CN220224327U - 包括气体混合装置的处理设备 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种包括气体混合装置的处理设备，包括处理空间；气体混合装置包括混合罐、螺旋管及多根进气管，混合罐及螺旋管形成气体管路，混合罐包括罐体及螺旋叶片，罐体具有混合腔、进气口及出气口，螺旋叶片设置于混合腔内，以与混合腔的内壁围合形成螺旋通道，进气口及出气口均与螺旋通道连通；螺旋管连接于罐体的进气口和/或出气口，进气管与进气口或螺旋管连接，气体管路连接于处理空间，以向处理空间内提供处理气体。处理气体在螺旋管和罐体的螺旋通道内进行混合后再输送至处理空间内，能够保证处理空间内处理气体混合的均匀性，确保处理空间内镀膜形成的薄膜的质量。

Description

包括气体混合装置的处理设备

技术领域

本实用新型涉及气体处理技术领域，特别是涉及一种包括气体混合装置的处理设备。

背景技术

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子体增强化学气相沉积法)是一种制备太阳能电池生产过程中的标准工艺技术。在PECVD制程中，需要将各种工艺气体混合在工艺腔体中混合。现有的混气方式就是通过多根进气管道与一根总管连通，多种气体在总管中混合，而总管与处理空间连通，将混合的气体输送至处理空间。由于该混气方式靠多种气体在总管中汇合实现混合，气体混合的均匀性受总管的长度影响。当总管受空间限制长度不够时，会导致气体混合的均匀性较差，进而影响薄膜的质量。

实用新型内容

基于此，有必要针对现有的混气方式在总管的长度不够时，气体混合的均匀性较差的问题，提供一种能够保证气体混合均匀，确保薄膜的质量的包括气体混合装置的处理设备。

一种包括气体混合装置的处理设备，包括处理空间；

所述气体混合装置包括混合罐、螺旋管及多根进气管，所述混合罐及所述螺旋管形成气体管路，所述混合罐包括罐体及螺旋叶片，所述罐体具有混合腔、进气口及出气口，所述螺旋叶片设置于所述混合腔内，以与所述混合腔的内壁围合形成螺旋通道，所述进气口及所述出气口均与所述螺旋通道连通；

所述螺旋管连接于所述罐体的所述进气口和/或所述出气口，所述进气管与所述进气口或所述螺旋管连接，所述气体管路连接于所述处理空间，以向所述处理空间内提供处理气体。

采用上述的处理设备，处理气体在螺旋管和罐体的螺旋通道内进行混合后再输送至处理空间内，能够确保输送至处理空间内的处理气体充分混合，从而保证处理空间内处理气体混合的均匀性，确保处理空间内镀膜形成的薄膜的质量。

在其中一个实施例中，所述气体混合装置还包括集气管，多根所述进气管连接于所述集气管，所述集气管连接于所述罐体的所述进气口。

在其中一个实施例中，所述罐体开设有多个所述进气口，每一所述进气管连接于对应的所述进气口，或者多根所述进气管同时与多个所述进气口及所述螺旋管连接，所述螺旋管与所述进气口连接。

在其中一个实施例中，所述混合腔具有依次排布的预混区、混合区及后混区，多个所述进气口中部分与所述预混区连通，另一部分与所述混合区连通，所述出气口与所述后混区连通。

在其中一个实施例中，所述螺旋叶片包括第一子叶片、第二子叶片及第三子叶片，所述第一子叶片设置于所述预混区，以与所述预混区的内壁围合形成第一螺旋子通道，所述第二子叶片设置于所述混合区，以与所述混合区的内壁围合形成第二螺旋子通道，所述第三子叶片设置于所述后混区，以与所述后混区的内壁围合形成第三螺旋子通道；

所述第一螺旋子通道、所述第二螺旋子通道及所述第三螺旋子通道依次连通，多个所述进气口中部分与所述第一螺旋子通道连通，另一部分与所述第二螺旋子通道连通，所述出气口与所述第三螺旋子通道连通。

在其中一个实施例中，所述第一螺旋子通道、第二螺旋子通道及第三螺旋子通道的径向尺寸互不相同。

在其中一个实施例中，所述螺旋叶片具有加热部，所述加热部用于对所述混合腔内的处理气体进行加热。

在其中一个实施例中，所述混合罐还包括固定轴，所述固定轴设置于所述混合腔内，所述螺旋叶片绕设于所述固定轴。

在其中一个实施例中，所述气体混合装置还包括混合管，所述混合管环绕所述罐体设置，且所述混合管一端与所述多根所述进气管连接，另一端与所述罐体的所述进气口连接。

在其中一个实施例中，所述气体混合装置包括至少两条所述气体管路，且所述气体混合装置还包括多个第一控制阀，每一所述第一控制阀连接于对应的一所述气体管路，所述第一控制阀控制是否向所述气体管路提供处理气体。

在其中一个实施例中，所述气体管路和所述处理空间之间还设有第二控制阀，所述第二控制阀控制是否向所述处理空间内提供处理气体。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一实施例提供的气体混合装置的结构示意图；

图2为本实用新型另一实施例提供的气体混合装置的结构示意图；

图3为图1或图2所示的气体混合装置中混合罐的结构示意图；

图4为本实用新型又一实施例提供的混合罐的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

如图1至图3所示，本申请一实施例提供一种处理设备，该处理设备包括气体混合装置100及处理空间40，处理气体经过气体混合装置通入处理空间40内。

气体混合装置100包括多根进气管10、混合罐20及螺旋管30，混合罐20包括罐体21及螺旋叶片22，罐体21具有混合腔211、进气口212及出气口213。螺旋叶片22设置于混合腔211内，以与混合腔211的内壁围合形成螺旋通道23，进气口212及出气口213均与螺旋通道23连通。

螺旋管30连接于罐体21的进气口212和/或出气口213，进气管10与进气口212或螺旋管30连接，混合罐20及螺旋管30形成气体管路，气体管路连接于处理空间40，以向处理空间40内提供处理气体。

需要解释的是，螺旋管30连接于罐体21的进气口212和出气口213时，是指该气体混合装置至少包括两根螺旋管30，进气口212和出气口213分别连接有螺旋管30。

当螺旋管30与罐体21的进气口212连接，进气管10与螺旋管30连接时，处理气体通过进气管10进入螺旋管30内进行初步混合，然后初步混合的处理气体进入罐体21的螺旋通道23内进行再一次混合，最后再一次混合的处理气体从罐体21的出气口213输送至处理空间40内进行镀膜处理。

当螺旋管30与罐体21的出气口213连接，进气管10与罐体21的进气口212连接时，处理气体通过进气管10进入罐体21的螺旋通道23内进行初步混合，然后初步混合的处理气体从罐体21的出气口213进入螺旋管30内进行再一次混合，最后再一次混合的处理气体从螺旋管30内输送至处理空间40内进行镀膜处理。

当螺旋管30同时与罐体21的进气口212和出气口213连接，进气管10与螺旋管30连接时，处理气体通过进气管10进入螺旋管30内进行初步混合，初步混合后的处理气体通过罐体21的进气口212进入螺旋通道23内进行再一次混合，然后再从罐体21的出气口213进入另一螺旋管30内进行又一次混合，最后从该螺旋管30输送至处理空间40内进行镀膜处理。

采用上述的处理设备，处理气体在螺旋管30和罐体21的螺旋通道23内进行混合后再输送至处理空间40内，能够确保输送至处理空间40内的处理气体充分混合，从而保证处理空间40内处理气体混合的均匀性，确保处理空间40内镀膜形成的薄膜的质量。

需要说明的是，由于螺旋管30及螺旋通道23呈螺旋状，有效地延长了处理气体的输送距离，可以确保处理气体充分混合。相较于现有的通过总管混合，该气体混合装置对总体长度的要求较低，能够在长度空间受限制的情况下保证气体充分混合，从而确保镀膜后形成薄膜的质量。

另外，上述混合的处理气体可以是多种处理气体，也可以是不同浓度的相同处理气体，或者是从不同进气管10进入的相同处理气体。换而言之，本申请中的混合不限于多种处理气体混合，还可以是不同浓度的相同处理气体，在此不作限制。

在一些实施例中，气体混合装置包括多个进气阀50，每一进气阀50与对应的一进气管10连接，以控制是否向气体管路提供处理气体。

在一些实施例中，气体混合装置还包括集气管60，多根进气管10连接于集气管60，集气管60连接于罐体21的进气口212。

请参阅图2，在一些实施例中，气体混合装置包括至少两条气体管路，且气体混合装置还包括至少连个第一控制阀，每一第一控制阀连接于对应的一气体管路，第一控制阀控制是否向气体管路提供处理气体。

如此，每次进行镀膜时，可打开其中一个第一控制阀将处理气体混合并输入处理空间40，而其他的第一控制阀关闭，即其他气体管路用于备用。在某一气体管路出现问题时，可以启用其他的气体管路。

可以理解的是，第一控制阀和气体管路设置备用的情况，第一控制阀及气体管路的数量优选为两个，以在实现备用的情况降低设备成本。

在一些实施例中，气体混合装置还包括至少两根分气管70，至少两根分气管70同时与集气管60的另一端连接，每一第一控制阀连接于对应的一分气管70与对应的一气体管路之间。

在一些实施例中，气体混合装置还包括第二控制阀80，第二控制阀80连接于气体管路与处理空间40之间，第二控制器80用于控制是否向处理空间40提供处理气体。

可以理解的是，在设置备用管路时，可以在至少两条气体管路与处理空间40之间设置一个第二控制阀80，也可以是针对至少两条气体管路设置至少两个第二控制阀80，第一控制阀和第二控制阀80共同作用，从而可以避免在气体管路不工作的时候气体进入其中。

同时，在不设置备用管路时，可以仅设置第二控制阀80，即仅通过第二控制阀80控制气体管路与处理空间40之间的通断，而多根进气管10通过多个进气阀50控制进气即可。

在一些实施例中，气体混合装置还包括混合管(图未示)，混合管环绕罐体21设置，且混合管的一端与多根进气管10连接，另一端与罐体21的进气口212连接。

可以理解的都是，混合管的结构与螺旋管30相似，均呈螺旋状，但是混合管是螺旋环绕在罐体21的外侧。混合管的一端可以与集气管60连通，处理气体在进入罐体21之前先在混合管进行混合，然后进入罐体21内进行进一步地混合。

在一些实施例中，混合罐20还包括固定轴24，固定轴24设置于混合腔211内，螺旋叶片22绕设于固定轴24。

请同时参阅图4，在一些实施例中，罐体21具有多个进气口212，每一进气口212均与螺旋通道23连通，且多根进气管10与多个进气口212一一对应连接。

当然，在本实施例中，当需要设置备用管路时，可将进气管10与混合罐20设置为可拆卸地连接，在需要采用备用管路时，将停用的管路上的第二控制阀80关闭，然后将进气管10与停用的混合罐20拆离，接下来将其与备用的混合罐20连接，并且打开对应的第二控制阀80即可。

在一些实施例中，多根进气管10同时与多个进气口212及螺旋管30连接，螺旋管30与进气口212连接。换而言之，螺旋管30与其中一个连接，而多根进气管10中的一根与螺旋管30连接，其他的进气管10则与剩下的进气口212连接。

如此，处理气体先在螺旋管30内进行初步混合，然后进入罐体21的螺旋通道23内进行再一次混合，使得处理气体的混合更加充分。

在一些实施例中，混合腔211包括依次排布的预混区215、混合区216及后混区217，多个进气口212中部分与预混区215连通，另一部分与混合区216连通，出气口213与后混区217连通。

需要说明的是，在本实施例中，可将小流量的处理气体通过与预混区215连通的进气口212输入，将大流量的处理气体通过与混合区216连通的进气口212输入。如此，小流量的处理气体先在预混区215进行初步混合，然后在混合区216与大流量的处理气体进行混合，以使得处理气体混合的更加均匀。

需要解释的是，小流量的处理气体与大流量的处理气体直接混合后，小流量的处理气体容易随大流量的处理气体流动，导致小流量的处理气体之间的混合的均匀度较差。而小流量的处理气体先在预混区215进行初步混合，混合之后再进入混合区216与大流量的处理气体混合，可以调高处理气体混合的均匀性。

另外，需要说明的是，本实施例中，大流量处理气体为H₂和SiH₄，小流量处理气体为PH₃混氢。在其他实施例中，小流量处理气体为一种时，也可以大流量处理气体与小流量处理气体同时输入预混区215，在此不作限制，此时可将进气口212设置为全部与预混区215连通。

实际应用中，混合管通过进气口212与混合区216连通，即大流量的处理气体通过混合管输入混合区216，大流量的处理气体也先在混合管内进行初步混合，然后在混合区216内与小流量的处理气体进一步地混合。

在一些实施例中，螺旋叶片22包括第一子叶片221、第二子叶片222及第三子叶片223，第一子叶片221设置于预混区215，以与预混区215的内壁围合形成第一螺旋子通道231，第二子叶片222设置于混合区216，以与混合区216的内壁围合形成第二螺旋子通道232，第三子叶片223设置于后混区217，以与后混区217的内壁围合形成第三螺旋子通道233。

需要说明的是，第一螺旋子通道231、第二螺旋子通道232及第三螺旋子通道233依次连通，以形成上述的螺旋通道23。而且多个进气口212中部分与第一螺旋子通道231连通，另一部分与第二螺旋子通道232连通，出气口213则与第三螺旋子通道233连通。

可以确定的是，本实施例中，小流量的处理气体先在第一螺旋子通道231内初步混合，然后在第二螺旋子通道232内与大流量处理气体进行混合，从而保证处理气体混合的更加均匀。

另外，需要进一步说明的是，大流量的处理气体可通过至少三路输入混合区216，且三路输入的流量不作限制，通过在各路输入上设置阀门，并通过阀门的开度控制流量即可。相较于单路输入大流量处理气体，多路输入可以降低每一路输入的流量，使得大流量处理气体更加缓和地进入混合区216与小流量处理气体混合，降低处理气体输入的流量差，避免大流量处理气体快速进入并带动小流量处理气体流动影响处理气体混合，从而使得处理气体混合的更加均匀。

需要解释的是，上述的处理气体输入的流量差，可以是大流量处理气体和小流量处理气体之间的流量差，也可以是大流量处理气体多路输入之间的流量差。流量差越小，不同处理气体之间就能够更加缓和的混合，混合的均匀度就越高。

在一些实施例中，第一螺旋子通道231、第二螺旋子通道232及第三螺旋子通道233的径向尺寸互不相同。

实际应用中，第一螺旋子通道231和第三螺旋子通道233的径向尺寸均小于第二螺旋子通道232的径向尺寸。

可以理解的是，当叶片在混合腔211的轴向上的距离确定时，叶片之间的间距越小，叶片螺旋的圈数就越多，故叶片形成的通道就越长。因此，在本实施例中，第一螺旋子通道231和第三螺旋子通道233的径向尺寸较小，可以保证第一螺旋子通道231和第三螺旋子通道233的长度较长，确保处理气体能够充分混合。

大流量的处理气体输入第二螺旋子通道232，大流量的处理气体和小流量的处理气体在第二螺旋子通道232内混合，而第二螺旋子通道232的径向尺寸大于第一螺旋子通道231的径向尺寸，即第二螺旋子通道232提供给两者较大的空间进行混合，可以一定程度上避免处理气体的量流速过快，延长处理气体的混合时间，使得混合更加均匀。

此外，第三螺旋子通道233内处理气体的流速会大于第二螺旋子通道232内处理气体的流速，而且在第二螺旋子通道232与第三螺旋子通道233连通的位置，由于尺寸偏差，第二螺旋子通道232的末端的处理气体会产生堆积，使得处理气体会在第二螺旋子通道232的末端进一步地混合，混合之后再进入第三螺旋子通道233中，然后在第三螺旋子通道233中再一次地混合，混合效果更佳。

在一些实施例中，螺旋叶片22具有加热部，加热部用于对混合腔211内的处理气体加热。

实际应用中，螺旋叶片22整体为上述的加热部，且螺旋叶片22为金属叶片。当然，另一些实施例中，也可以是在螺旋叶片22上形成独立的加热部，在此不作限制。

需要说明的是，本实施例中，金属叶片既是导流结构，也是加热结构，进一步地降低了设备成本。同时，由于金属叶片可以加热，当输入的处理气体是从固态或者液态转换而成的时，可以加热的金属叶片能够避免处理气体转换成固态或液态。

可以理解的是，上述的大流量处理气体通过多路输入，可以降低每一路输入的流量，使得大流量处理气体更加缓和地进入混合罐20，进而避免大流量处理气体快速进入导致混合罐20内的温度变化过大。

本实用新型还提供一种包括气体混合装置100的处理设备的使用方法，该使用方法包括步骤：

S110，通过进气管10向混合罐20和螺旋管30形成的气体管路伸入处理气体以使处理气体在气体管路内混合。

具体地，通过多根进气管10往混合罐20的螺旋通道23内输入多种气体。

S120，通过气体管路向处理空间40内提供混合的处理气体。

采用上述的使用方法，处理气体在螺旋管30和罐体21的螺旋通道23内进行混合后再输送至处理空间40内，能够确保输送至处理空间40内的处理气体充分混合，从而保证处理空间40内处理气体混合的均匀性，确保处理空间40内镀膜形成的薄膜的质量。

在一些实施例中，步骤S110中具体包括：

将大流量处理气体分为多份，且每一份大流量处理气体通过对应的进气口212输入。

需要说明的是，混合罐20的具体结构如上述实施例所述，而将大流量气体分为多份并通过多份进气口212输入，可以使得气体混合的更加均匀，从而提高形成的薄膜的质量。

需要说明的是，上述的处理气体为同种气体。当然，如上所述，在其他实施例中，上述的处理气体也可以是多种气体，在此不作限制。

在一些实施例中，该使用方法还包括步骤：

通过多根进气管10往集气管60输入处理气体，并通过集气管60将处理气体出入进气口212。

在一些实施例中，该使用方法还包括步骤：

通过第二控制阀80控制是否向所述处理空间40内提供处理气体。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (11)

1.一种包括气体混合装置的处理设备，包括处理空间，其特征在于：

所述气体混合装置包括混合罐、螺旋管及多根进气管，所述混合罐及所述螺旋管形成气体管路，所述混合罐包括罐体及螺旋叶片，所述罐体具有混合腔、进气口及出气口，所述螺旋叶片设置于所述混合腔内，以与所述混合腔的内壁围合形成螺旋通道，所述进气口及所述出气口均与所述螺旋通道连通；

所述螺旋管连接于所述罐体的所述进气口和/或所述出气口，所述进气管与所述进气口或所述螺旋管连接，所述气体管路连接于所述处理空间，以向所述处理空间内提供处理气体。

2.根据权利要求1所述的包括气体混合装置的处理设备，其特征在于，所述气体混合装置还包括集气管，多根所述进气管连接于所述集气管，所述集气管连接于所述罐体的所述进气口。

3.根据权利要求1所述的包括气体混合装置的处理设备，其特征在于，所述罐体开设有多个所述进气口，每一所述进气管连接于对应的所述进气口，或者多根所述进气管同时与多个所述进气口及所述螺旋管连接，所述螺旋管与所述进气口连接。

4.根据权利要求1所述的包括气体混合装置的处理设备，其特征在于，所述混合腔具有依次排布的预混区、混合区及后混区，多个所述进气口中部分与所述预混区连通，另一部分与所述混合区连通，所述出气口与所述后混区连通。

5.根据权利要求4所述的包括气体混合装置的处理设备，其特征在于，所述螺旋叶片包括第一子叶片、第二子叶片及第三子叶片，所述第一子叶片设置于所述预混区，以与所述预混区的内壁围合形成第一螺旋子通道，所述第二子叶片设置于所述混合区，以与所述混合区的内壁围合形成第二螺旋子通道，所述第三子叶片设置于所述后混区，以与所述后混区的内壁围合形成第三螺旋子通道；

所述第一螺旋子通道、所述第二螺旋子通道及所述第三螺旋子通道依次连通，多个所述进气口中部分与所述第一螺旋子通道连通，另一部分与所述第二螺旋子通道连通，所述出气口与所述第三螺旋子通道连通。

6.根据权利要求5所述的包括气体混合装置的处理设备，其特征在于，所述第一螺旋子通道、第二螺旋子通道及第三螺旋子通道的径向尺寸互不相同。

7.根据权利要求1所述的包括气体混合装置的处理设备，其特征在于，所述螺旋叶片具有加热部，所述加热部用于对所述混合腔内的处理气体进行加热。

8.根据权利要求1所述的包括气体混合装置的处理设备，其特征在于，所述混合罐还包括固定轴，所述固定轴设置于所述混合腔内，所述螺旋叶片绕设于所述固定轴。

9.根据权利要求1所述的包括气体混合装置的处理设备，其特征在于，所述气体混合装置还包括混合管，所述混合管环绕所述罐体设置，且所述混合管一端与所述多根所述进气管连接，另一端与所述罐体的所述进气口连接。

10.根据权利要求1所述的包括气体混合装置的处理设备，其特征在于，所述气体混合装置包括至少两条所述气体管路，且所述气体混合装置还包括多个第一控制阀，每一所述第一控制阀连接于对应的一所述气体管路，所述第一控制阀控制是否向所述气体管路提供处理气体。

11.根据权利要求10所述的包括气体混合装置的处理设备，其特征在于，所述气体管路和所述处理空间之间还设有第二控制阀，所述第二控制阀控制是否向所述处理空间内提供处理气体。