CN220489717U - 一种等静压石墨用自动纯化装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种等静压石墨用自动纯化装置，其包括：底座、滑动座、气氛炉和升降板，所述升降板可升降地设置在底座的上方，所述气氛炉可横向移动地设置在升降板的下方，且开口位于底部，所述滑动座横向间隔设置在底座上并位于气氛炉的下方，所述滑动座上分别设置有等静压石墨定位载具，所述气氛炉内壁上设置有加热板，所述气氛炉一侧设置有纯化气体导入管，所述气氛炉另一侧设置有纯化气体导出管。本实用新型所述的等静压石墨用自动纯化装置，通过气氛炉的横移和升降，交替对两个等静压石墨定位载具上等静压石墨进行笼罩和自动纯化处理，提升了生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及等静压石墨的纯化领域，尤其涉及一种等静压石墨用自动纯化装置。
背景技术
在等静压石墨的生产过程中，不可避免地混有杂质。为了满足较高地使用要求，需要对等静压石墨进行纯化处理。在高温的气氛炉中，可以通过卤素气体对等静压石墨进行提纯处理。
申请号为201410638623.1的专利申请中公开了一种核石墨材料制备方法，在焙烧过程中引入卤素或卤代烃纯化气体进行纯化，可以降低纯化工序的成本。在实际生产过程中，气氛炉的开口通常设置在正面，等静压石墨需要从开口放入气氛炉，然后关闭炉门进行纯化，纯化处理完成后再取出等静压石墨，操作比较繁琐，特别是数量多时，等静压石墨取出和置入耗时长，影响了气氛炉有效工作的效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种等静压石墨用自动纯化装置，进行等静压石墨的自动纯化，提升生产效率。
为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
一种等静压石墨用自动纯化装置，包括：底座、滑动座、气氛炉和升降板，所述升降板可升降地设置在底座的上方，所述气氛炉可横向移动地设置在升降板的下方，且开口位于底部，所述滑动座横向间隔设置在底座上并位于气氛炉的下方，所述滑动座上分别设置有等静压石墨定位载具，所述气氛炉内壁上设置有加热板，所述气氛炉一侧设置有纯化气体导入管，所述气氛炉另一侧设置有纯化气体导出管。
其中，所述底座上纵向设置有位于滑动座下方的第一滑轨，所述滑动座底部设置有位于第一滑轨上的第一滑块。
其中，所述底座上纵向设置有与滑动座相连接的第一气缸。
其中，所述底座两侧设置有向上延伸并贯穿升降板的立柱，所述立柱的顶部设置有固定座，所述固定座上设置有与升降板相连接的第二气缸。
其中，所述升降板中设置有与立柱对应的导向孔。
其中，所述升降板的底部横向设置有第二滑轨，所述气氛炉的顶部设置有位于第二滑轨上的滑块。
其中，所述升降板的底部设置有支架，所述支架上横向设置有与气氛炉一侧相连接的第三气缸。
本实用新型的有益效果：一种等静压石墨用自动纯化装置，将等静压石墨放置在两个滑动座上的等静压石墨定位载具上，通过滑动座将等静压石墨送入气氛炉的路径下方，通过气氛炉的横移和升降，交替对两个等静压石墨定位载具上等静压石墨进行笼罩和自动纯化处理，减少了气氛炉的等待时长，等静压石墨的上下料不影响气氛炉的有效工作，提升了生产效率。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是图1中气氛炉横移并下降后的结构示意图。
具体实施方式
下面结合图1～图2并通过具体实施例来进一步说明本实用新型的技术方案。
如图1所示的等静压石墨用自动纯化装置，包括：底座1、滑动座2、气氛炉4和升降板6，所述升降板6可升降地设置在底座1的上方，为了进行升降板6的升降，在所述底座1两侧设置有向上延伸并贯穿升降板6的立柱15，所述立柱的顶部设置有固定座8，所述固定座8上设置有与升降板6相连接的第二气缸12，通过第二气缸12的伸缩进行升降板6的升降。
在本实施例中，所述升降板6中设置有与立柱15对应的导向孔，提升了升降板6的升降平稳性。此外，可以通过PLC控制器和电磁阀进行第二气缸12的伸缩控制，提升自动化水平。
将所述气氛炉4可横向移动地设置在升降板6的下方，且开口位于底部。在本实施例中，所述升降板6的底部横向设置有第二滑轨9，所述气氛炉4的顶部设置有位于第二滑轨9上的滑块7，进行气氛炉4的横移导向。所述升降板6的底部设置有支架11，所述支架11上横向设置有与气氛炉4一侧相连接的第三气缸10，如图2所示，进行气氛炉4的横移驱动，切换工位。
将所述滑动座2横向间隔设置在底座1上并位于气氛炉4的下方，所述滑动座2上分别设置有等静压石墨定位载具18，用于等静压石墨19的定位。在本实施例中，滑动座2的数量至少为2个，进行交替工作。
在本实施例中，所述底座1上纵向设置有位于滑动座2下方的第一滑轨14，所述滑动座2底部设置有位于第一滑轨14上的第一滑块13，进行滑动座2前后纵向移动的导向。所述底座1上纵向设置有与滑动座2相连接的第一气缸3，进行滑动座2的前后移动，等静压石墨定位载具18上下料时，可以远离气氛炉4，提升操作的便利性和安全性。
在所述气氛炉4内壁上设置有加热板5，可以营造高温环境。所述气氛炉一侧设置有纯化气体导入管16，外接纯化气体供应管道，将卤素或卤代烃等纯化气体导入气氛炉4，进行等静压石墨19的纯化处理。所述气氛炉4另一侧设置有纯化气体导出管17，外接废气排放系统，进行废气的处理和排放。
如图1和图2所示，将等静压石墨19放置在两个滑动座2上的等静压石墨定位载具18上，通过滑动座2将等静压石墨19前移送入气氛炉4的路径下方，通过气氛炉4的横移和升降，交替对两个等静压石墨定位载具18上等静压石墨进行笼罩和自动纯化处理，而且等静压石墨19的上下料不影响气氛炉4的有效工作，从而提升了生产效率。
以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
Claims (7)
1.一种等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，包括：底座、滑动座、气氛炉和升降板，所述升降板可升降地设置在底座的上方，所述气氛炉可横向移动地设置在升降板的下方，且开口位于底部，所述滑动座横向间隔设置在底座上并位于气氛炉的下方，所述滑动座上分别设置有等静压石墨定位载具，所述气氛炉内壁上设置有加热板，所述气氛炉一侧设置有纯化气体导入管，所述气氛炉另一侧设置有纯化气体导出管。
2.根据权利要求1所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述底座上纵向设置有位于滑动座下方的第一滑轨，所述滑动座底部设置有位于第一滑轨上的第一滑块。
3.根据权利要求1所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述底座上纵向设置有与滑动座相连接的第一气缸。
4.根据权利要求1所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述底座两侧设置有向上延伸并贯穿升降板的立柱，所述立柱的顶部设置有固定座，所述固定座上设置有与升降板相连接的第二气缸。
5.根据权利要求4所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述升降板中设置有与立柱对应的导向孔。
6.根据权利要求1所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述升降板的底部横向设置有第二滑轨，所述气氛炉的顶部设置有位于第二滑轨上的滑块。
7.根据权利要求1所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述升降板的底部设置有支架，所述支架上横向设置有与气氛炉一侧相连接的第三气缸。
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