CN219772328U - 一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，包括真空腔体、支腿、第一进气管、第二进气管和排气管，所述真空腔体的顶部固定安装有第一电机，所述真空腔体的内部设置有搅拌装置，所述搅拌装置包括安装箱，所述安装箱的内部设置有丝杆，所述安装箱的外部设置有减速机，所述减速机分别与第一电机和丝杆相连，所述丝杆的外侧螺纹连接有螺纹套，所述螺纹套的底部固定连接有滑块，所述滑块的外侧设置有导轨，且滑块的底部固定连接有连接件，所述连接件的底部固定连接有外壳，所述外壳的内部固定安装有第二电机。该基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，使得气体之间的反应更加充分，进一步增强了气体的反应效率，具有良好的实用性。
Description
技术领域
本实用新型涉及光伏配件加工技术领域，具体为一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构。
背景技术
光伏发电主要通过光伏板或者光伏薄膜的光伏效应来将光能转化为电能，瑞迪能源科技有限公司首创非晶硅光伏管，通过该公司的管内镀膜技术，直接在玻璃管内壁形成光伏反应薄膜，而为了防止在自然环境中水汽对光伏薄膜的侵害，光伏管的两端应进行水密型封装，而目前在光伏管密封中普遍使用铝闷头腔盖，腔盖在加工时需要用到金属有机化合物化学气相沉淀（MOCVD）工艺金属有机化合物化学气相沉淀（MOCVD）是在气相外延生长（VPE）的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。
在金属有机化合物化学气相沉淀（MOCVD）中需要使用到真空反应腔体供不同气体之间进行反应，但是现有技术中气体通入真空反应腔体之间的混合往往不均匀，从而影响了气体的反应效率，实用性较低，故而提出一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构来解决上述中所提出的问题。
实用新型内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，具备提高反应效率等优点，解决了有技术中气体通入真空反应腔体之间的混合往往不均匀，从而影响了气体的反应效率，实用性较低的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，包括真空腔体、支腿、第一进气管、第二进气管和排气管，所述真空腔体的顶部固定安装有第一电机，所述真空腔体的内部设置有搅拌装置；
所述搅拌装置包括安装箱，所述安装箱的内部设置有丝杆，所述安装箱的外部设置有减速机，所述减速机分别与第一电机和丝杆相连，所述丝杆的外侧螺纹连接有螺纹套，所述螺纹套的底部固定连接有滑块，所述滑块的外侧设置有导轨，且滑块的底部固定连接有连接件，所述连接件的底部固定连接有外壳，所述外壳的内部固定安装有第二电机，所述第二电机的输出轴上固定安装有主杆，所述主杆的外壁上固定安装有搅拌叶。
进一步，所述第一进气管和第二进气管均固定安装至真空腔体的侧壁上，所述支腿和排气管均固定安装至真空腔体的底部。
进一步，所述安装箱和减速机均固定安装至真空腔体的内顶壁上，所述第一电机的输出轴与减速机的输入端固定连接。
进一步，所述减速机的输出轴与丝杆的一端固定连接，所述丝杆的另一端与安装箱的内壁轴承连接。
进一步，所述导轨固定安装至安装箱的内部，所述滑块与导轨的内侧滑动配合。
进一步，所述安装箱的下表面开设有活动口，所述连接件贯穿至活动口的内侧，且连接件与活动口的内侧间隙配合。
进一步，所述第一进气管、第二进气管和排气管的外侧均固定安装有控制阀。
与现有技术相比，本实用新型提供了一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，具备以下有益效果：
该基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，通过设置的第二电机、主杆和搅拌叶能够对真空腔体内部的多种气体进行混合，提高了气体的反应效率，同时，通过第一气体、减速机、丝杆、螺纹套、导轨、滑块和连接件的配合能够对搅拌叶的活动范围进行调整，大大提高了搅拌叶的混合效率，使得气体之间的反应更加充分，进一步增强了气体的反应效率，具有良好的实用性。
附图说明
图1为本实用新型结构剖视图；
图2为本实用新型图1所示A的放大结构示意图；
图3为本实用新型结构正视图。
图中：1真空腔体、2支腿、3第一进气管、4第二进气管、5排气管、6第一电机、7安装箱、8减速机、9丝杆、10螺纹套、11导轨、12滑块、13连接件、14外壳、15第二电机、16主杆、17搅拌叶、18活动口。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3，本实施例中的一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，包括真空腔体1、支腿2、第一进气管3、第二进气管4和排气管5，其中，第一进气管3和第二进气管4均固定安装至真空腔体1的侧壁上，支腿2和排气管5均固定安装至真空腔体1的底部。
需要说明的是，支腿2的数量设置为四个，且第一进气管3、第二进气管4和排气管5的外侧均固定安装有控制阀，以便于控制气管的连通和封闭。
本实施例中，真空腔体1的顶部固定安装有第一电机6，其中，真空腔体1的内部设置有搅拌装置，搅拌装置包括安装箱7，安装箱7的内部设置有丝杆9，安装箱7的外部设置有减速机8，减速机8分别与第一电机6和丝杆9相连。
需要说明的是，安装箱7和减速机8均固定安装至真空腔体1的内顶壁上，其中，第一电机6的输出轴与减速机8的输入端固定连接，减速机8的输出轴与丝杆9的一端固定连接，同时，丝杆9的另一端与安装箱7的内壁轴承连接，使得第一电机6运转后能够带动减速机8运转，减速机8则会带动丝杆9转动，方便了调节。
本实施例中，丝杆9的外侧螺纹连接有螺纹套10，螺纹套10的底部固定连接有滑块12，滑块12的外侧设置有导轨11，其中，导轨11固定安装至安装箱7的内部，滑块12与导轨11的内侧滑动配合，且滑块12的底部固定连接有连接件13，连接件13的底部固定连接有外壳14，外壳14的内部固定安装有第二电机15，第二电机15的输出轴上固定安装有主杆16，主杆16的外壁上固定安装有搅拌叶17。
需要说明的是，安装箱7的下表面开设有活动口18，连接件13贯穿至活动口18的内侧，且连接件13与活动口18的内侧间隙配合，方便了连接件13的移动调节。
本实施例在使用时，当真空腔体1内部通入多种气体后，启动第二电机15带动主杆16转动，并带动搅拌叶16转动，使其对真空腔体1内部的气体进行混合，此外，启动第一电机6带动减速机8运转，减速机8则会带动丝杆9转动，并带动螺纹套10横向移动，同时带动滑块12沿着导轨11的内侧移动，并带动连接件13移动，从而带动外壳14和第二电机15移动，使得主杆16和搅拌叶17的位置发生改变，提高搅拌叶17的活动范围，使其对气体充分混合。
上述实施例的有益效果为：
该基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，通过设置的第二电机15、主杆16和搅拌叶17能够对真空腔体1内部的多种气体进行混合，提高了气体的反应效率，同时，通过第一气体6、减速机8、丝杆9、螺纹套10、导轨11、滑块12和连接件13的配合能够对搅拌叶17的活动范围进行调整，大大提高了搅拌叶17的混合效率，使得气体之间的反应更加充分，进一步增强了气体的反应效率，具有良好的实用性。
文中出现的电器元件均与主控器及电源电连接，主控器可为计算机等起到控制的常规已知设备，且现有公开的电力连接技术，不在文中赘述。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，包括真空腔体（1）、支腿（2）、第一进气管（3）、第二进气管（4）和排气管（5），其特征在于：所述真空腔体（1）的顶部固定安装有第一电机（6），所述真空腔体（1）的内部设置有搅拌装置；
所述搅拌装置包括安装箱（7），所述安装箱（7）的内部设置有丝杆（9），所述安装箱（7）的外部设置有减速机（8），所述减速机（8）分别与第一电机（6）和丝杆（9）相连，所述丝杆（9）的外侧螺纹连接有螺纹套（10），所述螺纹套（10）的底部固定连接有滑块（12），所述滑块（12）的外侧设置有导轨（11），且滑块（12）的底部固定连接有连接件（13），所述连接件（13）的底部固定连接有外壳（14），所述外壳（14）的内部固定安装有第二电机（15），所述第二电机（15）的输出轴上固定安装有主杆（16），所述主杆（16）的外壁上固定安装有搅拌叶（17）。
2.根据权利要求1所述的一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，其特征在于：所述第一进气管（3）和第二进气管（4）均固定安装至真空腔体（1）的侧壁上，所述支腿（2）和排气管（5）均固定安装至真空腔体（1）的底部。
3.根据权利要求1所述的一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，其特征在于：所述安装箱（7）和减速机（8）均固定安装至真空腔体（1）的内顶壁上，所述第一电机（6）的输出轴与减速机（8）的输入端固定连接。
4.根据权利要求1所述的一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，其特征在于：所述减速机（8）的输出轴与丝杆（9）的一端固定连接，所述丝杆（9）的另一端与安装箱（7）的内壁轴承连接。
5.根据权利要求1所述的一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，其特征在于：所述导轨（11）固定安装至安装箱（7）的内部，所述滑块（12）与导轨（11）的内侧滑动配合。
6.根据权利要求1所述的一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，其特征在于：所述安装箱（7）的下表面开设有活动口（18），所述连接件（13）贯穿至活动口（18）的内侧，且连接件（13）与活动口（18）的内侧间隙配合。
7.根据权利要求1所述的一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，其特征在于：所述第一进气管（3）、第二进气管（4）和排气管（5）的外侧均固定安装有控制阀。
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