CN220429388U - 真空热压处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种真空热压处理装置。真空热压处理装置包括支撑导向单元、加热单元、真空单元和驱动单元，驱动单元设置在支撑导向单元上，驱动单元与加热单元、真空单元传动连接，支撑导向单元主要是作为加热单元、真空单元和驱动单元的安装、支撑的骨架，并为其中的运动部分提供运动的导向，加热单元主要用于对待处理进行加热处理，真空单元主要为待处理产品的加热处理提供真空环境，驱动单元主要是配合真空单元为待处理产品构建真空环境、配合加热单元对待处理产品施加压力而完成热压处理。本实用新型提供的一种真空热压处理装置，对产品的热压加热、受力更加均匀，提高了大尺寸产品的热压效果的均一性。

Description

真空热压处理装置

技术领域

本实用新型特别涉及一种真空热压处理装置，属于石墨烯纵向导热体材料技术领域。

背景技术

随着电子行业的不断发展，电子元器件的发展趋向于大功率和集成化，同时导致电子产品的散热需求大大提高；石墨烯作为迄今为止导热系数最高的碳材料，由其作为原材料制造而成的石墨烯导热片材备受各行各业的关注。为减小石墨烯片材之间的间隙，降低空气对导热性能的影响，需要使用真空热压机对石墨烯片材进行真空热压处理。

目前市场上存有的真空热压机主要加热方式是以上下双加热板进行产品加热，对于大尺寸产品，仅从上下两个方向进行热量传递，产品中心部分和产品表面部分易出现受热不均匀、产品中心受热升温不稳定、加热时间长的问题。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种真空热压处理装置，可以用于对石墨烯片材等产品进行真空热压处理，从而克服现有技术中的不足。

为实现前述实用新型目的，本实用新型采用的技术方案包括：

本实用新型提供了一种真空热压处理装置，包括：

支撑导向单元，包括第一支撑架、第二支撑架和导向柱，所述第一支撑架和第二支撑架沿第一方向相对设置，所述导向柱沿所述第一方向延伸且与所述第一支撑架、第二支撑架连接；

加热单元，所述加热单元包括第一加热机构、第二加热机构和第三加热机构，所述第一加热机构、第二加热机构和第三加热机构共同围合形成用于容置待处理产品并对所述待处理产品进行加热的加热空间，所述第一加热机构和所述第二加热机构沿所述第一方向相对设置，所述第一加热机构和/或所述第二加热机构与所述导向柱活动配合，并能够沿所述导向柱活动；

真空单元，包括密闭腔室和真空发生机构，所述真空发生机构与所述密闭腔室配合并用于将所述密闭腔室形成真空环境，所述加热单元能够设置在所述密闭腔室内；

驱动单元，与所述第一加热机构和/或所述第二加热机构传动连接，并至少用于驱使所述第一加热机构和所述第二加热机构沿所述第一方向产生相对运动而对所述待处理产品施加压力。

进一步的，所述第三加热机构与所述第一加热机构、所述第二加热机构中的一者连接。

进一步的，所述第三加热机构设置在所述第一加热机构与所述第二加热机构之间。

进一步的，所述第三加热机构整体为环形结构。

进一步的，所述第三加热机构包括至少两个加热部件，至少两个所述加热部件能够与位于所述加热空间内的待处理产品的两个不同的表面区域导热接触，所述加热部件与所述第一加热机构、所述第二加热机构中的一者连接。

进一步的，至少两个所述加热部件沿所述第一加热机构或第二加热机构的周向依次设置。

进一步的，其中至少一选定的加热部件和与其相邻的加热部件以及第一加热机构或第二加热机构是活动配合的，该选定的加热部件具有第一工作状态或第二工作状态，当该选定的加热部件处于第一工作状态时，该选定的加热部件和其余加热部件连接形成环形结构，而当选定的加热部件处于第二工作状态时，在该选定的加热部件和与之相邻的至少一加热部件之间形成可供待处理产品进出所述加热空间的出入口结构。

进一步的，该选定的加热部件和与之相邻的一加热部件转动连接。

进一步的，该选定的加热部件和与之相邻的一加热部件铰接。

进一步的，所述真空单元包括真空罩和密封底座，所述真空罩、所述密封底座设置在所述第一支撑架与所述第二支撑架之间，所述第一加热机构和所述第二加热机构设置在所述第一支撑架与所述第二支撑架之间；

所述真空罩和/或所述密封底座还与所述导向柱活动配合，并能够沿所述导向柱活动，所述真空罩能够与所述密封底座密封配合而围合形成所述密闭腔室，其中，所述真空罩和/或所述密封底座还与所述驱动单元传动连接。

进一步的，所述第二加热机构设置在所述密封底座上，所述第三加热机构与所述第二加热机构连接。

进一步的，所述真空罩和/或所述密封底座上还设置有密封部件，当所述真空罩与所述密封底座相互接触或连接时，所述密封部件设置在所述真空罩与所述密封底座之间，并使所述真空罩与所述密封底座密封结合。

进一步的，所述密封部件为沿所述真空罩或所述密封底座的周向连续设置的环形部件。

进一步的，所述密封部件为能够在外力压迫下发生适应性形变的柔性部件。

进一步的，所述密封部件包括橡胶圈。

进一步的，所述密封部件环绕所述第二加热机构设置。

在一较为具体的实施方案中，所述驱动单元包括第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述真空罩传动连接，并用于驱使所述真空罩沿所述第一方向活动，以使所述真空罩靠近所述密封底座而与所述密封底座密封配合或使所述真空罩远离所述密封底座而暴露所述加热单元。

进一步的，所述第一驱动机构为直线驱动机构，所述第一驱动机构具有第一传动轴，所述第一传动轴与所述真空罩固定连接。

进一步的，所述第一传动轴通过螺纹连接的方式与所述真空罩固定连接。

进一步的，所述第一驱动机构为气缸，所述第一传动轴为活塞杆，当然，所述第一驱动机构也可以采用电机以及其他能够实现直线驱动的功能机构。

在一较为具体的实施方案中，所述真空罩上还固定设置有第一连接架，所述第一连接架沿第二方向设置在所述真空罩的侧面，所述第一连接架与所述第一传动轴固定连接，所述第二方向与所述第一方向垂直。

进一步的，所述真空罩上还固定设置有锁扣，所述锁扣抱合在所述导向柱上，且所述锁扣能够沿所述导向柱活动，可以理解的，所述锁扣主要用于将所述真空罩安装在所述导向柱上，更进一步的，所述锁扣能够自所述导向柱上拆除，示例性的，所述锁扣可以是抱箍等。

在一较为具体的实施方案中，所述驱动单元还包括第二驱动机构，所述第二驱动机构与所述第二加热机构传动连接，并用于驱使所述第二加热机构沿所述第一方向活动，以使所述第二加热机构靠近或远离所述第一加热机构，从而压迫待处理产品。

进一步的，所述第二驱动机构与所述密封底座传动连接，所述第二加热机构固定设置在所述密封底座上，所述密封底座与所述第二加热机构能够同步被所述第二驱动机构驱使并沿所述第一方向活动。

进一步的，所述第二驱动机构为直线驱动机构。

进一步的，所述第二驱动机构为油压缸。

在一较为具体的实施方案中，所述驱动单元还包括第一缓冲机构，所述第一缓冲机构与所述第一加热机构连接，并至少用于使所述第一加热机构保持在选定位置区域。

进一步的，所述第一缓冲机构固定设置在所述第一支撑架上。

进一步的，所述第一加热机构设置在所述真空罩内。

进一步的，所述真空罩与所述第一缓冲机构活动配合，且所述真空罩与所述第一缓冲机构之间始终保持密封状态。

进一步的，所述第一缓冲机构具有第一输出轴，至少所述第一输出轴的部分伸入所述真空罩内并与所述第一加热机构固定连接。

进一步的，所述第一缓冲机构为液压缸，所述第一输出轴为活塞杆。

在一较为具体的实施方案中，所述第二支撑架与所述导向柱活动配合，所述第二支撑架还与所述密封底座固定连接，以及，所述驱动单元还包括至少两个第二缓冲机构，至少两个所述第二缓冲机构与所述第二支撑架连接，，并至少用于使所述第二支撑架保持选定姿态，其中，所述第二驱动机构位于至少两个所述第二缓冲机构之间。

进一步的，至少两个所述第二缓冲机构镜像对称设置。

进一步的，所述第二缓冲机构与所述第二支撑架的外周缘部连接。

进一步的，所述第二支撑架的外周缘部还设置有导向孔，所述导向柱活动设置在所述导向孔内。

进一步的，所述第二缓冲机构具有第二输出轴，所述第二输出轴与所述第二支撑架固定连接。

进一步的，所述第二输出轴与所述第二支撑架螺纹连接。

进一步的，所述第二支撑架上还设置有第二连接架，所述第二输出轴与所述第二连接架固定连接。

进一步的，所述第二缓冲机构为气缸，所述第二输出轴为活塞杆。

与现有技术相比，本实用新型的优点包括：

本实用新型提供的一种真空热压处理装置，不仅能够实现真空热压处理，并且，其对产品的加热处理效果更加全面且均匀，保证了大尺寸产品在加热过程中整体受热、受力均匀，尤其对于大尺寸产品的中心部分，加热更加均匀且能够实现快速升温，缩短了产品的升温过程，降低了时间成本。

本实用新型提供的一种真空热压处理装置，对产品的热压受力更加均匀，提高了大尺寸产品的热压效果的均一性。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型一典型实施案例中提供的一种真空热压处理装置的整体结构示意图；

图2是本实用新型一典型实施案例中提供的一种真空热压处理装置的结构示意图；

图3是本实用新型一典型实施案例中提供的一种真空热压处理装置的局部结构示意图；

附图标记说明：100-支撑导向单元、110-第一支撑架、120-第二支撑架、121-导向孔、130-导向柱、140-第二连接架、200-加热单元、220-第二加热机构、230-第三加热机构、201-加热部件300-真空单元、310-真空罩、320-锁扣、330-第一连接架、410-第一缓冲机构、420-第一驱动机构、421-第一传动轴、430-第二驱动机构、440-第二缓冲机构、441-第二输出轴。

具体实施方式

鉴于现有技术中的不足，本案发明人经长期研究和大量实践，得以提出本实用新型的技术方案。如下将结合附图以及具体实施案例对该技术方案、其实施过程及原理等作进一步的解释说明，需要说明的是，本实用新型实施例意在对该一种真空热压处理装置的结构组成及其工作原理等进行解释和说明，除非特别说明的之外，本实用新型实施例中所涉及的气缸、液压缸、油压缸、真空泵、磁流体密封机构/骨架油封机构等运动密封机构以及加热管等均是本领域技术人员已知的装置/设备，在此不对其具体的产品型号等进行限定。

实施例

请参阅图1，一种真空热压处理装置，包括支撑导向单元100、加热单元200、真空单元300和驱动单元，驱动单元设置在支撑导向单元100上，驱动单元与加热单元200、真空单元300传动连接。

具体的，所述支撑导向单元100主要是作为加热单元200、真空单元300和驱动单元的安装、支撑的骨架，并为其中的运动部分提供运动的导向，加热单元200主要用于对待处理进行加热处理，真空单元300主要为待处理产品的加热处理提供真空环境，驱动单元主要是配合真空单元300为待处理产品构建真空环境、配合加热单元200对待处理产品施加压力而完成热压处理。

请参阅图2和图3，支撑导向单元100包括第一支撑架110、第二支撑架120和导向柱130，所述第一支撑架110和第二支撑架120沿第一方向相对设置，所述导向柱130沿所述第一方向延伸且与所述第一支撑架110、第二支撑架120连接。需要说明的是，支撑导向单元100当然还可以包括其他组成部分，例如，支撑导向单元100还可以包括支撑平台等，导向柱130可以固定在支撑平台上。

具体的，所述导向柱130可以是垂直于第一支撑架110、第二支撑架120设置的，具体的，导向柱130是沿第一方向延伸，示例性的，第一方向可以是竖直方向或重力方向等。

更具体的，为使支撑导向单元100的支撑导向作用更稳定，支撑导向单元100包括多个导向柱130，多个导向柱130优选沿第一支撑架110或第二支撑架120的周向依次间隔设置，加热单元200和真空单元300可以设置在多个导向柱130之间，示例性的，第一支撑架110、第二支撑架120的整体轮廓可以是方形结构，支撑导向单元100包括四个导向柱130，四个导向柱130分别对应设置在第一支撑架110、第二支撑架120的四个边角处。

具体的，加热单元200包括第一加热机构(图示中第一加热机构被真空罩遮挡)、第二加热机构220和第三加热机构230，第一加热机构和第二加热机构220沿第一方向相对设置，第一加热机构与第一支撑架110位于同一侧，第二加热机构220与第二支撑架120位于同一侧，第三加热机构230设置在第二加热机构220上，第一加热机构、第二加热机构220和第三加热机构230能够共同围合形成一用于容置待处理产品并对所述待处理产品进行加热的加热空间，并与位于加热空间内的待处理产品导热接触，从而实现对待处理产品的加热处理。

具体的，所述第三加热机构230位于第一加热机构和第二加热机构220之间，第三加热机构230整体为环形结构，第一加热机构和第二加热机构220分别与待处理产品的两个端面配合并与两个端面导热接触，第三加热机构230与待处理产品周向侧面配合并与其周向侧面导热接触。示例性的，第三加热机构230与第一加热机构、第二加热机构220垂直设置，由第一加热机构、第二加热机构220和第三加热机构230围合形成的加热空间的形状为棱柱结构(例如长方体结构)，第一加热机构、第二加热机构220和第三加热机构230可以对待处理产品的多个面进行加热。

具体的，所述第一加热机构和第二加热机构220的结构可以是完全相同的，第一加热机构和第二加热机构220可以包括一个以上的加热部件，所述第三加热机构230包括至少两个加热部件201，至少两个所述加热部件201沿所述第一加热机构或第二加热机构220的周向依次设置并形成环形结构；作为一种典型的实施方案，请再次参阅图2和图3，所述第三加热机构230包括四个加热部件201，四个加热部件201依次连接并形成长方体结构。

具体的，所述加热部件可以是内置有发热管的加热板等，加热板的散热更加均匀，发热管可以是电阻丝发热管等，发热管的数量、功率等在此不做限制。

示例性的，第三加热机构包括四个加热部件、第一加热机构和第二加热机构均包括一个加热部件，该六个加热部件的加热功率均是相同的，使得待处理产品与多个加热部件接触的区域的加热效果均是相同的，从而使待处理产品的多个区域保持相同的升温速率，进而使待处理产品的受热更均匀。

具体的，第三加热机构230所包含的至少一选定的加热部件201和与其相邻的加热部件201以及第二加热机构220是活动配合的，该选定的加热部件201具有第一工作状态或第二工作状态，当该选定的加热部件201处于第一工作状态时，该选定的加热部件201和其余加热部件201连接形成环形结构，而当选定的加热部件201处于第二工作状态时，在该选定的加热部件201和与之相邻的至少一加热部件201之间形成可供待处理产品进出所述加热空间的出入口结构，即可以理解的，该选定的加热部件201是可以打开而形成出入口的。示例性的，该选定的加热部件201和与之相邻的一加热部件201转动连接，更具体的，该选定的加热部件201和与之相邻的一加热部件201铰接。

具体的，请再次参阅图2和图3，真空单元300包括密闭腔室和真空发生机构，所述真空发生机构与所述密闭腔室配合并用于将所述密闭腔室形成真空环境，所述加热单元200能够设置在所述密闭腔室内，更具体的，所述密闭腔室上设置有抽真空口311，真空发生机构经气管与抽真空口311连接，其中，所述真空发生机构可以是真空泵等。

具体的，所述真空单元300包括真空罩310和密封底座，所述真空罩310、所述密封底座设置在所述第一支撑架110与所述第二支撑架120之间，所述第一加热机构和所述第二加热机构220设置在所述第一支撑架110与所述第二支撑架120之间，以及，所述真空罩310还与所述导向柱130活动配合，并能够沿所述导向柱130活动，所述真空罩310能够与所述密封底座密封配合而围合形成所述密闭腔室。

具体的，所述第一加热机构设置在所述真空罩310内，至少所述第一输出轴的部分伸入所述真空罩310内并与第一加热机构固定连接，如前述所述真空罩310与所述第一缓冲机构410活动配合，且所述真空罩310与所述第一缓冲机构410之间始终保持密封状态。

具体的，所述驱动单元包括第一驱动机构420，第一驱动机构420与真空罩310传动连接并驱使真空罩310沿导向柱130活动，从而使真空罩310接近密封底座并与密封底座结合而形成所述密闭腔室，或者，使真空罩310远离密封底座活动而与密封底座分离。

具体的，所述第一驱动机构420为直线驱动机构，所述第一驱动机构420具有第一传动轴421，所述第一传动轴421与所述真空罩310固定连接，示例性的，所述第一传动轴421通过螺纹连接的方式与所述真空罩310固定连接，所述第一驱动机构420为气缸，所述第一传动轴421为活塞杆。

更具体的，请参阅图3，所述真空罩310上还固定设置有第一连接架330，所述第一连接架330沿第二方向设置在所述真空罩310的侧面，所述第一连接架330与所述第一传动轴421固定连接，所述第二方向与所述第一方向垂直。

需要说明的是，为了使真空罩310沿导向柱130运动的稳定性，优选设置两个以上第一驱动机构420，第一驱动机构420沿第二方向间隔设置，相应的，真空罩310上固定设置有两个以上第一连接架330，每一第一连接架320与一第一驱动机构420相对应。

更具体的，所述真空罩310上还固定设置有锁扣320，所述锁扣320抱合在所述导向柱130上，所述锁扣320与所述导向柱130活动配合并能够沿所述导向柱130活动，示例性的，所述锁扣可以抱箍等。可以理解的，为了提高真空罩310的活动稳定性，锁扣320优选设置为多个，多个锁扣320沿真空罩310的周向间隔设置，优选为每一锁扣320与一导向柱130相对应。

具体的，所述真空罩310和/或所述密封底座上还设置有密封部件，当所述真空罩310与所述密封底座相互接触或连接时，所述密封部件设置在所述真空罩310与所述密封底座之间，并使所述真空罩310与所述密封底座密封结合；更具体的，所述密封部件为沿所述真空罩310或所述密封底座的周向连续设置的环形部件，具体的，所述密封部件为能够在外力压迫下发生适应性形变的柔性部件，示例性的，所述密封部件包括橡胶圈。

具体的，所述第二加热机构220设置在所述密封底座上，所述密封部件环绕所述第二加热机构220设置所述第三加热机构230与所述第二加热机构220连接。

更具体的，请再次参阅图3，所述第一加热机构和第二加热机构是分离设置的，所述驱动单元还包括第二驱动机构430，所述第二驱动机构430与所述第二加热机构220传动连接，并用于驱使所述第二加热机构220沿所述第一方向活动，以使所述第二加热机构220靠近或远离所述第一加热机构，一方面可以使第二加热机构220连同第三加热机构一起靠近第一加热机构而形成包围待处理产品的加热空间，另一方面还可以沿第一方向对待处理产品施加压力，从而完成热压处理。

更具体的，所述第二驱动机构430与所述密封底座传动连接，所述第二加热机构220固定设置在所述密封底座上，所述密封底座与所述第二加热机构220能够同步被所述第二驱动机构430驱使并沿所述第一方向活动。具体的，所述第二驱动机构430为直线驱动机构，示例性的，所述第二驱动机构430为油压缸。

具体的，驱动单元还包括第一缓冲机构410，所述第一缓冲机构410与所述第一加热机构连接，所述第一缓冲机构410用于使所述第一加热机构在所述第一方向上保持在选定位置区域或范围内，更具体的，所述第一缓冲机构410可以固定设置在所述第一支撑架110上。

具体的，所述第一缓冲机构410具有第一输出轴，第一输出轴与第一加热机构固定连接，示例性的，所述第一缓冲机构410为液压缸，所述第一输出轴为活塞杆。

具体的，所述第一缓冲机构410设置在密闭腔室的外部，而第一缓冲机构410的第一输出轴的部分是伸入设置在密闭腔室内部并与第一加热机构连接，可以理解的，第一缓冲机构410与密闭腔室是密封配合的，例如，第一缓冲机构410可以经磁流体密封结构等与密闭腔室实现运动密封的，具体的密封结构可以本领域技术人员已知的方式实现，在此不做具体的限定。

需要说明的是，第一缓冲机构的第一输出轴与第一加热机构固定连接，且当第一加热机构位于原位时，第一缓冲机构的第一输出轴处于伸出状态，当待处理产品的顶部抵于第一加热机构时，第二驱动机构会持续输出相同的压力，这可能会导致待处理产品整体向上移动，而第一缓冲机构的设置可以起到一个缓冲且持续加压的作用。

具体的，请再次参阅图2和图3，所述第二支撑架120与所述导向柱130活动配合，所述密封底座还与第二支撑架120固定连接，以及，所述驱动单元还包括至少两个第二缓冲机构440，至少两个所述第二缓冲机构440与所述第二支撑架120连接，第二缓冲机构440可以使所述第二支撑架120沿所述导向柱130小幅度的活动而使所述第二支撑架120保持选定姿态(例如水平姿态)，其中，所述第二驱动机构430位于至少两个所述第二缓冲机构440之间，示例性的，至少两个所述第二缓冲机构440镜像对称设置，所述第二缓冲机构440与所述第二支撑架120的外周缘部连接。

更具体的，所述第二支撑架120的外周缘部还设置有导向孔121，所述导向柱130活动设置在所述导向孔121内，需要说明的是，所述导向孔121的数量是与导向柱130的数量相同的。

更具体的，所述第二缓冲机构440具有第二输出轴441，所述第二输出轴441与所述第二支撑架120固定连接，所述第二输出轴441与所述第二支撑架120螺纹连接，更具体的，所述第二支撑架120上还设置有第二连接架140，所述第二输出轴441与所述第二连接架140固定连接。示例性的，所述第二缓冲机构440为气缸，所述第二输出轴441为活塞杆。

需要说明的是，第二缓冲机构主要是用于使得第二加热机构在升降时，两边的第二缓冲机构能够使得整个第二加热机构能维持高低平衡，因此第二缓冲机构也可以称之为平衡机构。

以该一种真空热压处理装置对待处理产品进行热压处理的过程可以包括如下步骤：

打开第三加热机构所包含的至少一加热部件，将待处理产品放置在第二加热机构上，然后使该加热部件复位；

以第一驱动机构驱使真空罩沿导向柱向下运动，直至真空罩的底部与密封底座密封结合；

启动加热单元、启动真空发生机构，并以第二驱动机构驱使第二加热机构连同真空罩、密封底座同步向上运动，待处理产品的顶部与第一加热机构接触，持续加热30min，并保持压力恒定；

结束后，对真空罩进行泄气，泄完之后停止加热，待冷却至常温后，装置回归原位，取出待处理产品即可，其中，待处理产品可以是石墨烯片材等。

应当理解，上述实施例仅为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (40)

1.一种真空热压处理装置，其特征在于，包括：

支撑导向单元，包括第一支撑架、第二支撑架和导向柱，所述第一支撑架和第二支撑架沿第一方向相对设置，所述导向柱沿所述第一方向延伸且与所述第一支撑架、第二支撑架连接；

加热单元，所述加热单元包括第一加热机构、第二加热机构和第三加热机构，所述第一加热机构、第二加热机构和第三加热机构共同围合形成用于容置待处理产品并对所述待处理产品进行加热的加热空间，所述第一加热机构和所述第二加热机构沿所述第一方向相对设置，所述第一加热机构和/或所述第二加热机构与所述导向柱活动配合，并能够沿所述导向柱活动；

真空单元，包括密闭腔室和真空发生机构，所述真空发生机构与所述密闭腔室配合并用于将所述密闭腔室形成真空环境，所述加热单元能够设置在所述密闭腔室内；

驱动单元，与所述第一加热机构和/或所述第二加热机构传动连接，并至少用于驱使所述第一加热机构和所述第二加热机构沿所述第一方向产生相对运动而对所述待处理产品施加压力。

2.根据权利要求1所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第三加热机构与所述第一加热机构、所述第二加热机构中的一者连接。

3.根据权利要求2所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第三加热机构设置在所述第一加热机构与所述第二加热机构之间。

4.根据权利要求1或2所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第三加热机构整体为环形结构。

5.根据权利要求4所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第三加热机构包括至少两个加热部件，至少两个所述加热部件能够与位于所述加热空间内的待处理产品的两个不同的表面区域导热接触，所述加热部件与所述第一加热机构、所述第二加热机构中的一者连接。

6.根据权利要求5所述的真空热压处理装置，其特征在于：至少两个所述加热部件沿所述第一加热机构或第二加热机构的周向依次设置。

7.根据权利要求5所述的真空热压处理装置，其特征在于：其中至少一选定的加热部件和与其相邻的加热部件以及第一加热机构或第二加热机构是活动配合的，该选定的加热部件具有第一工作状态或第二工作状态，当该选定的加热部件处于第一工作状态时，该选定的加热部件和其余加热部件连接形成环形结构，而当选定的加热部件处于第二工作状态时，在该选定的加热部件和与之相邻的至少一加热部件之间形成可供待处理产品进出所述加热空间的出入口结构。

8.根据权利要求7所述的真空热压处理装置，其特征在于：该选定的加热部件和与之相邻的一加热部件转动连接。

9.根据权利要求7所述的真空热压处理装置，其特征在于：该选定的加热部件和与之相邻的一加热部件铰接。

10.根据权利要求1所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述真空单元包括真空罩和密封底座，所述真空罩、所述密封底座设置在所述第一支撑架与所述第二支撑架之间，所述第一加热机构和所述第二加热机构设置在所述第一支撑架与所述第二支撑架之间；

所述真空罩和/或所述密封底座还与所述导向柱活动配合，并能够沿所述导向柱活动，所述真空罩能够与所述密封底座密封配合而围合形成所述密闭腔室，其中，所述真空罩和/或所述密封底座还与所述驱动单元传动连接。

11.根据权利要求10所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第二加热机构设置在所述密封底座上，所述第三加热机构与所述第二加热机构连接。

12.根据权利要求10所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述真空罩和/或所述密封底座上还设置有密封部件，当所述真空罩与所述密封底座相互接触或连接时，所述密封部件设置在所述真空罩与所述密封底座之间，并使所述真空罩与所述密封底座密封结合。

13.根据权利要求12所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述密封部件为沿所述真空罩或所述密封底座的周向连续设置的环形部件。

14.根据权利要求12所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述密封部件为能够在外力压迫下发生适应性形变的柔性部件。

15.根据权利要求14所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述密封部件包括橡胶圈。

16.根据权利要求12所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述密封部件环绕所述第二加热机构设置。

17.根据权利要求10所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述驱动单元包括第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述真空罩传动连接，并用于驱使所述真空罩沿所述第一方向活动，以使所述真空罩靠近所述密封底座而与所述密封底座密封配合或使所述真空罩远离所述密封底座而暴露所述加热单元。

18.根据权利要求17所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第一驱动机构为直线驱动机构，所述第一驱动机构具有第一传动轴，所述第一传动轴与所述真空罩固定连接。

19.根据权利要求18所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第一传动轴通过螺纹连接的方式与所述真空罩固定连接。

20.根据权利要求18所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第一驱动机构为气缸，所述第一传动轴为活塞杆。

21.根据权利要求18所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述真空罩上还固定设置有第一连接架，所述第一连接架沿第二方向设置在所述真空罩的侧面，所述第一连接架与所述第一传动轴固定连接，所述第二方向与所述第一方向垂直。

22.根据权利要求18所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述真空罩上还固定设置有锁扣，所述锁扣抱合在所述导向柱上且能够沿所述导向柱活动。

23.根据权利要求10或17所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述驱动单元还包括第二驱动机构，所述第二驱动机构与所述第二加热机构传动连接，并用于驱使所述第二加热机构沿所述第一方向活动，以使所述第二加热机构靠近或远离所述第一加热机构，从而压迫待处理产品。

24.根据权利要求23所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第二驱动机构与所述密封底座传动连接，所述第二加热机构固定设置在所述密封底座上，所述密封底座与所述第二加热机构能够同步被所述第二驱动机构驱使并沿所述第一方向活动。

25.根据权利要求24所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第二驱动机构为直线驱动机构。

26.根据权利要求25所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第二驱动机构为油压缸。

27.根据权利要求23所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述驱动单元还包括第一缓冲机构，所述第一缓冲机构与所述第一加热机构连接，并至少用于使所述第一加热机构保持在选定位置区域。

28.根据权利要求27所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第一缓冲机构固定设置在所述第一支撑架上。

29.根据权利要求27所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第一加热机构设置在所述真空罩内。

30.根据权利要求27所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述真空罩与所述第一缓冲机构活动配合，且所述真空罩与所述第一缓冲机构之间始终保持密封状态。

31.根据权利要求30所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第一缓冲机构具有第一输出轴，至少所述第一输出轴的部分伸入所述真空罩内并与所述第一加热机构固定连接。

32.根据权利要求31所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第一缓冲机构为液压缸，所述第一输出轴为活塞杆。

33.根据权利要求27所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第二支撑架与所述导向柱活动配合，所述第二支撑架还与所述密封底座固定连接，以及，所述驱动单元还包括至少两个第二缓冲机构，至少两个所述第二缓冲机构与所述第二支撑架连接，并至少用于使所述第二支撑架保持选定姿态。

34.根据权利要求33所述的真空热压处理装置，其特征在于：至少两个所述第二缓冲机构镜像对称设置。

35.根据权利要求33所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第二缓冲机构与所述第二支撑架的外周缘部连接。

36.根据权利要求33所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第二支撑架的外周缘部还设置有导向孔，所述导向柱活动设置在所述导向孔内。

37.根据权利要求33所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第二缓冲机构具有第二输出轴，所述第二输出轴与所述第二支撑架固定连接。

38.根据权利要求37所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第二输出轴与所述第二支撑架螺纹连接。

39.根据权利要求37所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第二支撑架上还设置有第二连接架，所述第二输出轴与所述第二连接架固定连接。

40.根据权利要求37所述的真空热压处理装置，其特征在于：所述第二缓冲机构为气缸，所述第二输出轴为活塞杆。