CN219922952U - 一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于化工反应设备技术领域，且公开了一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，包括支腿，所述支腿的顶端固定安装有箱体，所述箱体顶端的中部活动安装有防护箱，所述防护箱的内壁固定连接有驱动电机。本实用新型通过设置第一气缸、斜杆、立杆、连杆和搅拌叶本体，通过启动驱动电机，可以使得圆轴带动搅拌叶本体发生转动，从而能够对原料进行搅拌，通过启动第一气缸，可以推动推拉块带动斜杆向后运动，由于斜杆的运动，将会带动两个立杆相背运动，由于立杆的运动，将会通过连杆带动防护箱向上运动，从而使得驱动电机带动搅拌叶本体向上运动，最终实现能够调节搅拌范围的效果，从而使得原料的混合效果更好。

Description

一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器

技术领域

本实用新型属于化工反应设备技术领域，具体是一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器。

背景技术

纳米二氧化硅是一种无机化工材料，俗称白炭黑，其在橡胶、塑料、农药、日用化学品等各个领域有着广泛用途，工作人员在生产纳米二氧化硅时经常会用到沉淀反应器，从而能够提升纳米二氧化硅的生产效率，现有的沉淀反应器在混合原料时一般是通过电机带动搅拌叶对原料进行搅拌，从而能够加快原料的反应速度，然而现有沉淀反应器的搅拌叶搅拌范围一般是固定的，这时由于现有沉淀搅拌器的搅拌叶不具有调节搅拌范围的功能，从而使得反应器内部的原料混合不均匀，进而将会导致二氧化硅的生产质量下降，因此需要对其进行改进。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对以上问题，本实用新型提供了一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，具有能够提升原料混合效果的优点。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，包括支腿，所述支腿的顶端固定安装有箱体，所述箱体顶端的中部活动安装有防护箱，所述防护箱的内壁固定连接有驱动电机，所述驱动电机输出轴的另一端固定套接有圆轴，所述圆轴的外表面固定连接有位于箱体内部的搅拌叶本体，所述箱体顶部的两侧均活动安装有立杆，所述箱体的顶部开设有位于立杆下方的顶槽，所述立杆的底端固定连接有位于顶槽内部的滑块，所述防护箱两侧的底部均铰接有连杆，所述连杆的另一端铰接在立杆的外表面，所述箱体的顶部固定安装有位于防护箱后方的第一气缸，所述第一气缸的另一端固定连接有推拉块，所述推拉块正面的两侧均固定安装有斜杆，所述斜杆的另一端贯穿立杆并延伸至立杆的前方。

作为本实用新型优选的，所述圆轴外表面顶部的两侧均固定连接有横杆，所述横杆的底端固定连接有刮条，所述刮条的外表面与箱体的内壁活动连接。

作为本实用新型优选的，所述箱体的顶部固定安装有位于防护箱前方的入料口，所述入料口外表面的顶部螺纹套接有顶盖。

作为本实用新型优选的，所述箱体底端的中部固定安装有方箱，所述方箱底端的中部固定安装有出料口，所述出料口外表面的底部螺纹套接有底盖。

作为本实用新型优选的，所述箱体底端的左侧固定安装有刹车电机，所述刹车电机输出轴的另一端固定套接有转轴，所述转轴的另一端固定连接有摆杆，所述摆杆左侧的中部开设有方孔。

作为本实用新型优选的，所述方箱两侧内壁的顶部之间活动安装有滤板，所述滤板的前后两侧均贯穿方箱并延伸至方箱的外表面，所述方箱的左侧开设有位于滤板正左方的侧孔，所述滤板左端的中部固定连接有固定块，所述固定块的另一端穿过侧孔并延伸至方孔的内部。

作为本实用新型优选的，所述箱体内壁底端的中部开设有下料孔，所述箱体底端的右侧固定安装有第二气缸，所述第二气缸的另一端贯穿方箱并延伸至方箱的内部且固定连接有挡板。

作为本实用新型优选的，所述滑块的外表面与顶槽的内壁活动连接，所述滑块的外表面与顶槽的内壁均光滑。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1、本实用新型通过设置第一气缸、斜杆、立杆、连杆和搅拌叶本体，通过启动驱动电机，可以使得圆轴带动搅拌叶本体发生转动，从而能够对原料进行搅拌，通过启动第一气缸，可以推动推拉块带动斜杆向后运动，由于斜杆的运动，将会带动两个立杆相背运动，由于立杆的运动，将会通过连杆带动防护箱向上运动，从而使得驱动电机带动搅拌叶本体向上运动，最终实现能够调节搅拌范围的效果，从而使得原料的混合效果更好。

2、本实用新型通过设置刹车电机、摆杆、滤板和固定块，通过启动刹车电机，可以使得转轴带动摆杆发生转动，由于摆杆的转动，将会通过方孔的内壁挤压固定块的外表面，从而使得固定块带动滤板向前或向后运动，进而滤板将会从方箱的内部运动至方箱的前方或后方，从而使得工作人员便于对滤板进行清洗，防止滤板被堵塞影响过滤效率。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型的正面剖视结构示意图；

图3为本实用新型的侧面结构示意图；

图4为本实用新型的俯视结构示意图；

图5为图2中A处的局部放大结构示意图。

图中：1、支腿；2、箱体；3、防护箱；4、驱动电机；5、圆轴；6、搅拌叶本体；7、立杆；8、顶槽；9、滑块；10、连杆；11、第一气缸；12、推拉块；13、斜杆；14、横杆；15、刮条；16、入料口；17、顶盖；18、方箱；19、出料口；20、底盖；21、刹车电机；22、转轴；23、摆杆；24、方孔；25、滤板；26、侧孔；27、固定块；28、下料孔；29、第二气缸；30、挡板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1至图5所示，本实用新型提供一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，包括支腿1，支腿1的顶端固定安装有箱体2，箱体2顶端的中部活动安装有防护箱3，防护箱3的内壁固定连接有驱动电机4，驱动电机4输出轴的另一端固定套接有圆轴5，圆轴5的外表面固定连接有位于箱体2内部的搅拌叶本体6，箱体2顶部的两侧均活动安装有立杆7，箱体2的顶部开设有位于立杆7下方的顶槽8，立杆7的底端固定连接有位于顶槽8内部的滑块9，防护箱3两侧的底部均铰接有连杆10，连杆10的另一端铰接在立杆7的外表面，箱体2的顶部固定安装有位于防护箱3后方的第一气缸11，第一气缸11的另一端固定连接有推拉块12，推拉块12正面的两侧均固定安装有斜杆13，斜杆13的另一端贯穿立杆7并延伸至立杆7的前方。

通过启动驱动电机4，可以使得圆轴5带动搅拌叶本体6发生转动，从而能够对原料进行搅拌，通过启动第一气缸11，可以推动推拉块12带动斜杆13向后运动，由于斜杆13的运动，将会带动两个立杆7相背运动，由于立杆7的运动，将会通过连杆10带动防护箱3、驱动电机4和搅拌叶本体6向上运动，从而实现能够调节搅拌范围的效果。

参考图2，圆轴5外表面顶部的两侧均固定连接有横杆14，横杆14的底端固定连接有刮条15，刮条15的外表面与箱体2的内壁活动连接。

作为本实用新型的一种技术优化方案，通过刮条15的设计，可以对箱体2的内壁进行刮擦，从而能够刮除粘付在箱体2内壁的反应物。

参考图1和图3，箱体2的顶部固定安装有位于防护箱3前方的入料口16，入料口16外表面的顶部螺纹套接有顶盖17。

作为本实用新型的一种技术优化方案，通过将顶盖17从入料口16的顶部旋下，可以解除对入料口16的密封，工作人员便可以从入料口16向箱体2的内部添加生产原料。

参考图2，箱体2底端的中部固定安装有方箱18，方箱18底端的中部固定安装有出料口19，出料口19外表面的底部螺纹套接有底盖20。

作为本实用新型的一种技术优化方案，通过将底盖20从出料口19的外表面旋下，便可以收集反应后的材料。

参考图5，箱体2底端的左侧固定安装有刹车电机21，刹车电机21输出轴的另一端固定套接有转轴22，转轴22的另一端固定连接有摆杆23，摆杆23左侧的中部开设有方孔24。

作为本实用新型的一种技术优化方案，通过启动刹车电机21，可以使得转轴22发生转动，从而能够带动摆杆23发生转动。

参考图5，方箱18两侧内壁的顶部之间活动安装有滤板25，滤板25的前后两侧均贯穿方箱18并延伸至方箱18的外表面，方箱18的左侧开设有位于滤板25正左方的侧孔26，滤板25左端的中部固定连接有固定块27，固定块27的另一端穿过侧孔26并延伸至方孔24的内部。

作为本实用新型的一种技术优化方案，通过固定块27的设计，可以使得摆杆23在转动时，能够通过方孔24的内壁挤压固定块27，从而使得固定块27带动滤板25运动。

参考图2，箱体2内壁底端的中部开设有下料孔28，箱体2底端的右侧固定安装有第二气缸29，第二气缸29的另一端贯穿方箱18并延伸至方箱18的内部且固定连接有挡板30。

作为本实用新型的一种技术优化方案，通过启动第二气缸29，可以带动挡板30向右运动，箱体2内部混合反应后的材料便会通过下料孔28流向方箱18的内部。

参考图2，滑块9的外表面与顶槽8的内壁活动连接，滑块9的外表面与顶槽8的内壁均光滑。

作为本实用新型的一种技术优化方案，通过滑块9的外表面与顶槽8的内壁均光滑的设计，可以使得滑块9在顶槽8的内部活动时更加顺畅。

本实用新型的工作原理及使用流程：

首先，工作人员可以将顶盖17从入料口16的顶部旋下，然后将生产原料加入至箱体2的内部，随后盖上顶盖17后启动驱动电机4，由于驱动电机4的运行，将会使得圆轴5带动搅拌叶本体6与刮条15发生转动，从而使得在搅拌原料的同时对箱体2的内壁进行刮擦，防止原料粘付在箱体2的内壁造成浪费，随后工作人员可以启动第一气缸11，由于第一气缸11的运行，将会推动推拉块12带动斜杆13向后运动，由于斜杆13的运动，将会带动两个立杆7相背运动，同时带动滑块9在顶槽8内部滑动，由于立杆7的运动，将会通过连杆10带动防护箱3向上运动，从而使得驱动电机4带动圆轴5、搅拌叶本体6向上运动，最终实现能够调节搅拌范围的效果，从而使得原料的混合效果更好，搅拌完毕后，工作人员可以启动第二气缸29，由于第二气缸29的运行，将会拉动挡板30向右运动，从而解除了对下料孔28的封闭，混合后的材料将会从下料孔28流入至方箱18的内部，经滤板25过滤后，工作人员可以旋下底盖20，从出料口19的底端收集生产后的材料。

当工作人员需要对滤板25进行清洁时，首先可以启动刹车电机21，由于刹车电机21的运行，将会使得转轴22带动摆杆23发生转动，由于摆杆23的转动，将会通过方孔24的内壁挤压固定块27的外表面，从而使得固定块27带动滤板25向前或向后运动，进而滤板25将会从方箱18的内部运动至方箱18的前方或后方，从而使得工作人员便于对滤板25进行清洗，防止滤板25被堵塞影响过滤效率。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (8)

1.一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，包括支腿(1)，其特征在于：所述支腿(1)的顶端固定安装有箱体(2)，所述箱体(2)顶端的中部活动安装有防护箱(3)，所述防护箱(3)的内壁固定连接有驱动电机(4)，所述驱动电机(4)输出轴的另一端固定套接有圆轴(5)，所述圆轴(5)的外表面固定连接有位于箱体(2)内部的搅拌叶本体(6)，所述箱体(2)顶部的两侧均活动安装有立杆(7)，所述箱体(2)的顶部开设有位于立杆(7)下方的顶槽(8)，所述立杆(7)的底端固定连接有位于顶槽(8)内部的滑块(9)，所述防护箱(3)两侧的底部均铰接有连杆(10)，所述连杆(10)的另一端铰接在立杆(7)的外表面，所述箱体(2)的顶部固定安装有位于防护箱(3)后方的第一气缸(11)，所述第一气缸(11)的另一端固定连接有推拉块(12)，所述推拉块(12)正面的两侧均固定安装有斜杆(13)，所述斜杆(13)的另一端贯穿立杆(7)并延伸至立杆(7)的前方。

2.根据权利要求1所述的一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，其特征在于：所述圆轴(5)外表面顶部的两侧均固定连接有横杆(14)，所述横杆(14)的底端固定连接有刮条(15)，所述刮条(15)的外表面与箱体(2)的内壁活动连接。

3.根据权利要求1所述的一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，其特征在于：所述箱体(2)的顶部固定安装有位于防护箱(3)前方的入料口(16)，所述入料口(16)外表面的顶部螺纹套接有顶盖(17)。

4.根据权利要求1所述的一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，其特征在于：所述箱体(2)底端的中部固定安装有方箱(18)，所述方箱(18)底端的中部固定安装有出料口(19)，所述出料口(19)外表面的底部螺纹套接有底盖(20)。

5.根据权利要求1所述的一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，其特征在于：所述箱体(2)底端的左侧固定安装有刹车电机(21)，所述刹车电机(21)输出轴的另一端固定套接有转轴(22)，所述转轴(22)的另一端固定连接有摆杆(23)，所述摆杆(23)左侧的中部开设有方孔(24)。

6.根据权利要求4所述的一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，其特征在于：所述方箱(18)两侧内壁的顶部之间活动安装有滤板(25)，所述滤板(25)的前后两侧均贯穿方箱(18)并延伸至方箱(18)的外表面，所述方箱(18)的左侧开设有位于滤板(25)正左方的侧孔(26)，所述滤板(25)左端的中部固定连接有固定块(27)，所述固定块(27)的另一端穿过侧孔(26)并延伸至方孔(24)的内部。

7.根据权利要求1所述的一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，其特征在于：所述箱体(2)内壁底端的中部开设有下料孔(28)，所述箱体(2)底端的右侧固定安装有第二气缸(29)，所述第二气缸(29)的另一端贯穿方箱(18)并延伸至方箱(18)的内部且固定连接有挡板(30)。

8.根据权利要求1所述的一种纳米二氧化硅生产的沉淀反应器，其特征在于：所述滑块(9)的外表面与顶槽(8)的内壁活动连接，所述滑块(9)的外表面与顶槽(8)的内壁均光滑。