CN220945896U - 一种供釉机构及喷釉设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种供釉机构及喷釉设备。该供釉机构包括第一容器,具有第一接口、第二接口以及第三接口;第二容器,具有第四接口以及第五接口;第一容器通过输送通道连通至第二容器;调压装置,连接至气源;第一阀门结构,调压装置通过第一阀门结构连接第一接口,以使调压装置通过第一阀门结构对第一容器调压;阀门组件,调压装置通过阀门组件连接第一接口和第四接口,以使调压装置通过阀门组件对第一容器和第二容器调压;第二接口和第五接口连接阀门组件,以使第一容器和第二容器通过阀门组件排气;以及输液装置,具有第一输出口,第一输出口连通第三接口。该供釉机构能够稳定喷釉打印时釉料的压力。
Description
技术领域
本实用新型涉及喷釉机技术领域,尤其涉及一种供釉机构及喷釉设备。
背景技术
喷釉是现代陶瓷施釉技法之一,具体为用喷枪或喷雾器使釉浆均匀地喷到坯体表面。目前的喷釉机均需要供釉机构以将储釉容器(例如储釉罐)中的釉料供应至喷釉模块(例如喷枪或喷雾器)。现有的供釉机构一般是采用泵向喷釉模块中持续泵入釉料。但是这种供釉机构中泵的压力波动较大,而影响喷釉效果。
实用新型内容
本实用新型实施例为了解决现有技术中的供釉机构中泵的压力波动较大,而影响喷釉效果的技术问题,提供一种供釉机构及喷釉设备。
为了解决上述技术问题,一方面,本实用新型实施例提供了一种供釉机构,用于向喷釉模块供应釉料,所述喷釉模块具有输送通道,所述输送通道上设有若干喷釉孔,所述喷釉模块包括对应至所述喷釉孔的若干喷釉阀门,所述喷釉阀门控制所述喷釉孔的打开或关闭;所述供釉机构包括:
第一容器,具有第一接口、第二接口以及第三接口;
第二容器,具有第四接口以及第五接口;所述第一容器通过所述输送通道连通至所述第二容器;
调压装置,连接至气源;
阀门组件,所述调压装置通过所述阀门组件连接所述第一接口和所述第四接口,以使所述调压装置通过所述阀门组件对所述第一容器和所述第二容器调压;所述第二接口和所述第五接口连接所述阀门组件,以使所述第一容器和所述第二容器通过所述阀门组件排气;以及
输液装置,具有第一输出口,所述第一输出口连通所述第三接口。
在一些实施例中,所述供釉机构还包括:
循环装置,所述循环装置具有第二输入口,所述第二容器还具有第六接口;所述第二输入口连通所述第六接口。
在一些实施例中,所述阀门组件包括第一阀门结构以及第二阀门结构;
所述调压装置通过所述第一阀门结构连接所述第一接口,以使所述调压装置通过所述第一阀门结构对所述第一容器调压;所述第一阀门结构连接所述第二接口以使所述第一容器通过所述第一阀门结构排气;所述调压装置通过所述第二阀门结构连接所述第四接口,以使所述调压装置通过所述第二阀门结构对所述第二容器调压;所述第二阀门结构连接所述第五接口以使所述第二容器通过所述第二阀门结构排气;
或,所述调压装置通过第一阀门结构连接所述第一接口和第四接口,以使所述调压装置通过所述第一阀门结构对所述第一容器和所述第二容器调压;所述第二接口和所述第五接口连接所述第二阀门结构,以使所述第一容器和所述第二容器通过所述第二阀门结构排气。
在一些实施例中,所述第一阀门结构包括第一阀门件和第二阀门件,所述调压装置通过所述第一阀门件连接所述第一接口,以使所述调压装置通过所述第一阀门件对所述第一容器调压;所述第二阀门件连接所述第二接口以使所述第一容器通过所述第二阀门件排气;
所述第二阀门结构包括第三阀门件和第四阀门件,所述调压装置通过所述第三阀门件连接所述第四接口,以使所述调压装置通过所述第三阀门件对所述第二容器调压;所述第四阀门件连接所述第五接口以使所述第二容器通过所述第四阀门件排气。
在一些实施例中,所述第一阀门结构和/或所述第二阀门结构包括三位四通阀。
在一些实施例中,所述供釉机构还包括缓冲罐和过滤器,所述调压装置依次通过所述过滤器和所述缓冲罐连接所述第一阀门结构和/或所述第二阀门结构。
在一些实施例中,所述第一容器的底部设有第八接口,所述第二容器底部设有第九接口,所述输送通道的两端分别连接所述第八接口和所述第九接口;所述第八接口和所述第九接口分别沿所述第一容器和所述第二容器的长度方向等距布置,以使多个所述喷釉模块等距分布在所述第一容器和所述第二容器的下方。
在一些实施例中,所述第一容器具有相对设置的第一端和第二端,所述第一接口和所述第二接口均连接于所述第一端的顶部,所述第三接口连接于所述第二端的底部。
在一些实施例中,所述第二容器与所述第一容器并排设置,所述第二容器具有远离所述第三接口的第三端,所述第四接口以及所述第五接口连接于所述第三端的顶部,所述第六接口连接于所述第三端的底部。
另一方面,本实用新型实施例还提供了一种喷釉设备,包括:
喷釉模块;以及
所述的供釉机构。
实施本实用新型实施例,具有如下有益效果:该供釉机构通过第一容器和第二容器的进排气控制,至少能够实现输入釉料、喷釉打印和容器清洗等步骤;该供釉机构通过调压装置在喷釉打印步骤中对第一容器精确调压,能够稳定喷釉打印时釉料的压力,以改善喷釉效果。
附图说明
图1是本实用新型一种供釉机构的第一实施例结构示意图;
图2是图1中的供釉机构的连接示意图;
图3是本实用新型一种供釉机构的第一实施例连接示意图;
图4是图1中的第一容器、第二容器以及喷釉模块的仰视图;
图5是沿图4中所示A-A线的剖视图;
图6是图5中所示B区域的局部放大图。
附图标号说明:
100、供釉机构;110、第一容器;111、第一接口;112、第二接口;113、第三接口;115、第八接口;116、第一端;117、第二端;120、第二容器;121、第四接口;122、第五接口;123、第六接口;124、第九接口;125、第三端;130、输液装置;131、第一电磁阀;140、调压装置;143、缓冲罐;144、过滤器;160、循环装置;161、第二电磁阀;180、第一阀门结构;181、第一阀门件;182、第二阀门件;190、第二阀门结构;191、第三阀门件;192、第四阀门件;200、喷釉模块;210、输送通道;211、喷釉孔;220、喷釉阀门;221、阀体;222、线圈;223、阀芯;224、弹簧;225、堵塞件;300、储存容器。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述。仅此声明,本实用新型在文中出现或即将出现的上、下、左、右、前、后、内、外等方位用词,仅以本实用新型的附图为基准,其并不是对本实用新型的具体限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”、“固定”等应做广义理解,例如,“固定”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本实用新型中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本实用新型要求的保护范围之内。
本实用新型的一实施例,如图1至图6所示,提供了一种供釉机构100,用于向喷釉模块200供应釉料。喷釉模块200具有输送通道210,输送通道210上设有若干喷釉孔211,喷釉模块200包括对应至喷釉孔211的若干喷釉阀门220,喷釉阀门220控制喷釉孔211的打开或关闭。该喷釉阀门220为顶针阀,更详细地,该喷釉阀门220包括阀体221、线圈222、阀芯223和弹簧224,线圈222和阀芯223设于阀体221内,阀芯223的后端伸入线圈222中,线圈222通电时产生磁场,以使含铁的阀芯223向后缩回,弹簧224抵接在阀芯223和阀体221之间,以驱动阀芯223复位而向前伸出,以在线圈223不通电时保持喷釉孔211关闭。如此,阀芯223可伸缩活动。阀芯223的前端设有堵塞件225,当阀芯223向前伸出时,堵塞件225堵住喷釉孔211,当阀芯223向后缩回时,堵塞件225和喷釉孔211分离,釉料从喷釉孔211中喷出。应理解,上述只是喷釉阀门220的其中一种结构,并不应理解为对本实用新型的限制。
结合图1和图2,该供釉机构100包括第一容器110、第二容器120、调压装置140、阀门组件以及输液装置130。
第一容器110具有第一接口111、第二接口112以及第三接口113。
第二容器120具有第四接口121以及第五接口122。第一容器110通过喷釉模块200的输送通道210连通至第二容器120。优选地,第一容器110和第二容器120的形状优选为圆柱体,但不限于上述形状。
调压装置140连接至气源。调压装置140为比例阀,也可以是其它调压元件,也可以是一个以上调压元件组合而成的机构。“气源”指能够提供加压气体的设备,例如空压机或加压气体容器。
调压装置140通过阀门组件连接第一接口111和第四接口121,以使调压装置140通过阀门组件对第一容器110和第二容器120调压。第二接口112和第五接口122连接阀门组件,以使第一容器110和第二容器120通过阀门组件排气。
输液装置130具有第一输出口133,第一输出口133连通第三接口113。一般地,该输液装置130还具有第一输入口132,在输入釉料时,第一输入口132连接至釉料储存容器300(例如釉料桶)。可选地,输液装置130为输液泵,具体可以是气动输液泵或电动输液泵,但也可以是其它形式,例如通过加压气体压入釉料的装置,总而言之,该输液装置130只需能够实现向第一容器110中输入釉料即可。
该供釉机构100的工作方法如下:
输入釉料:通过输液装置130向第一容器110输入釉料;此时,第一容器110的进气关闭,排气打开;第二容器120的进气和排气均关闭;
喷釉打印:第一容器110的进气打开并通过调压装置140对第一容器110调压,第一容器110排气关闭;第二容器120的进气和排气均关闭,气源通过调压装置140输入加压气体使第一容器110内压力增加,进一步使得第一容器110内的釉料经输送通道210流入第二容器120,釉料经过输送通道210时,喷釉阀门220控制喷釉孔211的打开或关闭从而实现喷釉;当第一容器110内釉料消耗至低液位时,重复上述输入釉料步骤。
其中,第一容器110和第二容器120的进气和排气分别通过第一阀门结构180和第二阀门结构190进行控制。以第一容器110为例,第一容器110进气时,第一阀门结构180的进气打开,以使气源通过调压装置140进气。第一容器110排气时,第一阀门结构180的排气打开,以使第一容器110内气体通过第一阀门结构180排出。
另外,该供釉机构100的工作方法还包括对第一容器110和第二容器120进行清洁。详细过程如下,首先,所有喷釉阀门220控制喷釉孔211打开,以使第一容器110和第二容器120内的釉料从喷釉孔211流出,在此过程中,为加速釉料流出,气源通过第一阀门结构180和第二阀门结构190向第一容器110和第二容器120进气加压。当釉料排尽或接近排尽时,第一容器110和第二容器120的内壁和喷釉模块200内还残留少量釉料。为清除残留釉料,所有喷釉阀门220控制喷釉孔211关闭,然后输液装置130的第一输入口132切换至水箱,以向第一容器110中泵水,此时第一容器110的排气打开,第二容器120的进气和排气关闭,使水保持在第一容器110内,当注水至所需液位后,停止注水。然后,第一容器110的排气关闭且进气打开,第二容器120的进气关闭且排气打开,加压气体将水从第一容器110压入第二容器120。完成该过程后,第二容器120的进气打开且排气关闭,第一容器110的排气打开且进气关闭,加压气体将水从第二容器120压入第一容器110。重复上述过程若干次,以使水在第一容器110和第二容器120中往复流动,从而达到高度清洁的目的。
该供釉机构通过第一容器110和第二容器120的进排气控制,至少能够实现输入釉料、喷釉打印和容器清洗等步骤。该供釉机构通过调压装置140在喷釉打印步骤中对第一容器110精确调压,能够稳定喷釉打印时釉料的压力,以改善喷釉效果。
在一些实施例中,阀门组件包括第一阀门结构180以及第二阀门结构190;
调压装置140通过第一阀门结构180连接第一接口111,以使调压装置140通过第一阀门结构180对第一容器110调压;第一阀门结构180连接第二接口112以使第一容器110通过第一阀门结构180排气。调压装置140通过第二阀门结构190连接第四接口121,以使调压装置140通过第二阀门结构190对第二容器120调压;第二阀门结构120连接第五接口122以使第二容器120通过第二阀门结构190排气;
或,调压装置140通过第一阀门结构连接第一接口111和第四接口121,以使调压装置140通过第一阀门结构对第一容器110和第二容器120调压;第二接口121和第五接口122连接第二阀门结构,以使第一容器110和第二容器120通过第二阀门结构排气。
在本实施例中,第一阀门结构180包括第一阀门件181和第二阀门件182,调压装置140通过第一阀门件181连接第一接口111,以使调压装置140通过第一阀门件181对第一容器110调压;第二阀门件182连接第二接口112以使第一容器110通过第二阀门件182排气。
第二阀门结构190包括第三阀门件191和第四阀门件192,调压装置140通过第三阀门件191连接第四接口121,以使调压装置140通过第三阀门件192对第二容器120调压;第四阀门件192连接第五接口122以使第二容器120通过第四阀门件192排气。
优选地,第一阀门件181、第二阀门件182、第三阀门件191和第四阀门件192均为二通阀。
在一些实施例中,第一阀门结构和/或第二阀门结构包括三位四通阀,应理解,也可以是等同于三位四通阀的其他阀门。
在一些实施例中,结合图1和图2,为了避免工作时第一容器110和第二容器120以及连接在两者上的管道内釉料中的固体沉积,该供釉机构100还包括循环装置160,循环装置160具有第二输入口162和第二输出口163,第二容器120还具有第六接口123。第二输入口162连通第六接口123。循环装置160打开,将第一容器110和第二容器120以及连接在两者上的管道中的釉料从第六接口123中抽出,以避免釉料沉积。另外,第二输出口163可以是连接至均质装置180,以便对釉料进行均质。优选地,在循环装置160从第二容器120抽走釉料的过程中,可以通过输液装置130补充釉料至第一容器110,以避免第一容器110中釉料液位过低。循环装置160包括必要的管路,进一步地,该循环装置160还包括循环泵,还可以包含其它类型的抽液装置,也可以不需要循环泵,通过气体加压的方式从第一容器110和第二容器120中压出釉料,只需能够实现抽液循环即可。
在一些实施例中,如图1所示,为了避免在第三接口113输入釉料时,釉料从第一接口111和第二接口112涌出,第一容器110具有相对设置的第一端116和第二端117,第一接口111和第二接口112均连接于第一端116的顶部,第三接口113连接于第二端117的底部,使得第三接口113与第一接口111以及第二接口112相距较远,第三接口113输入釉料时产生的液体波动经过较长距离的消减后,不会影响第一接口111以及第二接口112,避免釉料涌出。
在一些实施例中,第二容器120与第一容器110并排设置,第二容器120具有远离第三接口113的第三端125,第四接口121以及第五接口122连接于第三端125的顶部,从而避免釉料从第四接口121以及第五接口123涌出。第六接口123连接于第三端125的底部,使得釉料从第三接口113输入后,经过较远路程输送至第六接口123,有利于釉料混合,避免第一容器110和第二容器120远离第三接口113的位置中的釉料流动不充分。
在一些实施例中,如图2所示,该供釉机构100还包括第一电磁阀131和第二电磁阀161,输液装置130和循环装置160分别连接第一电磁阀131和第二电磁阀161,以通过第一电磁阀131和第二电磁阀161分别控制输液装置130和循环装置160。
在一些实施例中,如图2所示,该供釉机构100还包括缓冲罐143以及过滤器144,调压装置140依次通过过滤器144和缓冲罐143连接第一阀门结构180和/或第二阀门结构190。缓冲罐143其中一个作用是防止调压排气过程中釉料涌出而导致调压装置140损坏。进一步地,由于釉料中含有固体成分,固体成分可与气体混合,当气体从缓冲罐143调压排气经过调压装置140时,气体中的固体成分容易造成调压装置140损坏,过滤器144对气体进行过滤,避免含杂质气体对调压装置140造成影响。
在一些实施例中,如图4、图5和图6所示,第一容器110的底部设有第八接口115,第二容器120底部设有第九接口124,如此,即使第一容器110或第二容器120内釉料低液位,也能向输送通道210输送釉料。输送通道210的两端分别连接第八接口115和第九接口124。进一步地,第八接口115和第九接口124分别沿第一容器110和第二容器120的长度方向等距布置,以使多个喷釉模块200等距分布在第一容器110和第二容器120的下方,以集成多个喷釉模块200,实现喷釉打印。
本实用新型的另一实施例,还提供了一种喷釉设备,包括喷釉模块200以及供釉机构100。该供釉机构100的具体结构参照上述实施例,由于本喷釉设备采用了上述所有实施例的全部技术方案,因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果,在此不再一一赘述。
以上所述是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种供釉机构,其特征在于,用于向喷釉模块供应釉料,所述喷釉模块具有输送通道,所述输送通道上设有若干喷釉孔,所述喷釉模块包括对应至所述喷釉孔的若干喷釉阀门,所述喷釉阀门控制所述喷釉孔的打开或关闭;所述供釉机构包括:
第一容器,具有第一接口、第二接口以及第三接口;
第二容器,具有第四接口以及第五接口;所述第一容器通过所述输送通道连通至所述第二容器;
调压装置,连接至气源;
阀门组件,所述调压装置通过所述阀门组件连接所述第一接口和所述第四接口,以使所述调压装置通过所述阀门组件对所述第一容器和所述第二容器调压;所述第二接口和所述第五接口连接所述阀门组件,以使所述第一容器和所述第二容器通过所述阀门组件排气;以及
输液装置,具有第一输出口,所述第一输出口连通所述第三接口。
2.如权利要求1所述的供釉机构,其特征在于,还包括:
循环装置,所述循环装置具有第二输入口,所述第二容器还具有第六接口;所述第二输入口连通所述第六接口。
3.如权利要求1所述的供釉机构,其特征在于,所述阀门组件包括第一阀门结构以及第二阀门结构;
所述调压装置通过所述第一阀门结构连接所述第一接口,以使所述调压装置通过所述第一阀门结构对所述第一容器调压;所述第一阀门结构连接所述第二接口以使所述第一容器通过所述第一阀门结构排气;所述调压装置通过所述第二阀门结构连接所述第四接口,以使所述调压装置通过所述第二阀门结构对所述第二容器调压;所述第二阀门结构连接所述第五接口以使所述第二容器通过所述第二阀门结构排气;
或,所述调压装置通过第一阀门结构连接所述第一接口和第四接口,以使所述调压装置通过所述第一阀门结构对所述第一容器和所述第二容器调压;所述第二接口和所述第五接口连接所述第二阀门结构,以使所述第一容器和所述第二容器通过所述第二阀门结构排气。
4.如权利要求3所述的供釉机构,其特征在于,所述第一阀门结构包括第一阀门件和第二阀门件,所述调压装置通过所述第一阀门件连接所述第一接口,以使所述调压装置通过所述第一阀门件对所述第一容器调压;所述第二阀门件连接所述第二接口以使所述第一容器通过所述第二阀门件排气;
所述第二阀门结构包括第三阀门件和第四阀门件,所述调压装置通过所述第三阀门件连接所述第四接口,以使所述调压装置通过所述第三阀门件对所述第二容器调压;所述第四阀门件连接所述第五接口以使所述第二容器通过所述第四阀门件排气。
5.如权利要求3所述的供釉机构,其特征在于,所述第一阀门结构和/或所述第二阀门结构包括三位四通阀。
6.如权利要求3至5中任一项所述的供釉机构,其特征在于,还包括缓冲罐和过滤器,所述调压装置依次通过所述过滤器和所述缓冲罐连接所述第一阀门结构和/或所述第二阀门结构。
7.如权利要求1至4中任一项所述的供釉机构,其特征在于,所述第一容器的底部设有第八接口,所述第二容器底部设有第九接口,所述输送通道的两端分别连接所述第八接口和所述第九接口;所述第八接口和所述第九接口分别沿所述第一容器和所述第二容器的长度方向等距布置,以使多个所述喷釉模块等距分布在所述第一容器和所述第二容器的下方。
8.如权利要求1至4任一项所述的供釉机构,其特征在于,所述第一容器具有相对设置的第一端和第二端,所述第一接口和所述第二接口均连接于所述第一端的顶部,所述第三接口连接于所述第二端的底部。
9.如权利要求2所述的供釉机构,其特征在于,所述第二容器与所述第一容器并排设置,所述第二容器具有远离所述第三接口的第三端,所述第四接口以及所述第五接口连接于所述第三端的顶部,所述第六接口连接于所述第三端的底部。
10.一种喷釉设备,其特征在于,包括:
喷釉模块;以及
如权利要求1至9中任一项所述的供釉机构。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202321809562.1U CN220945896U (zh) | 2023-07-10 | 2023-07-10 | 一种供釉机构及喷釉设备 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN117048201A (zh) * | 2023-07-10 | 2023-11-14 | 佛山市赛普飞特科技有限公司 | 基于喷釉设备的喷釉控制方法、喷釉控制器及喷釉系统 |
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2023
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GR01 | Patent grant | ||
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