CN220388836U - 一种复杂构件可控磁流变抛光装置 - Google Patents

一种复杂构件可控磁流变抛光装置 Download PDF

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张振宇
吴耀文
李玉彪
董立光
朱嘉旭
王泽云
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Abstract

本实用新型公开了一种复杂构件可控磁流变抛光装置,包括:支撑底座;固定设置于所述支撑底座上的床身;设置于床身内部中间位置的抛光桶;设置于所述抛光桶侧方的磁流变液输送与回收装置、抛光液输送与回收装置以及磨粒输送与回收装置;所述抛光桶包括截面为正圆的筒身,所述筒身的外围均匀布置有若干电磁铁,所述筒身的底部设置有若干永磁铁,所述永磁铁包括:靠近筒身底面中心点设置的若干个第一圈层永磁铁和靠近筒身底面边缘设置的若干个第二圈层永磁铁。本实用新型可在电磁铁和永磁铁的共同作用下实现抛光桶的可控旋转,从而带动内部抛光液和磨粒共同旋转,待抛光工件整体浸入磁流变液中进行抛光。

Description

一种复杂构件可控磁流变抛光装置
技术领域
本实用新型设计一种抛光装置,具体来说涉及一种复杂构件可控磁流变抛光装置。
背景技术
高性能复杂构件具有特殊的光、电、热、磁、力、声等性能,一般由复杂结构和复杂曲面组成。传统的加工复杂结构和曲面零件由手工抛光、磨料流抛光、磁力抛光、软砂带抛光、气囊抛光、机器人抛光等完成。以上这些抛光方法均是采用机械压力加载去除方式,不可避免在表面会留下划痕,在高性能装备运行中容易成为疲劳源,对高性能装备稳定可靠运行带来重大的潜在危害。
实用新型内容
鉴于现有技术的不足,本实用新型提供一种复杂构件可控磁流变抛光装置,针对复杂构件表面处理需求采用可控磁流变进行抛光,本实用新通过电磁铁和永磁铁的共同作用,实现抛光桶的可控旋转,从而带动内部抛光液和磨粒共同旋转,待抛光工件整体浸入磁流变液中进行抛光。本发明采用的技术手段如下:
一种复杂构件可控磁流变抛光装置,包括:
支撑底座;
固定设置于所述支撑底座上的床身;
设置于床身内部中间位置的抛光桶;
设置于所述抛光桶侧方的磁流变液输送装置、抛光液输送装置、磨粒输送装置;
所述抛光桶包括截面为正圆的筒身,所述筒身的外围均匀布置有若干电磁铁,所述筒身的底部设置有若干永磁铁,所述永磁铁包括:
靠近筒身底面中心点设置的若干个第一圈层永磁铁,各所述第一圈层永磁铁与筒身底面同心布置,
靠近筒身底面边缘设置的若干个第二圈层永磁铁,各所述第二圈层永磁铁与筒身底面同心布置。
进一步地,所述第一圈层永磁铁体积小于第二圈层永磁铁。
进一步地,所述第一圈层永磁铁与第二圈层永磁铁的数量均为4个。
进一步地,所述电磁铁的数量为12个。
进一步地,所述抛光装置还包括设置于所述抛光桶上方的工件装夹装置。
进一步地,所述抛光装置还包括设置在所述床身外表面的触控屏。
进一步地,所述抛光装置还包括设置在所述床身内部的扫描仪。
较现有技术相比,本实用新型具有以下优点:
本实用新型提供一种复杂构件可控磁流变抛光装置,针对传统抛光复杂构件如手工抛光、磨料流抛光、磁力抛光、软砂带抛光、气囊抛光、机器人抛光等方式不可避免地会在表面会留下划痕,在高性能装备运行中容易成为疲劳源,对高性能装备稳定可靠运行带来重大的潜在危害。本实用新通过电磁铁和永磁铁的共同作用,实现抛光桶的可控旋转,从而带动内部抛光液和磨粒共同旋转,待抛光工件整体浸入磁流变液中进行抛光。实现了可控磁流变整体浸入式化学机械抛光,以较强的均匀机械磨削作用力去除复杂构件由化学抛光液形成的软化膜,该装备能适用于抛光不同类型不同材质的复杂构件,解决现有的复杂构件抛光装备存在无法抛光、抛光表面有麻点、划痕、抛光表面一致性差等问题,达到复杂构件使役需求,满足高性能装备的使用需求。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图做以简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一种复杂构件可控磁流变抛光装置结构示意图。
图2为本实用新型中抛光桶结构示意图。
图3为本实用新型中电磁铁结构示意图。
图4为本实用新型中抛光桶俯视图。
图5为本实用新型中抛光桶仰视图。
图中:1、床身;2、触控屏;3、支撑底座;4、抛光桶;4.1、电磁铁;4.2、永磁铁;5、磁流变液输送装置;6、抛光液输送装置;7、磨粒输送装置;8、温湿度仪;9、工件装夹装置;10、扫描仪。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本发明保护的范围。
如图1-5所示,本发明提供了一种复杂构件可控磁流变抛光装置,主要包括:支撑底座3;固定设置于所述支撑底座3上的床身1;设置于床身内部中间位置的抛光桶4;设置于所述抛光桶4侧方的磁流变液输送装置5、抛光液输送装置6、磨粒输送装置7;所述抛光桶4包括截面为正圆的筒身,所述筒身的外围均匀布置有若干电磁铁4.1,所述筒身的底部设置有若干永磁铁4.2,所述永磁铁4.2包括:靠近筒身底面中心点设置的若干个第一圈层永磁铁,各所述第一圈层永磁铁与筒身底面同心布置。靠近筒身底面边缘设置的若干个第二圈层永磁铁,各所述第二圈层永磁铁与筒身底面同心布置。
具体来说,床身1安装于支撑底座3的上方,床身1的右侧设置有触控屏2,触控屏2能够接收装备中各个系统的反馈信息。抛光桶4安装于机床内部中间,抛光桶4的外侧壁和外底部配置有可控磁场,以便实时调节抛光所需的磁场强度,其中,抛光桶4的外侧壁安装有均布的电磁铁4.1,通过控制逐个电磁铁的电流大小和通断产生旋转的磁场,实现对抛光桶4内磁流变液的吸附和旋转,抛光桶4底部配置有均布的永磁铁4.2,通过均布的永磁铁4.2也带动抛光桶4内的磁流变液进行旋转,最终在电磁铁4.1和永磁铁4.2的共同作用下实现磁流变液的可控旋转,从而带动抛光桶4内的抛光液和磨粒共同旋转,抛光桶4内将放置抛光所需磁流变液、抛光液和磨粒,待抛光工件整体浸入磁流变液中进行抛光。抛光桶4的上方,床身1的顶部安装有工件装夹装置9,工件装夹装置9具备Z向往复移动功能,方便复杂构件的装夹、拆卸与抛光。磁流变液输送与回收装置5、抛光液输送与回收装置6、磨粒输送与回收装置7安装于机床内部左侧,可通过流量泵定时定量输送和抽吸所需磁流变液、抛光液和磨粒,以满足多种复杂构件的化学机械抛光需求。
磁流变液输送装置5、抛光液输送装置6以及磨粒输送装置7依次安装于抛光桶4侧方,分别向抛光桶4内部注入磁流变液、抛光液以及磨粒。三者结构相同,均通过常规装置实现功能。可选地,输送装置由储料箱、流量泵、输料管道组成,如图1中所示,可基于流量泵将用料由储料箱经输料管道定量输送至抛光桶4中。进一步优选地,液体泵可以选用联合众为蠕动泵LHZW005_2,磨粒泵可以选用金马抽粉泵PI3 IG02。温湿度仪8安装于床身左侧壁,通过实时监测抛光过程的温湿度并反馈总控系统,以便总控系统协调控制各个部分,以满足不同工件的温湿度抛光需求。
工件装夹装置9安装于床身1的顶部,主要包括Z轴升降装置和抓取装置,如图1中所示,用于抓取工件并带着工件沿着Z轴往复移动,方便工件装夹与拆卸,并可以夹取工件进行Z轴往复运动,辅助抛光。其功能通过常规装置实现,可选地,升降装置可以通过气缸或者丝杠驱动,抓取装置可以为机械爪。
扫描仪10安装于机床内部右侧,通过激光扫描待加工工件和已加工工件的表面轮廓。
加工时,工件装夹装置9夹取待加工工件整体浸入抛光桶4中旋转的磁流变液中进行抛光,工件装夹装置9可发挥其具备四个自由度的功能实时夹取复杂构件进行上下移动和旋转,进一步增大抛光液与待加工复杂构件的相对运动,进行高效抛光。抛光处理完成后,工件装夹装置9夹取工件离开抛光桶4,取下工件。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (7)

1.一种复杂构件可控磁流变抛光装置,其特征在于,包括:
支撑底座(3);
固定设置于所述支撑底座(3)上的床身(1);
设置于床身内部中间位置的抛光桶(4);
设置于所述抛光桶(4)侧方的磁流变液输送装置(5)、抛光液输送装置(6)、磨粒输送装置(7);
所述抛光桶(4)包括截面为正圆的筒身,所述筒身的外围均匀布置有若干电磁铁(4.1),所述筒身的底部设置有若干永磁铁(4.2),所述永磁铁(4.2)包括:
靠近筒身底面中心点设置的若干个第一圈层永磁铁,各所述第一圈层永磁铁与筒身底面同心布置,
靠近筒身底面边缘设置的若干个第二圈层永磁铁,各所述第二圈层永磁铁与筒身底面同心布置。
2.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置,其特征在于,所述第一圈层永磁铁体积小于第二圈层永磁铁。
3.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置,其特征在于,所述第一圈层永磁铁与第二圈层永磁铁的数量均为4个。
4.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置,其特征在于,所述电磁铁(4.1)的数量为12个。
5.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置,其特征在于,所述抛光装置还包括设置于所述抛光桶(4)上方的工件装夹装置(9)。
6.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置,其特征在于,所述抛光装置还包括设置在所述床身(1)外表面的触控屏(2)。
7.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置,其特征在于,所述抛光装置还包括设置在所述床身(1)内部的扫描仪(10)。
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