CN220387312U - 基板清洗设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及清洗装置技术领域,具体公开了基板清洗设备。该设备用于清洗基板,包括依次设置的上料装置、超声波装置、清洗装置、风干装置和下料装置;上料装置用于将基板传送至超声波装置;超声波装置能够将超声波装置内的基板进行超声波清洗后传送至清洗装置;清洗装置能够将清洗装置内的基板进行刷洗后传送至风干装置;风干装置能够将风干装置内的基板进行风干后传送至下料装置;下料装置用于将基板移出基板清洗设备。该设备通过将超声波装置和清洗装置相组合的方式,以改善对基板表面的洁净能力,保障了对基板上顽固性脏污的清洁效果,规避了基板上残留水痕的情况,提升基板表面的清洁度。
Description
技术领域
本实用新型涉及清洗装置技术领域,尤其涉及基板清洗设备。
背景技术
现有技术中,玻璃基板清洗机包括两种,线型玻璃基板清洗机和超声波清洗机。
线型玻璃基板清洗机具有以下清洗流程:盘刷清洗、滚刷清洗、高压喷淋、纯水喷淋和风刀吹干。其清洗的弊端在于,线型玻璃基板清洗机利用盘刷和滚刷清洗玻璃基板,难以去除玻璃基板表面的顽固性脏污,此类脏污会在玻璃基板表面留有印记。
超声波清洗机具有以下清洗流程:超声波清洗、一道纯水槽浸泡、二道纯水槽浸泡和烘箱烘干。其清洗的弊端在于,玻璃基板在经过纯水槽浸泡后,表面的水痕难以被吹干,当玻璃基板进入烘箱内进行烘烤时,玻璃基板的表面容易出现水痕。
由于线型玻璃基板清洗机和超声波清洗机各自具有自身的弊端,以至于两种玻璃基板清洗机对玻璃基板表面的洁净能力都较为低下,难以保障玻璃基板表面的清洁度。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供基板清洗设备,以改善对基板表面的洁净能力,提升了基板表面的清洁度。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
基板清洗设备,用于清洗基板,包括依次设置的上料装置、超声波装置、清洗装置、风干装置和下料装置;所述上料装置用于将所述基板传送至所述超声波装置;所述超声波装置能够将所述超声波装置内的所述基板进行超声波清洗后传送至所述清洗装置;所述清洗装置能够将所述清洗装置内的所述基板进行刷洗后传送至所述风干装置;所述风干装置能够将所述风干装置内的所述基板进行风干后传送至所述下料装置;所述下料装置用于将所述基板移出所述基板清洗设备。
作为基板清洗设备的优选技术方案,所述超声波装置包括超声波槽,所述超声波槽内容置有清洗液,所述超声波槽上安装有震动组件,所述震动组件用于震动所述清洗液。
作为基板清洗设备的优选技术方案,所述震动组件包括超声波发生器和若干震子,所述超声波发生器分别与每个所述震子通信连接,所述震子安装于所述超声波槽的外壁上,所述超声波发生器用于控制所述震子,所述震子用于产生震动。
作为基板清洗设备的优选技术方案,所述超声波槽内设有基板夹块,所述基板夹块用于传送经所述清洗液浸泡后的所述基板。
作为基板清洗设备的优选技术方案,所述清洗装置包括清洗槽,所述清洗槽内设有清洗组件和若干间隔均布的第一传动辊,所述第一传动辊用于传送所述基板,所述清洗组件用于刷洗所述基板的表面。
作为基板清洗设备的优选技术方案,所述清洗组件包括依序设置的盘刷段和滚刷段,盘刷段上安装有多个盘刷,所述盘刷用于刷洗所述基板表面的脏污;滚刷段上安装有多个滚刷,所述滚刷用于清除所述基板表面的所述脏污。
作为基板清洗设备的优选技术方案,所述风干装置包括风干槽和设于所述风干槽内的至少两个风刀,所述风刀用于向所述基板的表面吹扫压缩空气;所述风干槽内设有若干间隔均布的第二传动辊,所述第二传动辊用于传送所述基板。
作为基板清洗设备的优选技术方案,所述风刀设有至少两个,一个所述风刀用于吹扫所述基板的上板面,另一个所述风刀用于吹扫所述基板的下板面。
作为基板清洗设备的优选技术方案,所述上料装置包括若干间隔均布的第三传动辊,所述第三传动辊用于传送所述基板。
作为基板清洗设备的优选技术方案,所述下料装置包括若干间隔均布的第四传动辊,所述第四传动辊用于传送所述基板。
本实用新型的有益效果:
该基板清洗设备通过整合超声波装置和清洗装置的方式,得以结合线型清洗方案和超声波清洗方案的优点,同时还能够弥补上述两种方案中的不足;利用超声波装置对基板表面超声波清洗,能够清理和软化基板上的顽固性脏污,利用清洗装置对基板进行进一步的清理,能够刷洗并清理上述的脏污,待到脏污去除后,风干装置对基板表面进行风干,能够确保基板的表面不会留有水痕。以上设计改善了对基板表面的洁净能力,保障了对基板上顽固性脏污的清洁效果,规避了基板上残留水痕的情况,提升了基板表面的清洁度。
附图说明
图1是本实用新型实施例提供的基板清洗设备的结构示意图。
图中:
100、上料装置;110、第三传动辊;
200、超声波装置;210、基板夹块;220、震子;230、超声波发生器;
300、清洗装置;310、第一传动辊;320、盘刷;330、滚刷;
400、风干装置;410、第二传动辊;420、风刀;
500、下料装置;510、第四传动辊。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。其中,术语“第一位置”和“第二位置”为两个不同的位置,而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
如图1所示,本实施例提供了基板清洗设备,用于清洗基板,包括依次设置的上料装置100、超声波装置200、清洗装置300、风干装置400和下料装置500;上料装置100用于将基板传送至超声波装置200;超声波装置200能够将超声波装置200内的基板进行超声波清洗后传送至清洗装置300;清洗装置300能够将清洗装置300内的基板进行刷洗后传送至风干装置400;风干装置400能够将风干装置400内的基板进行风干后传送至下料装置500;下料装置500用于将基板移出基板清洗设备。
该基板清洗设备通过整合超声波装置200和清洗装置300的方式,得以结合线型清洗方案和超声波清洗方案的优点,同时还能够弥补上述两种方案中的不足;利用超声波装置200对基板表面超声波清洗,能够清理和软化基板上的顽固性脏污,利用清洗装置300对基板进行进一步的清理,能够刷洗并清理上述的脏污,待到脏污去除后,风干装置400对基板表面进行风干,能够确保基板的表面不会留有水痕。以上设计改善了对基板表面的洁净能力,保障了对基板上顽固性脏污的清洁效果,规避了基板上残留水痕的情况,提升了基板表面的清洁度。
本实施例中,基板为玻璃基板,玻璃基板成品能够应用于显示屏、装饰膜和太阳能发电板等产品的生产之中。在本实施例的其他实施方式中,基板为其他材质,具体的材质由本领域内的技术人员根据工程实际所决定,在此不多加赘述。
在本实施例中,超声波装置200包括超声波槽,超声波槽内容置有清洗液,超声波槽上安装有震动组件,震动组件用于震动清洗液。借助震动组件震动清洗液的设计,得以实现超声波装置200对基板表面超声波清洗,进而有助于实现对基板的超声波清洗方案,保障了对基板上的顽固性脏污的清理和软化能力,改善了对基板的清洁效果,提升了基板表面的清洁度。
进一步地,震动组件包括超声波发生器230和若干震子220,超声波发生器230分别与每个震子220通信连接,震子220安装于超声波槽的外壁上,超声波发生器230用于控制震子220,震子220用于产生震动。具体地,震子220固定安装于超声波槽的底部。超声波发生器230和震子220的设计简单可靠,能够实现对超声波清洗操作的准确把控,由此得以确保超声波清洗操作能够按照预定计划完成,保障了震动组件的工作灵活程度,提升了超声波装置200的工作稳定性。
示例性地,超声波槽内设有基板夹块210,基板夹块210用于传送经清洗液浸泡后的基板。具体地,基板夹块210设有多个,每个基板夹块210分别滑动安装于超声波槽内。基板夹块210的设计简单可靠,确保了位于超声波槽内的基板得以在清洗液内充分地浸泡,确保了对基板的超声波清洗能够全面完成;基板夹块210传送基板的设计实现了对基板的顺利传送,保障了超声波装置200的稳定运行。
在本实施例中,清洗装置300包括清洗槽,清洗槽内设有清洗组件和若干间隔均布的第一传动辊310,第一传动辊310用于传送基板,清洗组件用于刷洗基板的表面。
借助清洗组件刷洗基板表面的设计,得以实现清洗装置300对基板的清理,有助于实现对基板的线型清洗方案,从而保障了对基板上的脏污的刷洗和清理能力,进一步地改善了对基板的清洁效果,提升了基板表面的清洁度。第一传动辊310的设计简单可靠,实现了对基板的顺利传送,保障了清洗装置300的稳定运行。
进一步地,清洗组件包括依序设置的盘刷段和滚刷段,盘刷段上安装有多个盘刷320,盘刷320用于刷洗基板表面的脏污;滚刷段上安装有多个滚刷330,滚刷330用于清除基板表面的脏污。盘刷320和滚刷330的设计得以使清洗组件能够通过不同的清洁方式,有助于从不同的角度和位置对基板的表面进行清洁,以上设计保障了清洗组件对脏污的刷洗和清理能力,降低了对基板的清洁难度,提升了对基板的清洁效率和清洁效果,提升了基板表面的清洁度。
在本实施例中,风干装置400包括风干槽和设于风干槽内的至少两个风刀420,风刀420用于向基板的表面吹扫压缩空气;风干槽内设有若干间隔均布的第二传动辊410,第二传动辊410用于传送基板。利用风刀420吹扫压缩空气的设计,得以保障风干装置400对基板的风干效果,有效地保证了基板的表面不会留有水痕。第二传动辊410的设计简单可靠,实现了对基板的顺利传送,保障了风干装置400的稳定运行。
进一步地,风刀420设有至少两个,一个风刀420用于吹扫基板的上板面,另一个风刀420用于吹扫基板的下板面。以上设计保障了对基板的吹扫效果,大幅降低了基板的上板面和下板面出现水痕的风险,从而进一步的提升了对基板的风干效果,进一步地保障了基板清洗设备对基板的清洁能力。
在本实施例中,上料装置100包括若干间隔均布的第三传动辊110,第三传动辊110用于传送基板;下料装置500包括若干间隔均布的第四传动辊510,第四传动辊510用于传送基板。第三传动辊110与第四传动辊510的设计简单可靠,实现了对基板的顺利传送,分别保障了上料装置100和下料装置500的稳定运行。
本实施例还提供了基板清洗方法,应用于上述的基板清洗设备之中,包括以下步骤:
步骤一:开启超声波发生器230,控制震子220工作,启动盘刷320和滚刷330。
步骤二:将基板置于上料装置100上,通过第三传动辊110将基板传送至超声波槽中;利用基板夹块210夹住基板并带动基板滑动,当基板处于超声波槽内时,震子220震动槽内的清洗液,以实现对基板上的脏污软化处理。
步骤三:当基板传送到清洗槽内时,基板通过第一传动辊310继续传送,在盘刷320和滚刷330的作用下对基板进行深层处理。
步骤四:当基板传送到风干槽内时,风刀420对基板进行风干。
步骤五:风干后的基板通过第二传动辊410传送到下料装置500处,下料装置500利用第四传动辊510将基板移出基板清洗设备。
本实施例中,超声波发生器230的工作频率为10赫兹-18赫兹,清洗液为50摄氏度的纯水。
显然,本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例,而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。
Claims (10)
1.基板清洗设备,用于清洗基板,其特征在于,包括依次设置的上料装置(100)、超声波装置(200)、清洗装置(300)、风干装置(400)和下料装置(500);
所述上料装置(100)用于将所述基板传送至所述超声波装置(200);
所述超声波装置(200)能够将所述超声波装置(200)内的所述基板进行超声波清洗后传送至所述清洗装置(300);
所述清洗装置(300)能够将所述清洗装置(300)内的所述基板进行刷洗后传送至所述风干装置(400);
所述风干装置(400)能够将所述风干装置(400)内的所述基板进行风干后传送至所述下料装置(500);
所述下料装置(500)用于将所述基板移出所述基板清洗设备。
2.根据权利要求1所述的基板清洗设备,其特征在于,所述超声波装置(200)包括超声波槽,所述超声波槽内容置有清洗液,所述超声波槽上安装有震动组件,所述震动组件用于震动所述清洗液。
3.根据权利要求2所述的基板清洗设备,其特征在于,所述震动组件包括超声波发生器(230)和若干震子(220),所述超声波发生器(230)分别与每个所述震子(220)通信连接,所述震子(220)安装于所述超声波槽的外壁上,所述超声波发生器(230)用于控制所述震子(220),所述震子(220)用于产生震动。
4.根据权利要求2所述的基板清洗设备,其特征在于,所述超声波槽内设有基板夹块(210),所述基板夹块(210)用于传送经所述清洗液浸泡后的所述基板。
5.根据权利要求1所述的基板清洗设备,其特征在于,所述清洗装置(300)包括清洗槽,所述清洗槽内设有清洗组件和若干间隔均布的第一传动辊(310),所述第一传动辊(310)用于传送所述基板,所述清洗组件用于刷洗所述基板的表面。
6.根据权利要求5所述的基板清洗设备,其特征在于,所述清洗组件包括依序设置的盘刷段和滚刷段,盘刷段上安装有多个盘刷(320),所述盘刷(320)用于刷洗所述基板表面的脏污;滚刷段上安装有多个滚刷(330),所述滚刷(330)用于清除所述基板表面的所述脏污。
7.根据权利要求1所述的基板清洗设备,其特征在于,所述风干装置(400)包括风干槽和设于所述风干槽内的至少两个风刀(420),所述风刀(420)用于向所述基板的表面吹扫压缩空气;所述风干槽内设有若干间隔均布的第二传动辊(410),所述第二传动辊(410)用于传送所述基板。
8.根据权利要求7所述的基板清洗设备,其特征在于,所述风刀(420)设有至少两个,一个所述风刀(420)用于吹扫所述基板的上板面,另一个所述风刀(420)用于吹扫所述基板的下板面。
9.根据权利要求1-8任一项所述的基板清洗设备,其特征在于,所述上料装置(100)包括若干间隔均布的第三传动辊(110),所述第三传动辊(110)用于传送所述基板。
10.根据权利要求1-8任一项所述的基板清洗设备,其特征在于,所述下料装置(500)包括若干间隔均布的第四传动辊(510),所述第四传动辊(510)用于传送所述基板。
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