CN220920104U - 一种便于清理的半导体镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及半导体镀膜技术领域，且公开了一种便于清理的半导体镀膜设备，包括工作台和镀膜箱，工作台上固定连接有两个限位框，两个限位框的内腔均固定连接有限位杆，两个限位杆上均滑动连接有移动块，两个移动块相对的侧壁面上固定连接有收集壳，收集壳的底部分别固定连接有若干个清洁刷和清洁铲，工作台一端的底部固定连接有放置框，放置框上活动设有集尘盒。本实用新型中，收集壳带动清洁刷和清洁铲的运动，清洁铲的设置可以将较大的废屑推入集尘盒的内腔，清洁刷的设置可以进一步对工作台上的废屑进行清洁，清理过程更加方便快捷，从而可以循环使用半导体镀膜的工作台。

Description

一种便于清理的半导体镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及半导体镀膜技术领域，尤其涉及一种便于清理的半导体镀膜设备。

背景技术

半导体材料在使用时有时需要在外部镀上特定材质的膜以对其进行保护，常见的半导体镀膜方法包括PVD镀膜、CVD镀膜、离子镀膜等，而物理镀膜主要利用加热可蒸发的镀膜原料，使其转化成蒸汽，并附着在半导体材料表面，从而达到镀膜的效果。在半导体镀膜的过程中，部分废屑会掉落在工作台表面，凌乱的废屑造成工作台面的脏污，影响的循环使用。

为此，我们提出一种便于清理的半导体镀膜设备。

实用新型内容

本实用新型主要是解决上述现有技术所存在的技术问题，提供一种便于清理的半导体镀膜设备。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案，一种便于清理的半导体镀膜设备，包括工作台和镀膜箱，工作台上固定连接有两个限位框，两个限位框的内腔均固定连接有限位杆，两个限位杆上均滑动连接有移动块，两个移动块相对的侧壁面上固定连接有收集壳，收集壳的底部分别固定连接有若干个清洁刷和清洁铲，工作台一端的底部固定连接有放置框，放置框上活动设有集尘盒。

作为优选，收集壳的侧壁面上固定设有吸尘器，吸尘器输入端固定连接有输送管，输送管底部固定连接有吸尘管，吸尘管的底部固定连接有吸尘头。

作为优选，收集壳远离吸尘器的侧壁面上铰接有箱门，收集壳的内腔放置收集盒。

作为优选，放置框的侧壁面上横向开设有滑槽，集尘盒的侧壁面与滑槽相互配合的位置固定连接有滑块。

作为优选，收集壳顶部的中心位置固定连接有把手。

有益效果

本实用新型提供了一种便于清理的半导体镀膜设备。具备以下有益效果：

(1)、该一种便于清理的半导体镀膜设备，手握把手时，收集壳带动清洁刷和清洁铲的运动，清洁铲的设置可以将较大的废屑推入集尘盒的内腔，清洁刷的设置可以进一步对工作台上的废屑进行清洁，清理过程更加方便快捷，从而可以循环使用半导体镀膜的工作台。

(2)、该一种便于清理的半导体镀膜设备，在使用清洁刷和清洁铲时，同时可以启动吸尘器，工作台上飘起的废屑通过吸尘头由吸尘管经过输送管最终最送入收集壳内腔中的收集盒中，降低在清理过程中废屑的扬起，提高工作环境的舒适度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型的实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍。显而易见的，下面描述中的附图仅仅是示例性的，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图引伸获得其他的实施附图。

本说明书所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。

图1为本实用新型结构立体示意图；

图2为本实用新型收集壳结构示意图；

图3为本实用新型收集壳结构内腔示意图。

图例说明：

1、工作台；2、限位框；3、限位杆；4、移动块；5、镀膜箱；6、收集壳；7、把手；8、放置框；9、滑槽；10、滑块；11、集尘盒；12、清洁刷；13、清洁铲；14、吸尘器；15、输送管；16、吸尘管；17、吸尘头；18、箱门；19、收集盒。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1：一种便于清理的半导体镀膜设备，如图1-图2所示，包括工作台1和镀膜箱5，镀膜箱5可拆卸连接在工作台1上方的中心位置，工作台1上固定连接有两个限位框2，两个限位框2的内腔均固定连接有限位杆3，两个限位杆3上均滑动连接有移动块4，工作台1一端的底部固定连接有“L”型结构的放置框8，放置框8上活动设有集尘盒11，放置框8的侧壁面上横向开设有滑槽9，集尘盒11的侧壁面与滑槽9相互配合的位置固定连接有滑块10，集尘盒11的底部与放置框8的表面贴合，两个移动块4相对的侧壁面上固定连接有收集壳6，收集壳6顶部的中心位置固定连接有“U”型结构的把手7，收集壳6的底部分别固定连接有若干个清洁刷12和清洁铲13。

实施例2：在实施例1的基础上，如图2-3所示，收集壳6的侧壁面上固定设有吸尘器14，吸尘器14的输入端固定连接有输送管15，输送管15的底部固定连接有吸尘管16，吸尘管16的底部固定连接有若干个吸尘头17，收集壳6远离吸尘器14的侧壁面上铰接有箱门18，收集壳6的内腔放置收集盒19。

本实用新型的工作原理：

在使用时，在完成镀膜作业之后，拆卸并移除镀膜箱5，镀膜产生的废屑残留在工作台1表面，由于限位杆3与移动块4滑动连接并且移动块4的侧壁面与收集壳6固定连接，当手握把手7时，收集壳6带动清洁刷12和清洁铲13的运动，清洁铲13的设置可以将较大的废屑推入集尘盒11的内腔，清洁刷12的设置可以进一步对工作台1上的废屑进行清洁。

在使用时，在使用清洁刷12和清洁铲13时，同时可以启动吸尘器14，工作台1上飘起的废屑通过吸尘头17由吸尘管16经过输送管15最终最送入收集壳6内腔中的收集盒19中，降低在清理过程中废屑的扬起，提高工作环境的舒适度。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (5)

1.一种便于清理的半导体镀膜设备，包括工作台(1)和镀膜箱(5)，其特征在于：所述工作台(1)上固定连接有两个限位框(2)，两个限位框(2)的内腔均固定连接有限位杆(3)，两个限位杆(3)上均滑动连接有移动块(4)，两个移动块(4)相对的侧壁面上固定连接有收集壳(6)，收集壳(6)的底部分别固定连接有若干个清洁刷(12)和清洁铲(13)，工作台(1)一端的底部固定连接有放置框(8)，放置框(8)上活动设有集尘盒(11)。

2.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述收集壳(6)的侧壁面上固定设有吸尘器(14)，吸尘器(14)输入端固定连接有输送管(15)，输送管(15)底部固定连接有吸尘管(16)，吸尘管(16)的底部固定连接有吸尘头(17)。

3.根据权利要求2所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述收集壳(6)远离吸尘器(14)的侧壁面上铰接有箱门(18)，收集壳(6)的内腔放置收集盒(19)。

4.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述放置框(8)的侧壁面上横向开设有滑槽(9)，集尘盒(11)的侧壁面与滑槽(9)相互配合的位置固定连接有滑块(10)。

5.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述收集壳(6)顶部的中心位置固定连接有把手(7)。