CN218447864U - 一种硅片的转移机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种硅片的转移机构，包括工作台，还包括：硅片放置盒，由底板和周边的限位杆组成，堆叠放置有若干硅片；转移机构，移动部上设有吸盘，所述吸盘用于取放硅片；输送机构，为设置在Y轴方向的皮带输送机构；顶升机构，设置在硅片放置盒的下方，所述顶升机构用于将硅片顶升至相应的高度供吸盘吸附；本实用新型通过在硅片放置盒的下方设置顶升机构，在需要将硅片从硅片放置盒向上移出时，先将硅片顶升至硅片放置盒的上方开口处，在通过吸盘进行吸附，这样就可以有效避免在吸盘吸附硅片上移的过程中，硅片发生碰撞导致掉落受损的问题。

Description

一种硅片的转移机构

技术领域

本实用新型涉及材料输送技术领域，尤其涉及一种硅片的转移机构。

背景技术

硅片普遍要经硅片检测、表面制绒及酸洗、扩散制结、去磷硅玻璃、等离子刻蚀及酸洗等工序，硅片在进行不同不同的工艺时，需要输送装置逐一输送。

现有的硅片输送装置主要包括皮带输送机构、机械手及安装在机械手上的用于吸附硅片的吸盘，在工作时，由机械手通过吸盘吸附硅片组中的硅片，随后机械手将该硅片转移至皮带输送机构上，再由皮带输送装置将硅片转移至指定地点，其存在着的缺陷为：由于硅片被吸附的牢固性较差，在硅片吸附升降的过程中，若碰撞到外界物体，容易发生掉落，出现损坏。

因此，需要设计一种硅片的转移机构以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种硅片的转移机构，旨在解决上述背景技术中所提及的技术问题。

为解决上述问题，本实用新型提供以下技术方案：硅片的转移机构，包括工作台，还包括：

硅片放置盒，由底板和周边的限位杆组成，堆叠放置有若干硅片；

转移机构，包括在X轴方向上设置的导轨，在导轨上设有移动部，移动部上设有吸盘，所述吸盘用于取放硅片；

输送机构，为设置在Y轴方向的皮带输送机构；

顶升机构，设置在硅片放置盒的下方，工作台上开设有能够连通硅片放置盒与顶升机构的开孔，所述顶升机构用于将硅片顶升至相应的高度供吸盘吸附。

进一步的，所述顶升机构包括从工作台下方向下延伸的两根导向杆，两根导向杆连接有驱动电机，驱动电机的输出端连接有滚珠丝杆结构，所述滚珠丝杆结构的另一端与工作台的下方固定，所述滚珠丝杆结构的输出端连接有顶升杆。

进一步的，所述顶升杆通过连接件与两根导向杆配合连接，以此形成对顶升杆位置的限定。

进一步的，所述驱动电机为伺服驱动电机。

进一步的，所述吸盘还连接有升降气缸。

进一步的，所述输送机构为圆带轮输送机构。

进一步的，在所述圆带轮输送机构的输送通道内设有升降台，所述升降台可将经过的硅片升起，使硅片远离圆带轮不随圆带轮移动。

与现有技术相比，本实用新型至少具有以下有益效果：

本实用新型通过在硅片放置盒的下方设置顶升机构，在需要将硅片从硅片放置盒向上移出时，先将硅片顶升至硅片放置盒的上方开口处，在通过吸盘进行吸附，这样就可以有效避免在吸盘吸附硅片上移的过程中，硅片发生碰撞导致掉落受损的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例中的整体结构示意图；

图2是图1这个A处的放大图；

图3是图1另一角度的示意图；

图4是图3中B处的放大图；

图5是本实用新型实施例中输送机构的示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得所有其他实施例，都属于本实用新型的保护范围。可以理解的是，附图仅仅提供参考与说明用，并非用来对本实用新型加以限制。附图中显示的连接关系仅仅是为了便于清晰描述，并不限定连接方式。

需要说明的是，当一个组件被认为是“连接”另一个组件时，它可以是直接连接到另一个组件，或者可能同时存在居中组件。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。

还需要说明的是，本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

本申请公开了一种硅片的转移机构，旨在解决在转移硅片过程中容易出现掉落的情况，并公开了以下技术方案：

请参阅图1至图4，硅片的转移机构，包括工作台100，还包括：

硅片放置盒101，由底板1011和周边的限位杆1012组成，堆叠放置有若干硅片103；

转移机构200，包括在X轴方向上设置的导轨201，在导轨201上设有移动部202，移动部202上设有吸盘203，所述吸盘203用于取放硅片103；

输送机构300，为设置在Y轴方向的皮带输送机构；

顶升机构400，设置在硅片放置盒101的下方，工作台100上开设有能够连通硅片放置盒101与顶升机构400的开孔102，所述顶升机构4000用于将硅片103顶升至相应的高度供吸盘203吸附。

本申请中，在对硅片从硅片放置盒101升起的过程中，采用顶升机构先将硅片顶升至硅片放置盒的上方，再通过吸盘203将硅片进行吸附转移，能够避免吸盘吸附硅片上升过程中，硅片接触或者碰撞到硅片放置盒的侧壁，导致硅片脱落的情况，提高了对硅片转移的稳定性。

如图3和图4所示，所述顶升机构400包括从工作台100下方向下延伸的两根导向杆401，两根导向杆401连接有驱动电机402，驱动电机402的输出端连接有滚珠丝杆结构403，所述滚珠丝杆结构的另一端与工作台的下方固定，所述滚珠丝杆结构403的输出端连接有顶升杆404。

在本实施例中，所述顶升杆404通过连接件405与两根导向杆401配合连接，以此形成对顶升杆位置的限定，如图4所示，连接件405为一块板状结构，分别与两根导向杆、滚珠丝杆和顶升杆连接，因此，在滚珠丝杆带动顶升杆升降的过程中，导向杆能够对顶升杆的方位进行限定，保证了顶升杆在升降过程中的稳定性。

在本实施例中，所述驱动电机402为伺服驱动电机。

如图2所示，所述吸盘还连接有升降气缸，升降气缸用于控制吸盘的升降。

在本实施例中，所述输送机构300为圆带轮输送机构。

如图5所示，在所述圆带轮输送机构的输送通道内设有升降台301，所述升降台301可将经过的硅片升起，使硅片远离圆带轮不随圆带轮移动，当需要对硅片进行观察时，升降台301将经过其上表面的硅片顶升，是其不随输送机构移动。

本申请通过设置顶升机构，先平稳的将硅片顶升至硅片放置盒的开口处，然后在通过吸盘吸附取走，有效的解决了现有的技术问题，且结构简单，容易操作。

本申请的说明书和权利要求书中，词语“包括/包含”和词语“具有/包括”及其变形，用于指定所陈述的特征、数值、步骤或部件的存在，但不排除存在或添加一个或多个其他特征、数值、步骤、部件或它们的组合。

本实用新型的一些特征，为阐述清晰，分别在不同的实施例中描述，然而，这些特征也可以结合于单一实施例中描述。相反，本实用新型的一些特征，为简要起见，仅在单一实施例中描述，然而，这些特征也可以单独或以任何合适的组合于不同的实施例中描述。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包括在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种硅片的转移机构，包括工作台，其特征在于，还包括：

硅片放置盒，由底板和周边的限位杆组成，堆叠放置有若干硅片；

转移机构，包括在X轴方向上设置的导轨，在导轨上设有移动部，移动部上设有吸盘，所述吸盘用于取放硅片；

输送机构，为设置在Y轴方向的皮带输送机构；

顶升机构，设置在硅片放置盒的下方，工作台上开设有能够连通硅片放置盒与顶升机构的开孔，所述顶升机构用于将硅片顶升至相应的高度供吸盘吸附。

2.根据权利要求1所述的硅片的转移机构，其特征在于，所述顶升机构包括从工作台下方向下延伸的两根导向杆，两根导向杆连接有驱动电机，驱动电机的输出端连接有滚珠丝杆结构，所述滚珠丝杆结构的另一端与工作台的下方固定，所述滚珠丝杆结构的输出端连接有顶升杆。

3.根据权利要求2所述的硅片的转移机构，其特征在于，所述顶升杆通过连接件与两根导向杆配合连接，以此形成对顶升杆位置的限定。

4.根据权利要求2所述的硅片的转移机构，其特征在于，所述驱动电机为伺服驱动电机。

5.根据权利要求1所述的硅片的转移机构，其特征在于，所述吸盘还连接有升降气缸。

6.根据权利要求1所述的硅片的转移机构，其特征在于，所述输送机构为圆带轮输送机构。

7.根据权利要求6所述的硅片的转移机构，其特征在于，在所述圆带轮输送机构的输送通道内设有升降台，所述升降台可将经过的硅片升起，使硅片远离圆带轮不随圆带轮移动。

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