CN220976677U - 一种储卤池预处理镁离子的装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种储卤池预处理镁离子的装置，涉及氯碱企业全卤制碱技术领域。它包括储卤池、氢氧化钠第一输送管路、清淤泵和清淤管路，氢氧化钠第一输送管路与储卤池相连通并且能够向储卤池内通入氢氧化钠，能够预先去除部分镁离子，有效保证了送至后序工序的Mg2+含量稳定在150mg/L以下，缓解了由于卤水中Mg2+含量偏大或波动较大导致预处理器频繁返浑的问题，使得预处理器能够高效稳定运行，因而确保了生产装置的满负荷运行，清淤泵设置在储卤池内部并且与清淤管路的一端相连通，储卤池内部的沉淀物通过清淤泵输送至清淤管路后排出，有效保证了储卤池的有效容积，确保预处理器的高效稳定运行。
Description
技术领域
本实用新型涉及氯碱企业全卤制碱技术领域，尤其是涉及一种储卤池预处理镁离子的装置。
背景技术
目前在氯碱企业全卤制碱生产中，卤水中的镁离子通常在一次盐水精制工序时加入氢氧化钠精制剂进行处理，即在盐水中加入氢氧化钠溶液，使其与盐水中的Mg2+反应，生成不溶性的氢氧化镁沉淀，其反应原理如下：Mg2++2OH-＝Mg(OH)2↓。利用此方法将Mg2+以氢氧化镁沉淀带出系统，同时为了将Mg2+除净，氢氧化钠的加入量需要超过反应的理论需要量，即氢氧化钠需要加入过量，氢氧化钠过碱量通常为50mg/L～200mg/L。
本申请人发现现有技术中至少存在以下技术问题：当一次盐水精制工艺选用预处理器和膜过滤器工艺时，在运行过程中，当卤水中Mg2+含量超过150mg/L以上或卤水中Mg2+含量变化较大时，极易引起预处理器的返浑现象，严重影响一次盐水精制装置的满负荷运行。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种储卤池预处理镁离子的装置，以解决现有技术中存在的当卤水中Mg2+含量超过150mg/L以上或卤水中Mg2+含量变化较大时，极易引起预处理器的返浑现象，严重影响一次盐水精制装置的满负荷运行的技术问题。本实用新型提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。
为实现上述目的，本实用新型提供了以下技术方案：
一种储卤池预处理镁离子的装置，包括储卤池、氢氧化钠第一输送管路、清淤泵和清淤管路，所述氢氧化钠第一输送管路与所述储卤池相连通并且能够向所述储卤池内通入氢氧化钠，所述清淤泵设置在所述储卤池内部并且与所述清淤管路的一端相连通，所述储卤池内部的沉淀物通过所述清淤泵输送至所述清淤管路后排出。
优选地，还包括固液分离机构，所述固液分离机构与所述清淤管路的另一端相连通。
优选地，所述固液分离机构为板框压滤机。
优选地，还包括转卤泵、前反应槽、氢氧化钠第二输送管路、加压泵和预处理器，所述储卤池通过管路与所述转卤泵相连通，所述转卤泵通过管路与所述前反应槽相连通，所述氢氧化钠第二输送管路与所述前反应槽相连通并且能够向所述前反应槽内通入氢氧化钠，所述前反应槽通过管路与所述加压泵相连通，所述加压泵通过管路与所述预处理器相连通。
优选地，所述储卤池的数量为两个，两个所述储卤池均通过管路与所述转卤泵相连通，所述清淤泵能够放置在任意一个所述储卤池中。
优选地，所述氢氧化钠第一输送管路的另一端与外部氢氧化钠供给设备相连通。
优选地，所述氢氧化钠第二输送管路的另一端与外部氢氧化钠供给设备相连通。
优选地，所述清淤泵设置在所述储卤池内部的底部。
本实用新型的有益效果为：通过设置有与储卤池相连通氢氧化钠第一输送管路，氢氧化钠第一输送管路能够向储卤池内通入氢氧化钠，如此操作能够预先去除部分镁离子，有效保证了送至后序工序的Mg2+含量稳定在150mg/L以下，缓解了由于卤水中Mg2+含量偏大或波动较大导致预处理器频繁返浑的问题，使得预处理器能够高效稳定运行，因而确保了生产装置的满负荷运行；
通过设置有清淤泵和清淤管路，储卤池内部的氢氧化镁沉淀物能够通过清淤泵输送至清淤管路后排出，有效保证了储卤池的有效容积，确保预处理器的高效稳定运行。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的结构图；
图中1、储卤池；2、氢氧化钠第一输送管路；3、清淤泵；4、清淤管路；5、固液分离机构；6、转卤泵；7、前反应槽；8、氢氧化钠第二输送管路；9、加压泵；10、预处理器。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本实用新型的技术方案进行详细的描述。显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式，都属于本实用新型所保护的范围。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“侧向”、“长度”、“宽度”、“高度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“侧”等指示的方位或位置关系为基于附图1所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
实施例一
参照图1，本实用新型提到了一种储卤池预处理镁离子的装置，包括储卤池1、氢氧化钠第一输送管路2、清淤泵3和清淤管路4，氢氧化钠第一输送管路2与储卤池1相连通，清淤泵3设置在储卤池1内部并且与清淤管路4的一端相连通；
通过设置有与储卤池1相连通氢氧化钠第一输送管路2，氢氧化钠第一输送管路2能够向储卤池1内通入氢氧化钠，如此操作能够预先去除部分镁离子，有效保证了送至后序工序的Mg2+含量稳定在150mg/L以下，缓解了由于卤水中Mg2+含量偏大或波动较大导致预处理器10频繁返浑的问题，使得预处理器10能够高效稳定运行，因而确保了生产装置的满负荷运行；
通过设置有清淤泵3和清淤管路4，储卤池1内部的氢氧化镁沉淀物能够通过清淤泵3输送至清淤管路4后排出，有效保证了储卤池1的有效容积，确保预处理器10的高效稳定运行。
作为可选地实施方式，还包括固液分离机构5，固液分离机构5与清淤管路4的另一端相连通，通过清淤泵3将沉积的氢氧化镁沉淀物以及部分污水输送至清淤管路4中，由清淤管路4输送至固液分离机构5，有效地保证了储卤池1的有效容积，固液分离机构5能够将氢氧化镁沉淀物与污水进行固液分离，实现对氢氧化镁沉淀的收集和进一步处理；
本实施例中，固液分离机构5优选为板框压滤机，板框压滤机具有过滤推动力大、滤饼含固率高、滤液清澈、固体回收率高、调理药品消耗量少等优点，适用于用作于固液分离机构5，实现对氢氧化镁沉淀的有效处理。
作为可选地实施方式，氢氧化钠第一输送管路2的另一端与外部氢氧化钠供给设备相连通，外部氢氧化钠供给设备能够向氢氧化钠第一输送管路2中输送氢氧化钠，通过氢氧化钠第一输送管路2向储卤池1中加入氢氧化钠。
作为可选地实施方式，清淤泵3优选设置在储卤池1内部的底部，以获得最好的清淤输送效果。
实施例二
在实施例一的基础上，作为可选地实施方式，还包括转卤泵6、前反应槽7、氢氧化钠第二输送管路8、加压泵9和预处理器10，储卤池1通过管路与转卤泵6相连通，转卤泵6通过管路与前反应槽7相连通，储卤池1内的卤水能够通过转卤泵6输送至前反应槽7中；
氢氧化钠第二输送管路8与前反应槽7相连通并且能够向前反应槽7内通入氢氧化钠，向前反应槽7内通入氢氧化钠能够继续去除剩余的镁离子，持续保证Mg2+含量稳定在150mg/L以下，使得预处理器10能够高效稳定运行，因而确保了生产装置的满负荷运行；
前反应槽7通过管路与加压泵9相连通，加压泵9通过管路与预处理器10相连通，前反应槽7内的卤水能够通过加压泵9输送至预处理器10中。
作为可选地实施方式，氢氧化钠第二输送管路8的另一端与外部氢氧化钠供给设备相连通，外部氢氧化钠供给设备能够向氢氧化钠第二输送管路8中输送氢氧化钠，通过氢氧化钠第二输送管路8向前反应槽7中加入氢氧化钠。
实施例三
在实施例一的基础上，作为可选地实施方式，由于向储卤池1加入了氢氧化钠，氢氧化钠与镁离子反应生成氢氧化镁沉淀，氢氧化镁沉淀物会在储卤池1中沉积，当氢氧化镁沉淀物沉积过多时会严重影响储卤池1的有效容积；
因此，储卤池1的数量优选为两个，两个储卤池1均通过管路与转卤泵6相连通，清淤泵3能够放置在任意一个储卤池1中，如此设置，两个储卤池1能够进行单独隔离，在生产过程中，可投运一个储卤池1并且停运隔离另一个储卤池1，停运隔离出的储卤池1能够利用清淤泵3将沉积的氢氧化镁沉淀物输送至板框压滤机进行处理，有效处理了氢氧化镁沉积导致储卤池1有效容积降低的问题；
为了便于展示，附图中只展示了储卤池1的数量为一个的结构形式。
以上，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (8)
1.一种储卤池预处理镁离子的装置，其特征在于，包括储卤池(1)、氢氧化钠第一输送管路(2)、清淤泵(3)和清淤管路(4)，所述氢氧化钠第一输送管路(2)与所述储卤池(1)相连通并且能够向所述储卤池(1)内通入氢氧化钠，所述清淤泵(3)设置在所述储卤池(1)内部并且与所述清淤管路(4)的一端相连通，所述储卤池(1)内部的沉淀物通过所述清淤泵(3)输送至所述清淤管路(4)后排出。
2.根据权利要求1所述的储卤池预处理镁离子的装置，其特征在于，还包括固液分离机构(5)，所述固液分离机构(5)与所述清淤管路(4)的另一端相连通。
3.根据权利要求2所述的储卤池预处理镁离子的装置，其特征在于，所述固液分离机构(5)为板框压滤机。
4.根据权利要求1所述的储卤池预处理镁离子的装置，其特征在于，还包括转卤泵(6)、前反应槽(7)、氢氧化钠第二输送管路(8)、加压泵(9)和预处理器(10)，所述储卤池(1)通过管路与所述转卤泵(6)相连通，所述转卤泵(6)通过管路与所述前反应槽(7)相连通，所述氢氧化钠第二输送管路(8)与所述前反应槽(7)相连通并且能够向所述前反应槽(7)内通入氢氧化钠，所述前反应槽(7)通过管路与所述加压泵(9)相连通，所述加压泵(9)通过管路与所述预处理器(10)相连通。
5.根据权利要求4所述的储卤池预处理镁离子的装置，其特征在于，所述储卤池(1)的数量为两个，两个所述储卤池(1)均通过管路与所述转卤泵(6)相连通，所述清淤泵(3)能够放置在任意一个所述储卤池(1)中。
6.根据权利要求1所述的储卤池预处理镁离子的装置，其特征在于，所述氢氧化钠第一输送管路(2)的另一端与外部氢氧化钠供给设备相连通。
7.根据权利要求4所述的储卤池预处理镁离子的装置，其特征在于，所述氢氧化钠第二输送管路(8)的另一端与外部氢氧化钠供给设备相连通。
8.根据权利要求1所述的储卤池预处理镁离子的装置，其特征在于，所述清淤泵(3)设置在所述储卤池(1)内部的底部。
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