CN219965796U - 用于硅片清洗的臭氧清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种用于硅片清洗的臭氧清洗装置。用于硅片清洗的臭氧清洗装置，包括：工艺箱，工艺箱具有工艺槽，工艺槽用于存储臭氧溶液，存储有硅片的花篮放置在工艺槽内；至少一个液体管道，液体管道的第一端与工艺槽连通且连通位置高于工艺槽内的花篮的高度；臭氧溶解装置，臭氧溶解装置用于增加液体中臭氧的浓度，臭氧溶解装置设置在液体管道上，且液体管道的第二端与工艺槽的底部连通，以用于使工艺槽内的液体经液体管道流到臭氧溶解装置内，在臭氧溶解装置中增加臭氧后流入到工艺槽内。本实用新型解决了现有技术中臭氧清洗装置存在臭氧浓度低的问题。

Description

用于硅片清洗的臭氧清洗装置

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池生产设备技术领域，具体而言，涉及一种用于硅片清洗的臭氧清洗装置。

背景技术

随着太阳能电池制造技术的不断发展，由于臭氧具有氧化能力强、制造成本低、对环境友好等优点，故臭氧清洗体系逐渐替代了传统的RCA清洗体系。但是现有臭氧清洗装置中，通常采用主槽和副槽的结构形式，其中，副槽位于主槽的下方，主槽用于清洗硅片，主槽和副槽通过循环管路连接。在工作时，副槽的溶液通过循环泵泵送到主槽，主槽内的液面不断升高，同时副槽内的液面不断下降，主槽液面达到溢流位置后，溶液通过溢流口回落到副槽。

由于主槽内液面和副槽内液面存在明显的高度差，主槽内的溶液到达溢流位置后，在重力的影响下，主槽的溶液以类似瀑布的形式回落到副槽内，导致溶解在溶液中的臭氧气体析出，使副槽内的溶液的臭氧浓度下降，进而导致主槽内的臭氧浓度不能达到一个较高的水平，无法适应光伏、半导体行业对高浓度臭氧的使用需求。

也就是说，现有技术中臭氧清洗装置存在臭氧浓度低的问题。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种用于硅片清洗的臭氧清洗装置，以解决现有技术中臭氧清洗装置存在臭氧浓度低的问题。

为了实现上述目的，根据本实用新型的一个方面，提供了一种用于硅片清洗的臭氧清洗装置，包括：工艺箱，工艺箱具有工艺槽，工艺槽用于存储臭氧溶液，存储有硅片的花篮放置在工艺槽内；至少一个液体管道，液体管道的第一端与工艺槽连通且连通位置高于工艺槽内的花篮的高度；臭氧溶解装置，臭氧溶解装置用于增加液体中臭氧的浓度，臭氧溶解装置设置在液体管道上，且液体管道的第二端与工艺槽的底部连通，以用于使工艺槽内的液体经液体管道流到臭氧溶解装置内，在臭氧溶解装置中增加臭氧后流入到工艺槽内。

进一步地，臭氧清洗装置还包括液位传感器，液位传感器设置在工艺箱上，以检测工艺槽内的液位高度，液位传感器位于液体管道的第一端的上方，液位传感器与臭氧溶解装置信号连接以调节臭氧溶解装置的启闭状态。

进一步地，液位传感器与工艺槽内的花篮的高度差大于等于2厘米且小于等于10厘米。

进一步地，工艺箱具有溢流排液口，溢流排液口位于液位传感器的上方且与液位传感器间隔设置。

进一步地，溢流排液口与液位传感器的高度差大于等于2厘米且小于等于10厘米。

进一步地，臭氧溶解装置在液体管道上相对于第一端靠近第二端。

进一步地，臭氧清洗装置还包括网板，网板可拆卸地设置在工艺槽内，网板将工艺槽分为位于网板上方的反应槽和位于网板下方的混液槽，液体管道的第一端与反应槽连通，液体管道的第二端与混液槽连通。

进一步地，臭氧清洗装置还包括匀流管，匀流管具有多个匀流孔，匀流管位于混液槽内，液体管道的第二端与匀流管连通，以使液体管道内的臭氧溶液经过匀流孔流入到混液槽内。

进一步地，匀流管包括沿第一方向延伸的第一管道和沿第二方向延伸的第二管道，且至少一个第一管道与第二管道交叉设置并连通，且第一管道和第二管道上均设置有匀流孔，第一管道与第二管道之间具有夹角。

进一步地，第一管道为多个，且多个第一管道沿第二方向间隔排列设置，第二管道连通所有第一管道，且液体管道的第二端与第二管道连通。

进一步地，臭氧清洗装置还包括多个限位块，多个限位块可拆卸地设置在网板上，多个限位块围成至少一个对花篮限位的限位区域。

进一步地，工艺箱的顶部具有至少一个朝向工艺箱的外周侧隆起的隆起部，隆起部朝向工艺箱的内侧形成有回流槽，回流槽与工艺槽连通，液体管道连接至隆起部。

进一步地，液体管道包括：进液管段，进液管段为多个，且进液管段的进液端作为液体管道的第一端；汇流管段，所有进液管段的出液端均分别连接至汇流管段，汇流管段远离进液管段的一端作为液体管道的第二端，臭氧溶解装置设置在汇流管段处。

进一步地，臭氧溶解装置包括沿汇流管段的进液侧向出液侧依次布置的循环泵和湿模块，臭氧溶解装置还包括：臭氧发生器；气管，臭氧发生器通过气管与湿模块连接，以向湿模块内通入臭氧。

进一步地，液体管道的横截面积大于等于3平方厘米且小于等于20平方厘米。

应用本实用新型的技术方案，用于硅片清洗的臭氧清洗装置包括工艺箱、液体管道和臭氧溶解装置，工艺箱具有工艺槽，工艺槽用于存储臭氧溶液，存储有硅片的花篮放置在工艺槽内，液体管道的第一端与工艺槽连通且连通位置高于工艺槽内的花篮的高度。如此，液体管道的第一端连接在工艺槽的顶部位置，有效减少了液体流动的高度差，避免倾泻而下，减少了臭氧析出的风险，保证了液体管道中溶液的臭氧浓度，再次经过臭氧溶解装置后，能够进一步增加臭氧的浓度，使工艺槽内的臭氧溶液能够达到较高的浓度，满足了太阳能电池和半导体行业对高浓度臭氧的使用需求。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1示出了本实用新型的一个可选实施例的臭氧清洗装置的结构示意图；以及

图2示出了图1中匀流管与汇流管段的连接关系示意图；

图3示出了图1中网板与限位块的位置关系示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

10、工艺箱；11、工艺槽；111、反应槽；112、混液槽；12、溢流排液口；13、隆起部；14、回流槽；16、箱体；17、箱盖；20、花篮；30、液体管道；31、第一端；32、第二端；33、进液管段；34、汇流管段；40、臭氧溶解装置；41、循环泵；42、湿模块；43、臭氧发生器；44、气管；50、液位传感器；60、网板；61、网板小孔；70、匀流管；71、匀流孔；72、第一管道；73、第二管道；80、限位块。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

需要指出的是，除非另有指明，本申请使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的，或者是针对部件本身在竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本实用新型。

为了解决现有技术中臭氧清洗装置存在臭氧浓度低的问题，本实用新型提供了一种用于硅片清洗的臭氧清洗装置。

在本实用新型中，用于硅片清洗的臭氧清洗装置包括工艺箱10、液体管道30和臭氧溶解装置40，工艺箱10具有工艺槽11，工艺槽11用于存储臭氧溶液，存储有硅片的花篮20放置在工艺槽11内，液体管道30的第一端31与工艺槽11连通且连通位置高于工艺槽11内的花篮20的高度。如此，液体管道30的第一端31连接在工艺槽11的顶部位置，有效减少了液体流动的高度差，避免倾泻而下，减少了臭氧析出的风险，保证了液体管道30中溶液的臭氧浓度，再次经过臭氧溶解装置40后，能够进一步增加臭氧的浓度，使工艺槽11内的臭氧溶液能够达到较高的浓度，满足了太阳能电池和半导体行业对高浓度臭氧的使用需求。

此外，本申请中采用液体管道30直接与工艺槽11连通的形式，由于液体管道30的开口面积相对于工艺槽11的面积较小，在工艺槽11内液体达到液体管道30的第一端31与工艺槽11的连通位置的高度时，会有大量液体迅速填满液体管道30，进而使工艺槽11内的液体漫过液体管道30的第一端31，使后续流入到液体管道30内的液体没有高度差，避免倾泻而下，有效避免了臭氧析出的风险。

实施例一

如图1至图3所示，用于硅片清洗的臭氧清洗装置包括工艺箱10、臭氧溶解装置40和至少一个液体管道30，工艺箱10具有工艺槽11，工艺槽11用于存储臭氧溶液，存储有硅片的花篮20放置在工艺槽11内；液体管道30的第一端31与工艺槽11连通且连通位置高于工艺槽11内的花篮20的高度；臭氧溶解装置40用于增加液体中臭氧的浓度，臭氧溶解装置40设置在液体管道30上，且液体管道30的第二端32与工艺槽11的底部连通，以用于使工艺槽11内的液体经液体管道30流到臭氧溶解装置40内，在臭氧溶解装置40中增加臭氧后流入到工艺槽11内。

由于液体管道30具有口径小的特点，工艺槽11内的液体采用液体管道30进行循环，使液体管道30内始终为满液状态，进而使液体从工艺槽11流入到液体管道30内时为缓慢流入，而不是以瀑布的形式流入到液体管道30内，减少了臭氧析出的风险。此外，液体管道30的第一端31与工艺槽11的连通位置高于工艺槽11内花篮20的高度，使液体管道30的第一端31连接在较高的位置，保证花篮20内的硅片全部浸泡在臭氧溶液内后，工艺槽11的臭氧溶液才进行循环，以保证硅片反应的均匀性。同时液体管道30连接在工艺槽11的顶部位置，有效减少了液体流动的高度差，避免液体倾泻而下，减少了臭氧析出的风险。臭氧溶解装置40设置在液体管道30上，以对回流至工艺槽11内的液体进行补充臭氧，保证工艺槽11内的臭氧浓度。

需要说明的是，以瀑布的形式是指液体在有高度差的位置大量的水从高处急速流下，或者说从高处倾倒形成“瀑布”，也可以说是倾泻而下。

在本实用新型中，工艺槽11内的臭氧溶液高度高于液体管道30的第一端31的高度后，臭氧溶液流入到液体管道30内并经过臭氧溶解装置40后回流至工艺槽11内。其中，臭氧溶解装置40用于将臭氧溶解至液体管道30内的臭氧溶液中，以使回流至工艺槽11内的臭氧溶液中臭氧具有较高的浓度。

在图1所示的具体实施例中，臭氧清洗装置还包括液位传感器50，液位传感器50设置在工艺箱10上，以检测工艺槽11内的液位高度，液位传感器50位于液体管道30的第一端31的上方，液位传感器50与臭氧溶解装置40信号连接以调节臭氧溶解装置40的启闭状态。液位传感器50与臭氧溶解装置40信号连接，以控制臭氧溶解装置40的启闭。

具体的，在工艺槽11内液位高于液位传感器50时，臭氧溶解装置40工作，以使工艺槽11内的液体经液体管道30循环；在工艺槽11内液位低于液位传感器50时，臭氧溶解装置40停止工作，以使工艺槽11内的液体停止循环，同时对臭氧溶解装置40实现连锁保护。如此，使工艺槽11内的液体始终高于液体管道30的第一端31，进而保证液体管道30始终为满液状态，有效避免了液体以瀑布的形式流动，保证了臭氧溶液中臭氧的浓度。

需要说明的是，只需要保证液位传感器50位于液体管道30的第一端31的上方即可，二者之间的高度差不做具体限制。

在图1所示的具体实施例中，液位传感器50的高度高于工艺槽11内的花篮20的高度，液位传感器50与工艺槽11内的花篮20的高度差大于等于2厘米且小于等于10厘米。如此，保证工艺槽11内的液体始终位于花篮20的上方，保证花篮20内的硅片始终浸泡在臭氧溶液中，以保证硅片在臭氧清洗装置内充分反应。

优选地，液位传感器50与工艺槽11内的花篮20的高度差为6厘米。

在图1所示的具体实施例中，工艺箱10具有溢流排液口12，溢流排液口12位于液位传感器50的上方且与液位传感器50间隔设置。当工艺槽11内的液面高度高于溢流排液口12时，液体通过溢流排液口12流出，避免工艺槽11内液面过高从工艺箱10的箱盖17处溢出，避免臭氧溶液滴落到操作人员身上，保证了操作人员的安全。

具体的，溢流排液口12与液位传感器50的高度差大于等于2厘米且小于等于10厘米。若溢流排液口12与液位传感器50之间的高度差小于2厘米，就导致液体容易被排出到工艺槽11外，导致液体的浪费。若溢流排液口12与液位传感器50之间的高度差大于10厘米，导致液体容易从工艺箱10的箱盖17处溢出。

优选地，溢流排液口12与液位传感器50的高度差为4厘米。

在本实用新型中，臭氧溶解装置40的位置也较为重要，臭氧溶解装置40在液体管道30上相对于第一端31靠近第二端32。将臭氧溶解装置40设置在靠近第二端32的位置，使臭氧溶解装置40在臭氧溶液中补充臭氧后，快速流入到工艺槽11内，以保证工艺槽11内的臭氧液体具有较高的臭氧浓度，以保证硅片快速、充分反应。

在图1和图3所示的具体实施例中，臭氧清洗装置还包括网板60，网板60可拆卸地设置在工艺槽11内，网板60将工艺槽11分为位于网板60上方的反应槽111和位于网板60下方的混液槽112，液体管道30的第一端31与反应槽111连通，液体管道30的第二端32与混液槽112连通。网板60将工艺槽11分为反应槽111和混液槽112，以使经液体管道30的第二端32流入的液体在混液槽112内混合均匀后流入到反应槽111内，保证反应槽111内臭氧均匀分布，进而保证硅片均匀反应。此外，网板60对花篮20起到支撑作用，保证花篮20稳定放置在反应槽111内。

需要说明的是，网板60上具有多个网板小孔61，以使混液槽112内的液体流入到反应槽111内。

可选地，网板小孔61的形状可以为圆形、矩形、菱形、梯形等，此处不做具体限制。而多个网板小孔61的大小可以相同，也可以不同；相邻两个网板小孔61之间的间距也可以相同，也可以不同；此处对网板小孔61的大小、间距不做具体限制，只需要保证网板60上具有多个网板小孔61即可。

为了保证花篮20稳定工作，臭氧清洗装置还包括多个限位块80，多个限位块80可拆卸地设置在网板60上，多个限位块80围成至少一个对花篮20限位的限位区域。限位块80至少对花篮20的相对的两侧进行限位，避免花篮20在反应槽111内移动，减少相邻两个花篮20之间产生干涉，进而减少了硅片碰碎的风险。此外，这样设置还可以避免反应槽111内局部硅片过多，导致局部臭氧较小的情况，有利于臭氧均匀分布，使硅片均匀反应。

需要说明的是，限位块80可拆卸地设置在网板60上，使限位块80的位置可调节，使限位块80之间的间距可以根据花篮20的尺寸进行设置，有利于臭氧清洗装置与不同尺寸的花篮20适配。

为了保证混液槽112内臭氧均匀分布，臭氧清洗装置还包括匀流管70，匀流管70具有多个匀流孔71，匀流管70位于混液槽112内，液体管道30的第二端32与匀流管70连通，以使液体管道30内的臭氧溶液经过匀流孔71流入到混液槽112内。如此，经液体管道30流入到匀流管70内的高浓度的臭氧溶液，从多个匀流孔71流入到混液槽112内，避免了高浓度的臭氧溶液在局部聚集，有利于高浓度的臭氧溶液分布，以迅速提高整个混液槽112内的臭氧浓度。

可选地，匀流管70的直径大于等于5毫米且小于等于20毫米。

优选地，匀流管70的直径为15毫米。

可选地，匀流孔71的形状可以为圆形、矩形、菱形、梯形等，此处不做具体限制。而多个匀流孔71的大小可以相同，也可以不同；相邻两个匀流孔71之间的间距也可以相同，也可以不同；多个匀流孔71的开口方向可以相同，也可以不同；此处对匀流孔71的大小、间距、开口方向不做具体限制，只需要保证匀流管70上具有多个匀流孔71即可。

在图2所示的具体实施例中，匀流管70包括沿第一方向延伸的第一管道72和沿第二方向延伸的第二管道73，且至少一个第一管道72与第二管道73交叉设置并连通，且第一管道72和第二管道73上均设置有匀流孔71，第一管道72与第二管道73之间具有夹角。如此，匀流管70能够将高浓度的臭氧溶液导流至不同的方向和不同的位置处，有利于高浓度臭氧溶液分布在不同的位置，有利于混液槽112内的溶液迅速混合均匀，增加了混液槽112内的不同位置的臭氧溶液的臭氧浓度的一致性。

具体的，第一管道72为多个，且多个第一管道72沿第二方向间隔排列设置，第二管道73连通所有第一管道72，且液体管道30的第二端32与第二管道73连通。在保证匀流管70将臭氧溶液均匀分布的同时有利于匀流管70的制作。

优选地，多个第一管道72等间隔排布。

为了便于液体管道30与工艺箱10连接，工艺箱10的顶部具有至少一个朝向工艺箱10的外周侧隆起的隆起部13，隆起部13朝向工艺箱10的内侧形成有回流槽14，回流槽14与工艺槽11连通，液体管道30连接至隆起部13。回流槽14与工艺槽11连通，工艺槽11内具有向上流动的液体，导致液体波动较大，而工艺槽11的液位逐渐增高液体溢流到回流槽14处，减少了回流槽14内液体的波动，使流入到液体管道30内的液体较为稳定，减少臭氧析出的风险。隆起部13的设置不仅有利于液体管道30连接到工艺箱10的顶部，同时可以减少对流入到液体管道30内的液体的波动，减少臭氧析出的风险。

具体的，液体管道30与隆起部13靠近臭氧溶解装置40的一侧的表面连接。

可选地，液位传感器50和溢流排液口12设置在隆起部13上。

在图1所示的具体实施例中，工艺箱10的顶部仅具有一个隆起部13，而隆起部13绕工艺槽11的外周首尾连接，以使回流槽14为环状。这样设置使回流槽14处留存有更多的液体，有利于液体管道30始终为满液状态。

具体的，多个进液管段33与隆起部13的不同位置连接。

如图1所示，液体管道30包括进液管段33和汇流管段34，进液管段33为多个，且进液管段33的进液端作为液体管道30的第一端31；所有进液管段33的出液端均分别连接至汇流管段34，汇流管段34远离进液管段33的一端作为液体管道30的第二端32，臭氧溶解装置40设置在汇流管段34处。采用多个进液管段33和一个汇流管段34的形式，使液体管道30内液体的流入速度大于液体的流出速度，有利于快速液体快速填满液体管道30。同时多个进液管段33的设置可以将多个位置的臭氧溶液回流至液体管道30内，有利于臭氧溶液之间均匀混合，保证工艺槽11内臭氧均匀分布。

具体的，臭氧溶解装置40包括沿汇流管段34的进液侧向出液侧依次布置的循环泵41和湿模块42，臭氧溶解装置40还包括臭氧发生器43和气管44，臭氧发生器43通过气管44与湿模块42连接，以向湿模块42内通入臭氧。循环泵41为湿模块42提供充足的溶液来溶解臭氧气体，循环泵41将液体泵入至湿模块42，臭氧气体在湿模块42中溶解至溶液中并生成高浓度的臭氧溶液，高浓度臭氧溶液流入到混液槽112内。

其中，湿模块42的内部为蜂窝或活性碳状结构，比表面积很大，可以再溶液流动时制造湍流，保证臭氧溶解进溶液内。臭氧发生器43为一种依靠电解氧气产生臭氧的装置，电解产生的臭氧气体经过气管44流入到湿模块42内。

循环泵41可以为自吸式循环泵、磁力式循环泵中的一种，此处不做具体限制，只需要保证循环泵41能够实现液体在工艺槽11、液体管道30、湿模块42之间的循环即可。

循环泵41具有功率、转速可调节的功能，循环泵41的功率或转速可通过PLC(Programmable Logic，可编程逻辑控制器)或者电脑来控制，以实现溶液与臭氧气体之间不同比例的混合。

需要说明的是，液位传感器50与循环泵41信号连接。

气管44可以由石英、陶瓷、PP(聚丙烯)、PVC(聚氯乙烯)、PVDF(聚偏二氟乙烯)、PTFE(聚四氟乙烯)、PFA(全氟烷氧基)中的至少一种组成。

优选地，工艺箱10、湿模块42采用PTFE制成，液体管道30和气管采用PFA制成。

可选地，液体管道30的横截面积大于等于3平方厘米且小于等于20平方厘米。若液体管道30的横截面积小于3平方厘米，使流经臭氧溶解装置40的溶液流量不足，无法充分溶解臭氧发生器43产生的臭氧气体。若液体管道30的横截面积大于20平米厘米，使流经臭氧溶解装置40的溶液流量过大，不易保证液体管道30内始终为满液状态，容易导致臭氧析出。将液体管道30的横截面积设置在合理的范围内，有利于保证液体管道30始终为满液状态，同时可以保证有充足的溶液去溶解臭氧发生器43产生的臭氧气体。具体的，工艺箱10包括箱体16和箱盖17，箱体16具有工艺槽11，箱盖17盖设在箱体16上。其中，箱盖17可以以卷轴的方式安装于箱体16上，也可以为单侧开合或双侧开合的形式安装在箱体16上，此处不做具体限制。而在图1所示的具体实施例中，箱盖17为双侧开合的形式安装在箱体16上。

以一个具体的例子来表面本申请的臭氧清洗装置与现有技术中臭氧清洗装置中工艺槽内臭氧浓度的差异。

在现有技术中臭氧清洗装置与本申请中的臭氧清洗装置在溶液配比、臭氧发生器43的功率、循环泵41的流速一致的前提下，获得了如表1所示的臭氧浓度测试数据。

臭氧槽结构方式	溶液配比DI/HCL/HF	臭氧发生器功率	循环泵流速	工艺槽臭氧浓度
					现有技术提供的结构	396/2/2	1.5kW	80L/min	28.6ppm
本申请提供的结构	396/2/2	1.5kW	80L/min	48.3ppm

表1

从表1可知，采用本申请中的臭氧清洗装置得到的工艺槽11内的臭氧浓度显著提高，本申请中的臭氧清洗装置解决了现有技术中臭氧清洗装置存在的反应槽内臭氧浓度不均匀、臭氧浓度达不到30ppm以上的问题。

实施例二

与实施例一的区别是，隆起部13的结构不同。

在本实施例中，工艺箱10的顶部具有多个朝向工艺箱10的外周侧隆起的隆起部13，多个隆起部13与多个进液管段33一一对应连通。这样设置同样能够保证液体管道30始终为满液状态。

显然，上述所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、工作、器件、组件和/或它们的组合。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (15)

1.一种用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，包括：

工艺箱(10)，所述工艺箱(10)具有工艺槽(11)，所述工艺槽(11)用于存储臭氧溶液，存储有硅片的花篮(20)放置在所述工艺槽(11)内；

至少一个液体管道(30)，所述液体管道(30)的第一端(31)与所述工艺槽(11)连通且连通位置高于所述工艺槽(11)内的花篮(20)的高度；

臭氧溶解装置(40)，所述臭氧溶解装置(40)用于增加液体中臭氧的浓度，所述臭氧溶解装置(40)设置在所述液体管道(30)上，且所述液体管道(30)的第二端(32)与所述工艺槽(11)的底部连通，以用于使所述工艺槽(11)内的液体经所述液体管道(30)流到所述臭氧溶解装置(40)内，在所述臭氧溶解装置(40)中增加臭氧后流入到所述工艺槽(11)内。

2.根据权利要求1所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述臭氧清洗装置还包括液位传感器(50)，所述液位传感器(50)设置在所述工艺箱(10)上，以检测所述工艺槽(11)内的液位高度，所述液位传感器(50)位于所述液体管道(30)的第一端(31)的上方，所述液位传感器(50)与所述臭氧溶解装置(40)信号连接以调节所述臭氧溶解装置(40)的启闭状态。

3.根据权利要求2所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述液位传感器(50)与所述工艺槽(11)内的花篮(20)的高度差大于等于2厘米且小于等于10厘米。

4.根据权利要求2所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述工艺箱(10)具有溢流排液口(12)，所述溢流排液口(12)位于所述液位传感器(50)的上方且与所述液位传感器(50)间隔设置。

5.根据权利要求4所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述溢流排液口(12)与所述液位传感器(50)的高度差大于等于2厘米且小于等于10厘米。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述臭氧溶解装置(40)在所述液体管道(30)上相对于所述第一端(31)靠近所述第二端(32)。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述臭氧清洗装置还包括网板(60)，所述网板(60)可拆卸地设置在所述工艺槽(11)内，所述网板(60)将所述工艺槽(11)分为位于所述网板(60)上方的反应槽(111)和位于所述网板(60)下方的混液槽(112)，所述液体管道(30)的第一端(31)与所述反应槽(111)连通，所述液体管道(30)的第二端(32)与所述混液槽(112)连通。

8.根据权利要求7所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述臭氧清洗装置还包括匀流管(70)，所述匀流管(70)具有多个匀流孔(71)，所述匀流管(70)位于所述混液槽(112)内，所述液体管道(30)的第二端(32)与所述匀流管(70)连通，以使所述液体管道(30)内的臭氧溶液经过所述匀流孔(71)流入到所述混液槽(112)内。

9.根据权利要求8所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述匀流管(70)包括沿第一方向延伸的第一管道(72)和沿第二方向延伸的第二管道(73)，且至少一个所述第一管道(72)与所述第二管道(73)交叉设置并连通，且所述第一管道(72)和所述第二管道(73)上均设置有所述匀流孔(71)，所述第一管道(72)与所述第二管道(73)之间具有夹角。

10.根据权利要求9所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述第一管道(72)为多个，且多个所述第一管道(72)沿所述第二方向间隔排列设置，所述第二管道(73)连通所有所述第一管道(72)，且所述液体管道(30)的第二端(32)与所述第二管道(73)连通。

11.根据权利要求7所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述臭氧清洗装置还包括多个限位块(80)，多个所述限位块(80)可拆卸地设置在所述网板(60)上，多个所述限位块(80)围成至少一个对所述花篮(20)限位的限位区域。

12.根据权利要求1至5中任一项所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述工艺箱(10)的顶部具有至少一个朝向所述工艺箱(10)的外周侧隆起的隆起部(13)，所述隆起部(13)朝向所述工艺箱(10)的内侧形成有回流槽(14)，所述回流槽(14)与所述工艺槽(11)连通，所述液体管道(30)连接至所述隆起部(13)。

13.根据权利要求1至5中任一项所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述液体管道(30)包括：

进液管段(33)，所述进液管段(33)为多个，且所述进液管段(33)的进液端作为所述液体管道(30)的第一端(31)；

汇流管段(34)，所有所述进液管段(33)的出液端均分别连接至所述汇流管段(34)，所述汇流管段(34)远离所述进液管段(33)的一端作为所述液体管道(30)的第二端(32)，所述臭氧溶解装置(40)设置在所述汇流管段(34)处。

14.根据权利要求13所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述臭氧溶解装置(40)包括沿所述汇流管段(34)的进液侧向出液侧依次布置的循环泵(41)和湿模块(42)，所述臭氧溶解装置(40)还包括：

臭氧发生器(43)；

气管(44)，所述臭氧发生器(43)通过所述气管(44)与所述湿模块(42)连接，以向所述湿模块(42)内通入臭氧。

15.根据权利要求1至5中任一项所述的用于硅片清洗的臭氧清洗装置，其特征在于，所述液体管道(30)的横截面积大于等于3平方厘米且小于等于20平方厘米。