CN220541989U - 一种非接触测量厚度的测量装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种非接触测量厚度的测量装置包括平板、设置在平板上方左侧的左支架、设置在平板上方右侧的右支架、设置在所述左支架上的左激光发射器和左激光接收器、设置在所述右支架上的右激光发射器和右激光接收器，左激光发射器和右激光发射器位于同一水平高度且位于同一水平轴线上，左激光接收器和右激光接收器位于同一水平高度且位于同一水平轴线上，左激光发射器、右激光发射器和平板之间的区域为工件厚度检测区，待检测测量工件位于工件厚度检测区。通过采用上述结构，与传统的高度规测量方式相比：由于采用激光测量，无接触误差，也无平台磨损导致的精度不准，提高了测量效率，减少了测量误差。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种非接触测量厚度的测量装置，尤其涉及一种可快速测量、使用方便、测量效率高的非接触测量厚度的测量装置。
背景技术
对于研磨后的工件厚度测量，常规做法是，利用带大理石基座的高度规测量工件的厚度，由于工件在大理石基座上经常移动，导致大理石基座的平面度很快变差，从而使得高度规测量的数据不能反应真实的工件厚度。为解决上述问题，本实用新型亟待解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种非接触测量厚度的测量装置，具有可快速测量、使用方便、测量效率高的特点。
为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案为：一种非接触测量厚度的测量装置，其创新点在于：所述非接触测量厚度的测量装置包括平板、设置在平板上方左侧的左支架、设置在平板上方右侧的右支架、设置在所述左支架上的左激光发射器和与所述左激光发射器信号反馈的左激光接收器、设置在所述右支架上的右激光发射器和与所述右激光发射器信号反馈的右激光接收器，所述左激光发射器和所述右激光发射器位于同一水平高度且位于同一水平轴线上，所述左激光接收器和所述右激光接收器位于同一水平高度且位于同一水平轴线上，所述左激光发射器、所述右激光发射器和所述平板之间的区域为工件厚度检测区，待检测测量工件位于所述工件厚度检测区。
优选的，所述平板上设置有供所述左支架和所述右支架绕待检测测量工件整圈转动的环状导轨。
优选的，所述左支架和所述右支架上分别设置有位于左支架底部和右支架底部的左导轮和右导轮，所述左导轮和所述右导轮滑配在所述环状导轨内。
优选的，所述平板上设置有左支架初始定位结构和右支架初始定位结构，初始状态时，所述左支架和所述右支架平行设置且所述左支架和所述右支架对称分布在平板左侧和平板右侧。
优选的，所述左支架初始定位结构包括分别设置在左支架前面和左支架后面的第一定位销和第二定位销，所述第一定位销和所述第二定位销在所述左支架相对平板运动时拔出；所述右支架初始定位结构包括分别设置在右支架前面和右支架后面的第三定位销和第四定位销，所述第三定位销和所述第四定位销在所述右支架相对平板运动时拔出。
优选的，所述左支架和所述右支架之间设置有衔接所述左支架和所述右支架的连接件，所述连接件为刚性结构。
优选的，所述连接件包括第一连接件和第二连接件，所述第一连接件位于所述检测测量工件的前方，所述第二连接件位于所述待检测测量工件的后方。
优选的，所述第一连接件和所述第二连接件均呈圆弧状，所述第一连接件和所述第二连接件在左支架和右支架相对平板运动时，所述第一连接件和所述第二连接件的运动轨迹与所述左支架的运动轨迹重合。
优选的，所述平板上设置有供待检测测量工件短边初定位的第一定位基台，第一定位基台与供待检测测量工件接触的基准面在初始状态时垂于正平面。
优选的，所述平板上设置有供待检测测量工件长边初定位的第二定位基台，第二定位基台与供待检测测量工件接触的基准面在初始状态时垂于正平面。
本实用新型的优点在于：通过采用上述结构，包括平板、左支架、右支架、左激光发射器、左激光接收器、右激光发射器、右激光接收器，左右支架垂直固定在平板上，左右激光发射器和左右激光接收器分别垂直固定在左右支架上，且左右激光在同一轴线上。与传统的高度规测量方式相比：由于采用激光测量，无接触误差，也无平台磨损导致的精度不准，提高了测量效率，减少了测量误差。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的描述。
图1是本实用新型一种非接触测量厚度的测量装置第一种形式的主视图。
图2是本实用新型一种非接触测量厚度的测量装置第一种形式的俯视图。
图3是本实用新型一种非接触测量厚度的测量装置第二种形式的主视图。
图4是本实用新型一种非接触测量厚度的测量装置第二种形式的俯视图。
图中：1-平板、2-左支架、3-右支架、4-左激光发射器、5-左激光接收器、6-右激光发射器、7-右激光接收器、8-待检测测量工件、9-环状导轨、10-第一定位销、11-第二定位销、12-第三定位销、13-第四定位销、14-第一连接件、15-第二连接件、16-第一定位基台、17-第二定位基台。
具体实施方式
本实用新型的非接触测量厚度的测量装置包括平板1、设置在平板1上方左侧的左支架2、设置在平板1上方右侧的右支架3、设置在左支架2上的左激光发射器4和与左激光发射器4信号反馈的左激光接收器5、设置在右支架3上的右激光发射器6和与右激光发射器6信号反馈的右激光接收器7，左激光发射器4和右激光发射器6位于同一水平高度且位于同一水平轴线上，左激光接收器5和右激光接收器7位于同一水平高度且位于同一水平轴线上，左激光发射器4、右激光发射器6和平板1之间的区域为工件厚度检测区，待检测测量工件8位于工件厚度检测区。通过采用上述结构，包括平板1、左支架2、右支架3、左激光发射器4、左激光接收器5、右激光发射器6、右激光接收器7，左右支架3垂直固定在平板1上，左右激光发射器6和左右激光接收器7分别垂直固定在左右支架3上，且左右激光在同一轴线上。与传统的高度规测量方式相比：由于采用激光测量，无接触误差，也无平台磨损导致的精度不准，提高了测量效率，减少了测量误差。
本实用新型可以采用图1和图2所示的固定式检测厚度的方式，也可以采用活动式检测厚度的方式，如图3和图4所示，平板1上设置有供左支架2和右支架3绕待检测测量工件8整圈转动的环状导轨9。左支架2和右支架3上分别设置有位于左支架2底部和右支架3底部的左导轮和右导轮，左导轮和右导轮图上未示出，左导轮和右导轮滑配在环状导轨9内。平板1上设置有左支架2初始定位结构和右支架3初始定位结构，初始状态时，左支架2和右支架3平行设置且左支架2和右支架3对称分布在平板1左侧和平板1右侧。
上述的左支架2初始定位结构包括分别设置在左支架2前面和左支架2后面的第一定位销10和第二定位销11，第一定位销10和第二定位销11在左支架2相对平板1运动时拔出；右支架3初始定位结构包括分别设置在右支架3前面和右支架3后面的第三定位销12和第四定位销13，第三定位销12和第四定位销13在右支架3相对平板1运动时拔出。
为了保证活动式检测时左支架2和右支架3的同步运动，左支架2和右支架3之间设置有衔接左支架2和右支架3的连接件，连接件为刚性结构。连接件包括第一连接件14和第二连接件15，第一连接件14位于检测测量工件的前方，第二连接件15位于待检测测量工件8的后方。第一连接件14和第二连接件15均呈圆弧状，第一连接件14和第二连接件15在左支架2和右支架3相对平板1运动时，第一连接件14和第二连接件15的运动轨迹与左支架2的运动轨迹重合。
为了实现待检测测量工件8的初始定位，便于检测待检测测量工件8的厚度或者长度，确保初始状态时，待检测测量装置垂直于正平面安装或者平行于正平面安装，平板1上设置有供待检测测量工件8短边初定位的第一定位基台16，第一定位基台16与供待检测测量工件8接触的基准面在初始状态时垂于正平面。平板1上设置有供待检测测量工件8长边初定位的第二定位基台17，第二定位基台17与供待检测测量工件8接触的基准面在初始状态时垂于正平面。
具体工作过程如下：待检测测量工件8垂直放在左激光发射器4和右激光发射器6之间任意位置，L为左激光发射器4和右激光发射器6之间的距离，左激光发射器4发射的激光经待检测测量工件8反射至左激光接收器5，测出距离A，同理，右激光测出工件距离B，经电脑实时计算出工件厚度为H＝L-A-B。
应该理解，以上描述是为了进行图示说明而不是为了进行限制。通过阅读上述描述，在所提供的示例之外的许多实施方式和许多应用对本领域技术人员来说都将是显而易见的。因此，本教导的范围不应该参照上述描述来确定，而是应该参照所附权利要求以及这些权利要求所拥有的等价物的全部范围来确定。出于全面之目的，所有文章和参考包括专利申请和公告的公开都通过参考结合在本文中。在前述权利要求中省略这里公开的主题的任何方面并不是为了放弃该主体内容，也不应该认为发明人没有将该主题考虑为所公开的实用新型主题的一部分。
Claims (10)
1.一种非接触测量厚度的测量装置，其特征在于：所述非接触测量厚度的测量装置包括平板、设置在平板上方左侧的左支架、设置在平板上方右侧的右支架、设置在所述左支架上的左激光发射器和与所述左激光发射器信号反馈的左激光接收器、设置在所述右支架上的右激光发射器和与所述右激光发射器信号反馈的右激光接收器，所述左激光发射器和所述右激光发射器位于同一水平高度且位于同一水平轴线上，所述左激光接收器和所述右激光接收器位于同一水平高度且位于同一水平轴线上，所述左激光发射器、所述右激光发射器和所述平板之间的区域为工件厚度检测区，待检测测量工件位于所述工件厚度检测区。
2.如权利要求1所述的一种非接触测量厚度的测量装置，其特征在于：所述平板上设置有供所述左支架和所述右支架绕待检测测量工件整圈转动的环状导轨。
3.如权利要求2所述的一种非接触测量厚度的测量装置，其特征在于：所述左支架和所述右支架上分别设置有位于左支架底部和右支架底部的左导轮和右导轮，所述左导轮和所述右导轮滑配在所述环状导轨内。
4.如权利要求2所述的一种非接触测量厚度的测量装置，其特征在于：所述平板上设置有左支架初始定位结构和右支架初始定位结构，初始状态时，所述左支架和所述右支架平行设置且所述左支架和所述右支架对称分布在平板左侧和平板右侧。
5.如权利要求4所述的一种非接触测量厚度的测量装置，其特征在于：所述左支架初始定位结构包括分别设置在左支架前面和左支架后面的第一定位销和第二定位销，所述第一定位销和所述第二定位销在所述左支架相对平板运动时拔出；所述右支架初始定位结构包括分别设置在右支架前面和右支架后面的第三定位销和第四定位销，所述第三定位销和所述第四定位销在所述右支架相对平板运动时拔出。
6.如权利要求2所述的一种非接触测量厚度的测量装置，其特征在于：所述左支架和所述右支架之间设置有衔接所述左支架和所述右支架的连接件，所述连接件为刚性结构。
7.如权利要求6所述的一种非接触测量厚度的测量装置，其特征在于：所述连接件包括第一连接件和第二连接件，所述第一连接件位于所述检测测量工件的前方，所述第二连接件位于所述待检测测量工件的后方。
8.如权利要求7所述的一种非接触测量厚度的测量装置，其特征在于：所述第一连接件和所述第二连接件均呈圆弧状，所述第一连接件和所述第二连接件在左支架和右支架相对平板运动时，所述第一连接件和所述第二连接件的运动轨迹与所述左支架的运动轨迹重合。
9.如权利要求1所述的一种非接触测量厚度的测量装置，其特征在于：所述平板上设置有供待检测测量工件短边初定位的第一定位基台，第一定位基台与供待检测测量工件接触的基准面在初始状态时垂于正平面。
10.如权利要求9所述的一种非接触测量厚度的测量装置，其特征在于：所述平板上设置有供待检测测量工件长边初定位的第二定位基台，第二定位基台与供待检测测量工件接触的基准面在初始状态时垂于正平面。
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