CN219851099U - 一种兆声波清洗装置的水槽结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种兆声波清洗装置的水槽结构，包括设置于兆声波盛水盘内的内槽、以及设置于内槽外侧并使其上边沿低于内槽上边沿的外槽，内槽的上部设置有管口贯穿外槽的水阻值计套管、下部设置有内槽进液管和内槽排液管，所述外槽的底部设计成前高后低的倾斜结构，且所述外槽后部的最低点处连接有外槽排液管，所述外槽排液管的排液流量大于所述内槽进液管的进液流量。本实用新型通过在内槽的外侧设置导流用的外槽，可使内槽内的液体溢流进外槽，避免溢流液体对兆声波装置造成影响，确保兆声波能够更好的去除晶圆片上的附着颗粒物，有效保证了晶圆清洗效率。

Description

一种兆声波清洗装置的水槽结构

技术领域

本实用新型涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种兆声波清洗装置的水槽结构。

背景技术

晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆；在硅晶片上课加工制作出各种电路元件结构，而成为有特定电性功能的IC产品。

目前槽式清洗设备主要有cassstte type和cassette less两种不同结构。清洗晶圆时，首先向水槽内通入纯水，并保持槽四周的溢流，这个过程可以通过液位传感器去控制；然后机械手抓取晶圆片放入水槽内进行清洗，进水管的出水量和方向会影响槽内的流场，同时兆声波装置持续对特定区域进行震动，一段时间之后，水阻值计会反馈槽内纯水的数值，用以确定此处清洗过程是否完成；最后，在水槽侧方位置安装有快排阀，可以迅速排空槽内液体。

由于目前清洗水槽基本都是单槽结构，俗称内槽，因此槽内液体经溢流口之后直接顺着槽壁向下，无法导流。受限于兆声波装置的设计原理，盛水盘的面积必须足够大要能够覆盖水槽的底部区域，才能够形成水面震动区域，从而去影响槽内待清洗的晶圆片，去除其表面附着的微粒。但是当槽内纯水溢流出来的时候，会经由槽壁流入盛水盘，这些纯水的进入会对兆声波装置原来的震动效果造成影响，从而会影响水槽内晶圆片的清洗效果。

发明内容

有鉴于此，本实用新型提供了一种兆声波清洗装置的水槽结构，用以解决传统清洗水槽溢流出的纯水会沿着槽壁流入盛水盘从而影响兆声波装置的震动效果的问题。

一种兆声波清洗装置的水槽结构，包括设置于兆声波盛水盘内的内槽、以及设置于内槽外侧并使其上边沿低于内槽上边沿的外槽，所述内槽的上部设置有管口贯穿外槽的水阻值计套管、下部设置有内槽进液管和内槽排液管，所述外槽的底部设计成前高后低的倾斜结构，且所述外槽后部的最低点处连接有外槽排液管，所述外槽排液管的排液流量大于所述内槽进液管的进液流量。

优选地，所述内槽进液管分别设置于内槽槽内两侧且其管口伸出槽外并向中间弯折汇集至与循环管相连通，循环管位于内槽排液管的上方，内槽进液管上开设有若干个等间隔分布的双排孔，双排孔呈特定角度朝向内槽中心面。

优选地，所述内槽排液管的管口斜向下设置且其外表面设置有设定长度的用以增加快排阀与其之间的安装紧合度的磨砂面。

优选地，所述水阻值计套管的管口位于兆声波盛水盘外的隔间内。

优选地，所述外槽排液管的排液方向正对兆声波盛水盘外侧隔间内的空闲区域。

优选地，所述内槽的底部呈V形、顶部上边沿设置有若干个V形槽口。

优选地，所述内槽的底部中间设置有鼓泡管安装座。

优选地，所述外槽的两侧分别设置至少两个支撑座，所述支撑座固定在兆声波盛水盘外侧的隔间支架上，所述水槽结构通过所述支撑座固定在兆声波盛水盘的上方。

优选地，所述内槽的前、后端面分别设置有传感器安装座，所述传感器安装座上安装有晶圆片落位检测传感器。

优选地，还包括温度计和液位传感器，温度计和液位传感器安装在内槽内。

本实用新型的有益效果是：

1、通过在内槽的外侧设置导流用的外槽，可使内槽内的液体溢流进外槽，并通过外槽排液管排放到兆声波盛水盘外侧隔间内的空闲区域，避免溢流液体对兆声波装置造成影响，确保兆声波能够更好的去除晶圆片上的附着颗粒物，有效保证了晶圆清洗效率。

2、通过将外槽的底部设置成倾斜面，在外槽后部的最低点增加外槽排液管，并使外槽排液管的排液流量大于内槽进液管的进液流量，可避免外槽内的液体从其四周溢出，将外槽的上边沿设计为低于内槽的上边沿，可以确保外槽内的液体在任何情况下都不会回流至内槽。

3、通过在内槽的后部设置内槽排液管，并将内槽排液管设计为下沉结构，可以确保安装快排阀时不会干涉到周围的零部件，同时内槽排液管管口设计的磨砂面可以使快排阀的安装更加紧合。通过将水阻值计套管横穿外槽，可便于水阻值计的安装，以确保水阻值计的正常使用。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本实用新型的俯视图。

图2为本实用新型的立体图。

图3为本实用新型安装的侧视图。

图4为本实用新型安装的正视图。

图中标号的含义为：

1为兆声波盛水盘，2为隔间，3为内槽，4为外槽，5为V形槽口，6为水阻值计套管，7为内槽进液管，8为内槽排液管，9为循环管，10为双排孔，11为传感器安装座，12为鼓泡管安装座，13为外槽排液管，14为支撑座，15为隔间支架，16为快排阀。

具体实施方式

为了更好的理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型实施例进行详细描述。

应当明确，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

下面通过具体的实施例并结合附图对本申请做进一步的详细描述。

在本申请的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“多个”是指两个或两个以上；术语“连接”、“固定”等均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

本说明书的描述中，需要理解的是，本申请实施例所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本申请实施例的限定。此外，在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件连接在另一个元件“上”或者“下”时，其不仅能够直接连接在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接连接在另一个元件“上”或者“下”。

本实用新型给出一种兆声波清洗装置的水槽结构，包括设置于兆声波盛水盘1内的内槽3、以及设置于内槽3外侧的外槽4。

所述内槽3为上端开口的矩形槽，内槽3的顶部上边沿设置有若干个V形槽口5，以便其槽内的纯水可以从V形槽口5溢流进入外槽4，不会直接流入兆声波盛水盘1。为了便于排液，内槽3的底部设置成V形，即其底部中间低两侧高。

所述内槽3的上部设置有管口贯穿外槽4的水阻值计套管6、下部设置有内槽进液管7和内槽排液管8。水阻值计套管6穿过外槽4使其管口位于外槽4外侧，可以保证水阻值计不会浸没入外槽4，避免外槽4内的液体对水阻值计造成影响，水阻值计也不会对外槽4内的液体造成污染，且水阻值计套管6的管口位于兆声波盛水盘1外的隔间内。内槽进液管7分别设置于内槽3槽内两侧且其一侧管口伸出槽外并向中间弯折汇集至与循环管9相连通，循环管9位于内槽排液管8的上方，内槽进液管7上开设有若干个等间隔分布的双排孔10，双排孔10呈特定角度朝向内槽3中心面；本实施例中，内槽进液管7的外径为20mm、内径为16mm，双排孔10的孔径为1.5mm。内槽排液管8的管口斜向下设置且其外表面设置有设定长度的用以增加快排阀16与其之间的安装紧合度的磨砂面，本实施例中，内槽排液管8的管口设置有35mm长的磨砂面。

所述内槽3的前、后端面分别设置有用以安装晶圆片落位检测传感器的传感器安装座11，晶圆片落位检测传感器用以检测晶圆片是否顺利落入既定位置。内槽3底部中间设置有鼓泡管安装座12。

所述内槽内还设置有温度计和液位传感器，温度计和液位传感器安装在靠近内槽后端内壁的位置。

所述外槽4设置于内槽3外侧，且其上边沿低于内槽3的上边沿。将外槽4的上边沿设计为低于内槽3的上边沿，这样溢流到外槽4内的已经清洗过晶圆片的脏水不会回流进内槽3，不会影响水阻值测量结果，不会二次污染晶圆片。

外槽4的一端部设置有外槽排液管13，外槽排液管13的排液能力需大于内槽进液管7的进液能力，以保证外槽不会有太多积液，即外槽排液管13的排液量需大于内槽进液管7的进液量；本实施例中，内槽进液管7的内径为16mm，单个内槽进液管7的进液流量约18LPM，外槽排液管13的外径为45mm且为重力排放，其排液流量约35LPM，足够满足一根或者两个内槽进液管7。外槽排液管13的管口位于兆声波盛水盘1外的隔间2内，以使排出的清洗过晶圆片的脏水直接流进隔间2，不会影响兆声盛水盘1。

外槽4的两侧分别设置有多个支撑座14，支撑座14固定在兆声波盛水盘1外侧的隔间支架15上，从而可将整个水槽结构固定在兆声波盛水盘1的上方。本实施例中，支撑座14为圆柱形结构，其直径为30mm，支撑座14的数量根据槽体容积而定。

外槽4的底面为倾斜面，其外槽排液管13的排液口的液位最低，外槽排液管13的排液方向正对兆声波盛水盘1外侧隔间2内的空闲区域。

本申请在内槽3的外侧设置导流用的外槽4，并将外槽4的底部设计成前高后低的倾斜结构，在外槽4后部的最低点增加外槽排液管13，外槽排液管13的排液流量大于内槽进液管7的进液流量，可避免外槽4内的液体从其四周溢出，将外槽4的上边沿设计为低于内槽3的上边沿，可以确保外槽4内的液体在任何情况下都不会回流至内槽3。内槽3的后部设置有内槽排液管8，内槽排液管8向下弯折，确保安装快排阀16时不会干涉到周围的零部件。水阻值计套管6设计为横穿外槽，可便于水阻值计的安装，以确保水阻值计的正常使用。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，包括设置于兆声波盛水盘内的内槽、以及设置于内槽外侧并使其上边沿低于内槽上边沿的外槽，所述内槽的上部设置有管口贯穿外槽的水阻值计套管、下部设置有内槽进液管和内槽排液管，所述外槽的底部设计成前高后低的倾斜结构，且所述外槽后部的最低点处连接有外槽排液管，所述外槽排液管的排液流量大于所述内槽进液管的进液流量。

2.根据权利要求1所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，所述内槽进液管分别设置于内槽槽内两侧且其管口伸出槽外并向中间弯折汇集至与循环管相连通，循环管位于内槽排液管的上方，内槽进液管上开设有若干个等间隔分布的双排孔，双排孔呈特定角度朝向内槽中心面。

3.根据权利要求1或2所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，所述内槽排液管的管口斜向下设置且其外表面设置有设定长度的用以增加快排阀与其之间的安装紧合度的磨砂面。

4.根据权利要求1所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，所述水阻值计套管的管口位于兆声波盛水盘外的隔间内。

5.根据权利要求1所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，所述外槽排液管的排液方向正对兆声波盛水盘外侧隔间内的空闲区域。

6.根据权利要求1所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，所述内槽的底部呈V形、顶部上边沿设置有若干个V形槽口。

7.根据权利要求1所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，所述内槽的底部中间设置有鼓泡管安装座。

8.根据权利要求1所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，所述外槽的两侧分别设置至少两个支撑座，支撑座固定在兆声波盛水盘外侧的隔间支架上，所述水槽结构通过支撑座固定在兆声波盛水盘的上方。

9.根据权利要求1所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，所述内槽的前、后端面分别设置有传感器安装座，传感器安装座上安装有晶圆片落位检测传感器。

10.根据权利要求1所述的兆声波清洗装置的水槽结构，其特征在于，还包括温度计和液位传感器，温度计和液位传感器安装在内槽内。