背面清洗部件设置在所述夹持部件上，用于对所述夹持部件夹持的所述晶圆的背面进行清洗。

可选的，所述夹持部件包括支撑主体和多个夹持件，多个所述夹持件间隔设置在所述支撑主体的顶面上，用于配合共同对所述晶圆进行夹持，且多个所述夹持件配合共同夹持所述晶圆能够使所述晶圆的背面与所述支撑主体的顶面之间具有间隙，所述检测部件设置在所述支撑主体的顶面上，并能够与多个所述夹持件夹持的所述晶圆的背面相对。

可选的，所述清洗装置还包括旋转机构，所述旋转机构与所述支撑主体连接，用于通过驱动所述支撑主体旋转，来带动多个所述夹持件夹持的所述晶圆旋转，所述检测部件设置在所述支撑主体的顶面边缘，并能够与多个所述夹持件夹持的所述晶圆的背面边缘相对，用于对多个所述夹持件夹持的所述晶圆的背面边缘的污染状态进行检测。

可选的，所述检测部件包括光发射部、光接收部和光电转换器，所述光发射部用于向多个所述夹持件夹持的所述晶圆的背面发射检测光，所述光接收部用于接收所述晶圆的背面反射回的反射光，所述光电转换器与所述光接收部对应设置，用于将所述光接收部接收的所述反射光转换为电信号。

可选的，所述支撑主体上间隔设置有多个清洗孔，所述背面清洗部件包括清洗管路，多个所述清洗孔的一端均位于所述支撑主体的顶面，另一端均与所述清洗管路连通，所述清洗管路用于向多个所述清洗孔输送清洗介质。

可选的，所述清洗管路包括液体清洗管和气体清洗管，所述液体清洗管与多个所述清洗孔连通，用于向多个所述清洗孔输送清洗液体，所述清洗液体用于对所述夹持部件夹持的所述晶圆背面的污染物进行清洗，所述气体清洗管与多个所述清洗孔连通，用于向多个所述清洗孔输送干燥气体，所述干燥气体用于对所述夹持部件夹持的所述晶圆背面的所述清洗液体进行干燥。

可选的，多个所述清洗孔沿所述支撑主体的周向间隔设置在所述支撑主体的顶面边缘。

可选的，所述清洗管路贯穿所述旋转机构的内部至所述支撑主体与多个所述清洗孔连通。

可选的，所述检测部件的外部罩设有透明保护罩，且所述透明保护罩的材质为抗腐蚀性材质。

可选的，所述清洗装置还包括液体回收结构，所述夹持部件能够与所述液体回收结构相对应，且所述回收结构在所述夹持部件与所述液体回收结构相对的状态下环绕在所述夹持部件的周围，所述液体回收结构用于对所述夹持部件带动所述晶圆旋转甩出的清洗液体进行回收。

本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型提供的清洗装置，通过在夹持部件上设置检测部件和背面清洗部件，可以在晶圆的正面清洗结束后，借助检测部件对夹持部件夹持的晶圆的背面的污染状态进行检测，若晶圆的背面受到污染，则可以借助背面清洗部件对晶圆的背面进行清洗，若晶圆的背面未受到污染，则无需借助背面清洗部件对晶圆的背面进行清洗，从而能够减少晶圆背面受到污染的情况，提高晶圆背面的清洁度，减少半导体工艺中晶圆因背面受到污染而带来的问题，并且，能够有针对性的对受到污染的晶圆背面进行清洗，而非无差别的对每个晶圆的背面均进行清洗，进而能够改善半导体产品电性能以及良率。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的清洗装置的主视结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的检测部件及夹持部件夹持晶圆的主视结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的支撑主体的俯视结构示意图；

附图标记说明：

1-夹持部件；11-支撑主体；12-夹持件；13-清洗孔；2-检测部件；

3-背面清洗部件；31-液体清洗管；32-气体清洗管；4-旋转机构；5-液体回收结构；51-化学药液回收结构；52-水回收结构；61-化学药液喷淋摆臂；62-清洗水喷淋摆臂；63-干燥气体输送摆臂；7-晶圆。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型提供的清洗装置进行详细描述。

如图1所示，本实用新型实施例提供一种清洗装置，包括夹持部件1、检测部件2和背面清洗部件3，夹持部件1用于对晶圆7进行夹持，检测部件2设置在夹持部件1上，用于对夹持部件1夹持的晶圆7的背面的污染状态进行检测，背面清洗部件3设置在夹持部件1上，用于对夹持部件1夹持的晶圆7的背面进行清洗。

本实用新型实施例提供的清洗装置，通过在夹持部件1上设置检测部件2和背面清洗部件3，可以在晶圆7的正面清洗结束后，借助检测部件2对夹持部件1夹持的晶圆7的背面的污染状态进行检测，若晶圆7的背面受到污染，则可以借助背面清洗部件3对晶圆7的背面进行清洗，若晶圆7的背面未受到污染，则无需借助背面清洗部件3对晶圆7的背面进行清洗，从而能够减少晶圆7背面受到污染的情况，提高晶圆7背面的清洁度，减少半导体工艺中晶圆7因背面受到污染而带来的问题，并且，能够有针对性的对受到污染的晶圆7背面进行清洗，而非无差别的对每个晶圆7的背面均进行清洗，进而能够改善半导体产品电性能以及良率。

如图1和图2所示，在本实用新型一实施例中，夹持部件1可以包括支撑主体11和多个夹持件12，多个夹持件12间隔设置在支撑主体11的顶面上，用于配合共同对晶圆7进行夹持，且多个夹持件12配合共同夹持晶圆7能够使晶圆7的背面与支撑主体11的顶面之间具有间隙，检测部件2设置在支撑主体11的顶面上，并能够与多个夹持件12夹持的晶圆7的背面相对。

在实际应用中，多个夹持件12可以从晶圆7边缘不同的多个位置通过对晶圆7的边缘进行夹持，来对晶圆7进行夹持，当多个夹持件12配合共同夹持晶圆7时，晶圆7的背面朝向支撑主体11的顶面，并与支撑主体11的顶面之间具有间隙，此时，晶圆7的正面背离支撑主体11的顶面。通过在支撑主体11的顶面上设置检测部件2，并使检测部件2能够与多个夹持件12夹持的晶圆7的背面相对，可以使检测部件2在多个夹持件12配合共同夹持晶圆7时位于支撑部件的顶面与晶圆7的背面之间的间隙中，从而可以借助检测部件2对晶圆7的背面的污染状态进行检测。

如图1所示，在本实用新型一实施例中，清洗装置可以还包括旋转机构4，旋转机构4与支撑主体11连接，用于通过驱动支撑主体11旋转，来带动多个夹持件12夹持的晶圆7旋转，检测部件2设置在支撑主体11的顶面边缘，并能够与多个夹持件12夹持的晶圆7的背面边缘相对，用于对多个夹持件12夹持的晶圆7的背面边缘的污染状态进行检测。

在实际应用中，当对晶圆7的正面和背面进行清洗时，旋转机构4可以驱动支撑主体11旋转，多个夹持件12夹持的晶圆7可以随支撑主体11的旋转而旋转。在对晶圆7的正面进行清洗的过程中，不论是有液体由晶圆7的正面流动至晶圆7的背面，对晶圆7的背面造成污染，还是有液体滴落至夹持部件1反溅至晶圆7的背面，对晶圆7的背面造成污染，液体通常会处于晶圆7的背面边缘，也就是说，在对晶圆7的正面清洗的过程中，当晶圆7的背面有液体污染时，污染液体通常会处于晶圆7的背面边缘。并且，由于在对晶圆7的正面清洗的过程中，晶圆7会随支撑主体11的旋转而旋转，因此，晶圆7背面的污染液体会因离心力而在晶圆7的背面边缘的周向上形成污染痕迹，也就是说，在对晶圆7的正面清洗的过程中，当晶圆7的背面有液体污染时，污染液体通常会在晶圆7的背面边缘的整个周向上形成污染痕迹。通过在支撑主体11的顶面边缘设置检测部件2，并使检测部件2能够与多个夹持件12夹持的晶圆7的背面边缘相对，借助检测部件2对多个夹持件12夹持的晶圆7的背面边缘的污染状态进行检测，就可以对夹持部件1夹持的晶圆7的背面的污染状态进行检测，也就是说，若检测部件2检测到多个夹持件12夹持的晶圆7的背面边缘受到污染，则可以表示夹持部件1夹持的晶圆7的背面受到污染，若检测部件2检测到多个夹持件12夹持的晶圆7的背面边缘未受到污染，则可以表示夹持部件1夹持的晶圆7的背面未受到污染。

在本实用新型一实施例中，检测部件2可以包括光发射部、光接收部和光电转换器，光发射部用于向多个夹持件12夹持的晶圆7的背面发射检测光，光接收部用于接收晶圆7的背面反射回的反射光，光电转换器与光接收部对应设置，用于将光接收部接收的反射光转换为电信号。

在实际应用中，当检测部件2对晶圆7的背面的污染状态进行检测时，光发射部向多个夹持件12夹持的晶圆7的背面发射检测光，晶圆7的背面能够将检测光反射形成反射光，并使反射光反射回光接收部，光接收部可以接收反射光，通过与光接收部对应设置光电转换器，可以借助光电转换器将光接收部接收的反射光转换为电信号(电流信号)，由于晶圆7背面受到污染和未受到污染时，即，晶圆7背面的污染状态不同时，光电转换器转换发射光产生的电信号会不同，因此，可以根据光电转换器的电信号来识别晶圆7的背面是否受到污染，从而能够实现对晶圆7背面的污染状态进行检测。

如图1和图3所示，在本实用新型一实施例中，支撑主体11上可以间隔设置有多个清洗孔13，背面清洗部件3可以包括清洗管路，多个清洗孔13的一端均位于支撑主体11的顶面，另一端均与清洗管路连通，清洗管路用于向多个清洗孔13输送清洗介质。

在实际应用中，清洗管路可以向多个清洗孔13输送清洗介质，清洗介质经过多个清洗孔13后，可以经清洗孔13的位于支撑主体11顶面的一端向上喷淋至夹持部件1夹持的晶圆7的背面，对夹持部件1夹持的晶圆7的背面进行清洗。

可选的，在本实用新型一实施例中，支撑主体11的内部可以设置有清洗通道，多个清洗孔13的另一端均通过清洗通道与清洗管路连通。

也就是说，可选的，多个清洗孔13的另一端可以均与清洗通道连通，清洗管路通过与清洗通道连通，来与多个清洗孔13的另一端连通。在实际应用中，清洗管路可以先将清洗介质输送向清洗通道，清洗介质在流经清洗通道的过程中，可以进入多个清洗孔13，再经多个清洗孔13向上喷淋至夹持部件1夹持的晶圆7的背面。

如图1所示，在本实用新型一实施例中，清洗管路可以包括液体清洗管31和气体清洗管32，液体清洗管31与多个清洗孔13连通，用于向多个清洗孔13输送清洗液体，清洗液体用于对夹持部件1夹持的晶圆7背面的污染物进行清洗，气体清洗管32与多个清洗孔13连通，用于向多个清洗孔13输送干燥气体，干燥气体用于对夹持部件1夹持的晶圆7背面的清洗液体进行干燥。

在对夹持部件1夹持的晶圆7的背面进行清洗的过程中，可以先通过液体清洗管31向多个清洗孔13输送清洗液体，清洗液体经多个清洗孔13向上喷淋至夹持部件1夹持的晶圆7的背面，对夹持部件1夹持的晶圆7的背面进行清洗，之后，可以再通过气体清洗管32向多个清洗孔13输送干燥气体，干燥气体经多个清洗孔13向上喷射至夹持部件1夹持的晶圆7的背面，对夹持部件1夹持的晶圆7的背面的清洗液体进行干燥。

可选的，清洗液体可以包括去离子水(Deionized water，缩写为DIW)。

可选的，干燥气体可以包括氮气(N₂)。

如图3所示，在本实用新型一实施例中，多个清洗孔13可以沿支撑主体11的周向间隔设置在支撑主体11的顶面边缘。

这样的设计可以借助多个清洗孔13向夹持部件1夹持的晶圆7的背面边缘的整个周向上输送清洗介质，对晶圆7的背面边缘的整个周向上的污染痕迹进行清洗。

可选的，多个清洗孔13可以沿支撑主体11的周向均匀间隔设置在支撑主体11的顶面边缘。

这样的设计可以提高多个清洗孔13向夹持部件1夹持的晶圆7的背面边缘的整个周向上输送清洗介质的均匀性，从而能够提高对晶圆7的背面边缘的整个周向上的污染痕迹进行清洗的均匀性。

如图1所示，在本实用新型一实施例中，清洗管路可以贯穿旋转机构4的内部至支撑主体11与多个清洗孔13连通。

在实际应用中，旋转机构4可以设置在支撑主体11的底部，清洗管路可以从旋转机构4的内部穿过至支撑主体11的底部，从而能够与支撑主体11上间隔设置的多个清洗孔14连通。但是，清洗管路的设置方式并不以此为限，例如，清洗管路也可以从旋转机构4的外部经过直接与支撑主体11的多个清洗孔13连通。

在本实用新型一实施例中，检测部件2的外部可以罩设有透明保护罩，且透明保护罩的材质为抗腐蚀性材质。

借助透明保护罩的抗腐蚀性可以防止透明保护罩受到对晶圆7正面进行清洗的化学药液的腐蚀，从而能够防止检测部件2受到化学药液的腐蚀，提高检测部件2的使用稳定性及使用寿命，并且，借助透明保护罩的透明性可以防止透明保护罩对检测部件2发射光及接收光造成影响，使检测部件2能够正常工作。

可选的，透明保护罩的材质可以为聚甲基丙烯酸甲酯(PolymethylMethacrylate，缩写为PMMA)。

如图1所示，在本实用新型一实施例中，清洗装置可以还包括液体回收结构5，夹持部件1能够与液体回收结构5相对应，且回收结构在夹持部件1与液体回收结构5相对的状态下环绕在夹持部件1的周围，液体回收结构5用于对夹持部件1带动晶圆7旋转甩出的清洗液体进行回收。

可选的，清洗装置可以还包括正面清洗部件，正面清洗部件用于对夹持部件1夹持的晶圆7的正面进行清洗。

如图1所示，可选的，正面清洗部件可以包括化学药液喷淋摆臂61、清洗水喷淋摆臂62和干燥气体输送摆臂63，化学药液喷淋摆臂61可相对于夹持部件1摆动，用于向夹持部件1夹持的晶圆7的正面喷淋化学药液，清洗水喷淋摆臂62可相对于夹持部件1摆动，用于向夹持部件1夹持的晶圆7的正面喷淋清洗水，以去除晶圆7正面的化学药液，干燥气体输送摆臂63可相对于夹持部件1摆动，用于向夹持部件1夹持的晶圆7的正面输送干燥气体，以对晶圆7的正面进行干燥。

可选的，液体回收结构5可以包括化学药液回收结构51和水回收结构52，化学药液回收结构51用于对夹持部件1带动晶圆7旋转甩出的化学药液进行回收，水回收结构52用于对夹持部件1带动晶圆7旋转甩出的清洗水和清洗液体进行回收。

可选的，清洗装置可以还包括升降机构，升降机构与夹持部件1连接，用于驱动夹持部件1升降，使夹持部件1与化学药液回收结构51相对应，或与水回收结构52相对应。

具体来说，在利用本实用新型实施例提供的清洗装置对晶圆7进行清洗的过程中，可以先对晶圆7的正面进行清洗，在晶圆7正面清洗结束后，再对晶圆7的背面进行清洗。在对晶圆7的正面进行清洗时，可以先借助夹持部件1对晶圆7进行夹持，之后，旋转机构4可以驱动夹持部件1旋转，来带动晶圆7旋转，化学药液喷淋摆臂61可以向晶圆7的正面喷淋化学药液，并相对于晶圆7的正面摆动，以对晶圆7的正面进行清洗，气体清洗管32可以向多个清洗孔13输送干燥气体，多个清洗孔13可以将干燥气体输送向晶圆7的背面(干燥气体的流量可以为100L/min)，以避免化学药液流动至晶圆7的背面升，升降机构可以驱动夹持部件1升降与化学药液回收结构51相对应，以借助化学药液回收结构51对夹持部件1带动晶圆7旋转甩出的化学药液回收。

之后，清洗水喷淋摆臂62可以向晶圆7的正面喷淋清洗水，并相对于晶圆7的正面摆动，以对晶圆7正面的化学药液进行去除，升降机构可以驱动夹持部件1升降与水回收结构52相对应，以借助水回收结构52对夹持部件1带动晶圆7旋转甩出的清洗水进行回收。之后，干燥气体输送摆臂63可以向晶圆7的正面输送干燥气体，并相对于晶圆7的正面摆动，以对晶圆7正面的清洗水进行干燥，从而完成对晶圆7的正面的清洗。在对晶圆7正面的清洗结束后，可以借助检测部件2对晶圆7背面的污染状态进行检测，若检测到晶圆7的背面未受到污染，则夹持部件1可以取消对晶圆7的夹持，传输机械手可以将晶圆7取走并传输至晶圆盒。

若检测到晶圆7的背面受到污染，则可以对晶圆7的背面进行清洗，在对晶圆7的背面进行清洗时，旋转机构4可以驱动夹持部件1旋转，来带动晶圆7旋转(旋转速度可以为400r)，液体清洗管31可以向多个清洗孔13输送清洗液体，多个清洗孔13可以将清洗液体喷淋至晶圆7的背面，以去除晶圆7背面的化学药液(清洗液体的流量可以以为1.5L/min，清洗时间可以为20s)，升降机构可以驱动夹持部件1升降与水回收结构52相对应，以借助水回收结构52对夹持部件1带动晶圆7旋转甩出的清洗液体进行回收。之后，旋转机构4驱动夹持部件1旋转带动晶圆7旋转的旋转速度可以为1500r，气体清洗管32可以向多个清洗孔13输送干燥气体，多个清洗孔13可以将干燥气体输送向晶圆7的背面(干燥气体的流量可以为100L/min，干燥时间可以为15s)，以对晶圆7背面的清洗液体进行干燥，从而完成对晶圆7的背面的清洗。在对晶圆7背面的清洗结束后，可以再次借助检测部件2对晶圆7背面的污染状态进行检测，若检测到晶圆7的背面仍受到污染，则再次对晶圆7的背面进行清洗，直至检测到晶圆7的背面未受到污染，则夹持部件1可以取消对晶圆7的夹持，传输机械手可以将晶圆7取走并传输至晶圆盒。

可选的，如表1所示，晶圆7背面的清洗的工艺参数可以根据需要进行调整。

表1

综上所述，本实用新型实施例提供的清洗装置，能够减少晶圆7背面受到污染的情况，提高晶圆7背面的清洁度，减少半导体工艺中晶圆7因背面受到污染而带来的问题，并且，能够有针对性的对受到污染的晶圆7背面进行清洗，而非无差别的对每个晶圆7的背面均进行清洗。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变形和改进，这些变形和改进也视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种清洗装置，其特征在于，包括夹持部件、检测部件和背面清洗部件，所述夹持部件用于对晶圆进行夹持，所述检测部件设置在所述夹持部件上，用于对所述夹持部件夹持的所述晶圆的背面的污染状态进行检测，所述背面清洗部件设置在所述夹持部件上，用于对所述夹持部件夹持的所述晶圆的背面进行清洗。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述夹持部件包括支撑主体和多个夹持件，多个所述夹持件间隔设置在所述支撑主体的顶面上，用于配合共同对所述晶圆进行夹持，且多个所述夹持件配合共同夹持所述晶圆能够使所述晶圆的背面与所述支撑主体的顶面之间具有间隙，所述检测部件设置在所述支撑主体的顶面上，并能够与多个所述夹持件夹持的所述晶圆的背面相对。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括旋转机构，所述旋转机构与所述支撑主体连接，用于通过驱动所述支撑主体旋转，来带动多个所述夹持件夹持的所述晶圆旋转，所述检测部件设置在所述支撑主体的顶面边缘，并能够与多个所述夹持件夹持的所述晶圆的背面边缘相对，用于对多个所述夹持件夹持的所述晶圆的背面边缘的污染状态进行检测。

4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述检测部件包括光发射部、光接收部和光电转换器，所述光发射部用于向多个所述夹持件夹持的所述晶圆的背面发射检测光，所述光接收部用于接收所述晶圆的背面反射回的反射光，所述光电转换器与所述光接收部对应设置，用于将所述光接收部接收的所述反射光转换为电信号。

5.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑主体上间隔设置有多个清洗孔，所述背面清洗部件包括清洗管路，多个所述清洗孔的一端均位于所述支撑主体的顶面，另一端均与所述清洗管路连通，所述清洗管路用于向多个所述清洗孔输送清洗介质。

6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗管路包括液体清洗管和气体清洗管，所述液体清洗管与多个所述清洗孔连通，用于向多个所述清洗孔输送清洗液体，所述清洗液体用于对所述夹持部件夹持的所述晶圆背面的污染物进行清洗，所述气体清洗管与多个所述清洗孔连通，用于向多个所述清洗孔输送干燥气体，所述干燥气体用于对所述夹持部件夹持的所述晶圆背面的所述清洗液体进行干燥。

7.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，多个所述清洗孔沿所述支撑主体的周向间隔设置在所述支撑主体的顶面边缘。

8.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗管路贯穿所述旋转机构的内部至所述支撑主体与多个所述清洗孔连通。

9.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述检测部件的外部罩设有透明保护罩，且所述透明保护罩的材质为抗腐蚀性材质。

10.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括液体回收结构，所述夹持部件能够与所述液体回收结构相对应，且所述回收结构在所述夹持部件与所述液体回收结构相对的状态下环绕在所述夹持部件的周围，所述液体回收结构用于对所述夹持部件带动所述晶圆旋转甩出的清洗液体进行回收。