CN220030611U - 一种连续淋釉处理设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及陶瓷加工领域,尤其涉及一种连续淋釉处理设备。本实用新型提供一种能够稳定支撑坯体进行移动的连续淋釉处理设备。一种连续淋釉处理设备,包括有底座、传送组件和淋釉组件,底座两侧连接有传送组件,底座上方连接有淋釉组件,还包括有支撑座、第一支撑杆、第一弹性件和限位杆,传送组件上方连接有支撑座,支撑座中部滑动式连接有第一支撑杆,第一支撑杆的外部套设有第一弹性件,支撑座上滑动式连接有至少三个限位杆。通过支撑座、第一支撑杆、第一弹性件、限位杆和第二弹性件的作用,能够稳定支撑坯体进行移动,尽可能避免坯体发生位移,减少坯体在移动过程中因震动而受损的情况。
Description
技术领域
本实用新型涉及陶瓷加工领域,尤其涉及一种连续淋釉处理设备。
背景技术
淋釉是陶瓷施釉的常用方法之一,但对于较大器型的坯体进行淋釉,人工操作较为麻烦,需要使用自动淋釉装置进行操作。
现有的自动淋釉装置,主要是通过将坯体直接放置在支撑物上,然后带着坯体进行淋釉,由于连续淋釉操作需要支撑物带着坯体进行长距离的移动,在移动过程中,支撑物很难对坯体进行稳定的支撑,容易导致坯体位移,从而影响淋釉效果,若是坯体位移严重,还容易造成坯体受损。
实用新型内容
本实用新型为了克服现有装置支撑不稳定,容易损坏坯体的缺点,本实用新型提供一种能够稳定支撑坯体进行移动的连续淋釉处理设备。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了这样一种连续淋釉处理设备,包括有底座、传送组件、淋釉组件和烘烤组件,底座两侧连接有传送组件,底座上方连接有淋釉组件,底座上方连接有烘烤组件,还包括有支撑座、第一支撑杆、第一弹性件、限位杆和第二弹性件,传送组件上方连接有支撑座,支撑座中部滑动式连接有第一支撑杆,第一支撑杆的外部套设有第一弹性件,第一弹性件的一端固接在第一支撑杆外侧上部,第一弹性件的另一端固接在支撑座表面,支撑座上滑动式连接有至少三个限位杆,每个限位杆均匀分布在第一支撑杆周围,每个限位杆的外部均套设有第二弹性件,第二弹性件的一端固接在限位杆的上部,第二弹性件的另一端固接在支撑座表面。
优选地,还包括有支架、吹气组件、吹气管、固定柱、转动块、顶杆、第三弹性件、连接杆、传动杆和开关,底座上方固接有支架,支架上连接有吹气组件,吹气组件连通有吹气管,支架上固接有固定柱,固定柱上转动式连接有转动块,支撑座的下方固接有顶杆,转动块的一端与吹气组件之间固接有第三弹性件,转动块的另一端固接有连接杆,连接杆穿过吹气组件固接有传动杆,吹气组件右侧设置有开关,传动杆在一定位置时紧贴开关。
优选地,还包括有扩散器,吹气管的底端固接有扩散器。
优选地,还包括有收集框,吹气组件下方的支架中部固接有收集框。
优选地,还包括有第二支撑杆和毛刷,支架两侧对称固接有第二支撑杆,每个第二支撑杆分别固接有毛刷。
优选地,还包括有防尘挡板,第二支撑杆上固接有防尘挡板。
与现有装置相比,本实用新型的效果的有益效果如下:
1、通过支撑座、第一支撑杆、第一弹性件、限位杆和第二弹性件的作用,能够稳定支撑坯体进行移动,限位杆能够尽可能避免坯体发生位移,第一弹性件和第二弹性件可以起到缓冲减震的作用,减少坯体在移动过程中因震动而受损的情况。
2、在吹气组件和扩散器的作用下,吹气组件能够对坯体表面的杂质进行清理,扩散器能够扩大吹气面积,可以更好地清理较大器型的坯体,尽量避免坯体因表面杂质过多,从而导致淋釉后的坯体釉面不平的情况。
3、通过收集框和防尘挡板的作用,能够减少灰尘等杂质随处散落,收集框能够将质量较重的杂质进行收集,便于后续集中清理,防尘挡板可以减少质量较轻的杂质扩散到周围的空气中。
4、在毛刷的作用下,能够对传送组件进行清理,避免掉落在传送组件上的杂质过多,从而影响到传送效果。
附图说明
图1为本实用新型的立体结构示意图。
图2为本实用新型传送组件、淋釉组件和烘烤组件的立体结构示意图。
图3为本实用新型支撑座、第一支撑杆和限位杆的立体结构示意图。
图4为本实用新型支架、吹气组件和固定柱的立体结构示意图。
图5为本实用新型吹气组件、吹气管、转动块和开关的立体结构示意图。
图6为本实用新型支架、扩散器和收集框的立体结构示意图。
图7为本实用新型第二支撑杆、毛刷和防尘挡板的立体结构示意图。
附图中的标记为:1-底座,101-传送组件,2-淋釉组件,3-烘烤组件,4-支撑座,5-第一支撑杆,6-第一弹性件,7-限位杆,8-第二弹性件,9-支架,10-吹气组件,11-吹气管,12-固定柱,13-转动块,1301-顶杆,14-第三弹性件,15-连接杆,16-传动杆,17-开关,18-扩散器,19-收集框,20-第二支撑杆,21-毛刷,22-防尘挡板。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明。
实施例1
一种连续淋釉处理设备,如图1-图5所示,包括有底座1、传送组件101、淋釉组件2和烘烤组件3,底座1两侧连接有传送组件101,底座1上方连接有淋釉组件2,底座1上方连接有烘烤组件3,还包括有支撑座4、第一支撑杆5、第一弹性件6、限位杆7和第二弹性件8,本实施例所述第一弹性件6为弹簧,本实施例所述第二弹性件8为弹簧,传送组件101上方连接有支撑座4,支撑座4中部滑动式连接有第一支撑杆5,第一支撑杆5的外部套设有第一弹性件6,第一弹性件6的一端焊接在第一支撑杆5外侧上部,第一弹性件6的另一端焊接在支撑座4表面,支撑座4上滑动式连接有八个限位杆7,每个限位杆7均匀分布在第一支撑杆5周围,每个限位杆7的外部均套设有第二弹性件8,第二弹性件8的一端焊接在限位杆7的上部,第二弹性件8的另一端焊接在支撑座4表面。
将坯体放置在第一支撑杆5上,坯体的重量会使得第一支撑杆5下沉,下沉过程中,第一弹性件6能够对第一支撑杆5起到缓冲减震效果,同时坯体的边缘部分与限位杆7贴合,从而使限位杆7能够辅助支撑坯体,第二弹性件8能够更好地帮助限位杆7固定坯体,开启传送组件101,支撑座4随着传送组件101移动,第一支撑杆5和限位杆7带着坯体同步向淋釉组件2移动。
通过支撑座4、第一支撑杆5、第一弹性件6、限位杆7和第二弹性件8的作用,能够稳定支撑坯体进行移动,限位杆7能够尽可能避免坯体发生位移,第一弹性件6和第二弹性件8可以起到缓冲减震的作用,减少坯体在移动过程中因震动而受损的情况。
如图1、图2、图4和图5所示,还包括有支架9、吹气组件10、吹气管11、固定柱12、转动块13、顶杆1301、第三弹性件14、连接杆15、传动杆16和开关17,本实施例中所述第三弹性件14为弹簧,底座1上方焊接有支架9,支架9上连接有吹气组件10,吹气组件10连通有吹气管11,支架9上焊接有固定柱12,固定柱12上转动式连接有转动块13,支撑座4的下方焊接有顶杆1301,转动块13的一端与吹气组件10之间焊接有第三弹性件14,转动块13的另一端焊接有连接杆15,连接杆15穿过吹气组件10焊接有传动杆16,吹气组件10右侧设置有开关17,传动杆16在一定位置时紧贴开关17。
如图6所示,还包括有扩散器18,吹气管11的底端焊接有扩散器18。
支撑座4带着坯体经过吹气组件10时,支撑座4下方的顶杆1301在移动过程中,会触动转动块13与第三弹性件14相连接的这一端,从而使转动块13逆时针旋转,使得转动块13的另一端向右移动,同时带动连接杆15向右移动,连接杆15带动传动杆16打开吹气组件10的开关17,吹气组件10通过吹气管11对坯体表面进行吹气,将坯体表面的灰尘和碎屑等杂质吹走后,支撑座4带着坯体再向淋釉组件2移动。
在吹气组件10和扩散器18的作用下,吹气组件10能够对坯体表面的杂质进行清理,扩散器18能够扩大吹气面积,可以更好地清理较大器型的坯体,尽量避免坯体因表面杂质过多,从而导致淋釉后的坯体釉面不平的情况。
如图6所示,还包括有收集框19,吹气组件10下方的支架9中部焊接有收集框19。
如图1、图6和图7所示,还包括有防尘挡板22,第二支撑杆20上焊接有防尘挡板22。
当吹气组件10通过吹气管11对坯体吹气时,扩散器18能够加大吹气面积,便于清理不同器型的坯体,吹气组件10将坯体表面的杂质吹落后,杂质会在重力作用下掉入收集框19中,方便将杂质集中进行清理,吹气组件10对坯体吹气过程中,第二支撑杆20上固接的防尘挡板22能够减少灰尘和碎屑等杂质的扩散,对杂质进行阻挡并使杂质落在收集框19中。
通过收集框19和防尘挡板22的作用,能够减少灰尘等杂质随处散落,收集框19能够将质量较重的杂质进行收集,便于后续集中清理,防尘挡板22可以减少质量较轻的杂质扩散到周围的空气中。
如图1、图6和图7所示,还包括有第二支撑杆20和毛刷21,支架9两侧对称焊接有第二支撑杆20,每个第二支撑杆20分别焊接有毛刷21。
吹气组件10对坯体吹气后,吹落的部分杂质容易掉落在传送组件101上,传送组件101经过第二支撑杆20上固接的毛刷21时,毛刷21能够对传送组件101中的传送带进行清理,防止传送组件101上存在较多杂质,从而影响到传送效果。
在毛刷21的作用下,能够对传送组件101进行清理,避免掉落在传送组件101上的杂质过多,从而影响到传送效果。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的优选实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形、改进及替代,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (6)
1.一种连续淋釉处理设备,包括有底座(1)、传送组件(101)、淋釉组件(2)和烘烤组件(3),底座(1)两侧连接有传送组件(101),底座(1)上方连接有淋釉组件(2),底座(1)上方连接有烘烤组件(3),其特征在于,还包括有支撑座(4)、第一支撑杆(5)、第一弹性件(6)、限位杆(7)和第二弹性件(8),传送组件(101)上方连接有支撑座(4),支撑座(4)中部滑动式连接有第一支撑杆(5),第一支撑杆(5)的外部套设有用于缓冲减震的第一弹性件(6),第一弹性件(6)的一端固接在第一支撑杆(5)外侧上部,第一弹性件(6)的另一端固接在支撑座(4)表面,支撑座(4)上滑动式连接有至少三个限位杆(7),每个限位杆(7)均匀分布在第一支撑杆(5)周围,每个限位杆(7)的外部均套设有第二弹性件(8),第二弹性件(8)的一端固接在限位杆(7)的上部,第二弹性件(8)的另一端固接在支撑座(4)表面。
2.根据权利要求1所述的一种连续淋釉处理设备,其特征在于,还包括有支架(9)、吹气组件(10)、吹气管(11)、固定柱(12)、转动块(13)、顶杆(1301)、第三弹性件(14)、连接杆(15)、传动杆(16)和开关(17),底座(1)上方固接有支架(9),支架(9)上连接有吹气组件(10),吹气组件(10)连通有吹气管(11),支架(9)上固接有固定柱(12),固定柱(12)上转动式连接有转动块(13),支撑座(4)的下方固接有顶杆(1301),转动块(13)的一端与吹气组件(10)之间固接有第三弹性件(14),转动块(13)的另一端固接有连接杆(15),连接杆(15)穿过吹气组件(10)固接有传动杆(16),吹气组件(10)右侧设置有开关(17),传动杆(16)在一定位置时紧贴开关(17)。
3.根据权利要求2所述的一种连续淋釉处理设备,其特征在于,还包括有扩散器(18),吹气管(11)的底端固接有用于增大吹气面积的扩散器(18)。
4.根据权利要求3所述的一种连续淋釉处理设备,其特征在于,还包括有收集框(19),吹气组件(10)下方的支架(9)中部固接有用于收集杂质的收集框(19)。
5.根据权利要求4所述的一种连续淋釉处理设备,其特征在于,还包括有第二支撑杆(20)和毛刷(21),支架(9)两侧对称固接有第二支撑杆(20),每个第二支撑杆(20)分别固接有用于清理传送组件(101)的毛刷(21)。
6.根据权利要求5所述的一种连续淋釉处理设备,其特征在于,还包括有防尘挡板(22),第二支撑杆(20)上固接有用于防止杂质扩散的防尘挡板(22)。
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