CN220840238U - 一种扫描探针显微镜用的真空吸盘装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，包括真空吸盘盘体，真空吸盘盘体上设置真空吸气槽，真空吸盘盘体的正面上设置多条不连通的吸附气道，每条吸附气道上均开设吸附气孔，真空吸盘盘体的反面开设真空吸气孔，吸附气孔和真空吸气孔均连通真空吸气槽。优点，本实用新型可以同时兼容8英寸和12英寸两种规格的晶圆的检测，同时可以满足机械手自动取、放晶圆的功能，同时采用多气道设计，提高吸附面积和吸附力，最后选用的材料为氧化铝陶瓷，增加导热能力和吸盘表面的平面度，从而时使得吸盘整体具有较好的性能并满足自动化测量。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体加工、检测领域，具体为一种扫描探针显微镜用的真空吸盘装置。
背景技术
扫描探针显微镜（SPM， Scanning Probe Microscopy）广泛应用于现代工业生产和科学研究之中，是利用探针对样品表面形貌进行精密测量的设备，而真空吸盘是其必不可少的功能部件之一，一般是通过真空来吸附固定晶圆，并随着运动台在XY平面移动达到指定的位置。真空吸附原理是盘体联通真空发生源，在表面的吸附槽中行程真空负压区域，晶圆在负压作用下被吸附在吸盘表面，从而被固定。
目前常用的吸盘一般只能吸附一种尺寸的晶圆，不同规格尺寸的晶圆需要不同的吸盘。
实用新型内容
本实用新型目的在于提供一种扫描探针显微镜的真空吸盘装置，旨在满足晶圆自动化检测的需求。采取的技术方案如下：
一种扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，包括真空吸盘盘体，真空吸盘盘体上设置真空吸气槽，真空吸盘盘体的正面上设置多条不连通的吸附气道，每条吸附气道上均开设吸附气孔，真空吸盘盘体的反面开设真空吸气孔，吸附气孔和真空吸气孔均连通真空吸气槽。
对本实用新型技术方案的优选，吸附气道为环形，吸附气道为多圈气道设计，提高吸附面积和吸附能力。
对本实用新型技术方案的优选，真空吸盘盘体的正面上内凹设置凹槽。置凹槽的设计目的是方便自动化拿取的机械手进入。
对本实用新型技术方案的优选，真空吸盘盘体采用氧化铝陶瓷材料制成，使得此吸盘具有较高的导热性能。
对本实用新型技术方案的优选，真空吸盘盘体周围设置安装孔，用于将真空吸盘固定。
对本实用新型技术方案的优选，真空吸盘盘体的正面上螺旋设置8英寸吸附气道和12英寸吸附气道，在8英寸吸附气道上设置8英寸吸附气孔，在12英寸吸附气道上设置12英寸吸附气孔，使得吸盘可以同时兼容8英寸和12英寸两种规格的晶圆的检测。
本实用新型与现有技术相比具有的有益效果是：
本实用新型的吸盘可以同时兼容8英寸和12英寸两种规格的晶圆的检测，同时可以满足机械手自动取、放晶圆的功能，同时采用多气道设计，提高吸附面积和吸附力，最后选用的材料为氧化铝陶瓷，增加导热能力和吸盘表面的平面度，从而时使得吸盘整体具有较好的性能并满足自动化测量。
附图说明
图1 为吸盘结构示意图（正面）；
图2为吸盘反面结构示意图；
图3为图2的A-A剖视图；
1-真空吸盘盘体，2-定位和固定螺纹孔，3-吸附气道，4-吸附气孔，5-凹槽，6-真空吸气孔，7-真空吸气槽。
具体实施方式
参见附图1-3，对本实用新型实施例中的技术方案进行详细的描述。
本实施例系一种扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，包括真空吸盘本体1、定位与固定螺纹孔2、8英寸和12英寸吸附气道、8英寸和12英寸吸附气孔、自动晶圆取放导槽、真空吸气孔6和真空吸气槽7。
真空吸盘本体1的四个角位置有定位和固定螺纹孔2，用于将真空吸盘与运动台固定，并能够将真空吸盘本体1背面吸附小孔与运动台小孔中心对齐。
8英寸和12英寸吸附气道为多圈气道设计，并且8英寸与12英寸气道是分开不连通，保证吸附面积和吸附力；吸附12英寸晶圆时，两组气道全部通真空，吸附8英寸晶圆时，只开通8英寸气道，12英寸气道需要堵住。
相应的8英寸和12英寸的吸附气孔位于对应的吸附气道上，连通真空吸盘本体1中间的真空吸气槽7与表面的吸附气道3，吸附气孔4上面与吸附气道3连通，下面与真空吸气槽7连通。
真空吸气孔6，与运动台的真空气孔连通，将运动台的处的真空通路连接到吸盘的真空通路。
真空吸附气槽，位于真空吸盘盘体1内部，连接真空吸气孔6和8英寸、12英寸吸附气孔，提供表面气道真空吸附通道。
自动晶圆取放凹槽，是在盘体表面加工的具有一定深度的凹槽，机械手抓取晶圆后，放到真空吸盘上后，通过凹槽退回，在抓取吸盘上的晶圆时，先进入凹槽，然后上升抓取晶圆。
本实施例的真空吸盘装置的工作过程：
真空吸盘通过四个角位置处的定位和固定螺纹孔2与运动台固定；真空吸气孔6与运动平台的真空孔连通，为吸盘体提供真空负压，真空通过真空吸气槽7，8英寸和12英寸的吸附气孔4传递到8英寸和12英寸的吸附气道3上，从而吸附晶圆；机械手臂通过自动取放晶圆的凹槽5来抓取和放置晶圆到真空吸盘上表面，机械手放置晶圆时，先将晶圆放置在吸盘上方3mm处，然后下降高度，将晶圆落到吸盘上，此时打开真空吸附，机械手继续下降高度脱离与晶圆接触，然后退回机械手；机械手抓取晶圆时，系统释放真空，机械手进入凹槽内，然后上升高度与晶圆接触，然后抬起晶圆3mm高度，然后退回机械手。
真空吸盘采用氧化铝陶瓷材料和磨削加工工艺，使得此吸盘具有较高的导热性能，表面平整度和粗糙度，为晶圆检测提供一个性能优良载台。
以上实施例仅为说明本实用新型的技术思想，不能以此限定本实用新型的保护范围，凡是按照本实用新型提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本实用新型保护范围之内。
Claims (6)
1.一种扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，包括真空吸盘盘体（1），真空吸盘盘体（1）上设置真空吸气槽（7），其特征在于：所述真空吸盘盘体（1）的正面上设置多条不连通的吸附气道（3），每条吸附气道（3）上均开设吸附气孔（4），真空吸盘盘体（1）的反面开设真空吸气孔（6），吸附气孔（4）和真空吸气孔（6）均连通真空吸气槽（7）。
2.根据权利要求1所述的扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，其特征在于：吸附气道（3）为环形。
3.根据权利要求1所述的扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，其特征在于：真空吸盘盘体（1）的正面上内凹设置凹槽（5）。
4.根据权利要求1所述的扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，其特征在于：真空吸盘盘体（1）采用氧化铝陶瓷材料制成。
5.根据权利要求1所述的扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，其特征在于：真空吸盘盘体（1）周围设置安装孔。
6.根据权利要求1所述的扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，其特征在于：真空吸盘盘体（1）的正面上螺旋设置8英寸吸附气道和12英寸吸附气道，在8英寸吸附气道上设置8英寸吸附气孔，在12英寸吸附气道上设置12英寸吸附气孔。
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