CN219674688U - 一种晶圆旋转干燥装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种晶圆旋转干燥装置，其特征在于：包括壳体，所述壳体内设置有旋转平台，所述旋转平台上设置有工艺腔体；所述顶盖上设置有导流单元，用于向所述工艺腔体内引导气流，并产生螺旋气流；其中，所述导流单元包括导流罩，所述导流罩的罩体中心设置有扇形旋切口，使气流呈螺旋状吹向晶圆。本实用新型提供的一种晶圆旋转干燥装置中气流中不仅可以对晶圆进行保护，还可以对晶圆片表面的药液和液滴吹扫，螺旋向下的气流可对堆叠在下方的晶圆进行良好的吹扫，干燥效果明显。
Description
技术领域
本实用新型涉及晶圆干燥的领域，尤其是涉及一种晶圆旋转干燥装置。
背景技术
在晶圆清洗后需要对晶圆进行干燥处理，离心甩干是通过外力使晶片短时间内达到高速旋转的状态，晶片表面的水受到离心力作用而从表面消失的干燥技术。这种干燥方式由于简单可靠，在晶片清洗领域得到了广泛应用。根据晶片运动方式的不同，离心甩干又分为立式离心甩干和水平式离心甩干其中又以水平式甩干较为常用，为保证晶片的洁净，一般在干燥步骤之前，会增加一步药液、去离子水旋转喷淋过程，对表面进行二次洁净。为保证干燥效果，甩干过程中将引入热氮气，对晶片进行吹拂。
旋转干燥机的主要由顶盖、旋转平台、翻转机构、排风系统等组成。顶盖除了作为工作腔体的密封盖外，更大的作用是甩干过程中的保护气体供应，与排风系统共同形成腔体内的气流循环，保证腔体内洁净度。
针对上述中的相关技术，发明人认为顶盖供应保护气体，晶圆依靠离心力对晶圆上残存的药液进行吹干，晶圆干燥效率低，气体难以得到有效利用。
实用新型内容
为了提高晶圆的干燥效率，及时对晶圆上残存的药液吹干，对气体进行有效的利用，本实用新型提供一种晶圆旋转干燥装置。
本实用新型提供的一种晶圆旋转干燥装置采用如下的技术方案：
一种晶圆旋转干燥装置，包括壳体，所述壳体内设置有旋转平台，所述旋转平台上设置有工艺腔体；
所述顶盖上设置有导流单元，用于向所述工艺腔体内引导气流，并产生螺旋气流；
其中，所述导流单元包括导流罩，所述导流罩的罩体中心设置有扇形旋切口，使气流呈螺旋状吹向晶圆。
可选的，所述扇形旋切口的旋转方向与旋转平台的旋转方向相反，以增大晶圆切割下吹气流的相对切割速度。
可选的，所述扇形旋切口包括以所述罩体中心为圆心开设的多个通风孔，及连通所述通风孔并倾斜设置的导风板，所述导风板的倾斜方向与所述旋转平台的旋转方向相反。
可选的，所述导风板包括间隔交替设置的第一导风板和第二导风板，所述第一导风板和所述第二导风板的倾斜方向均朝向同一时针方向。
可选的，所述第一导风板的导风面积大于所述第二导风板的导风面积。
可选的，所述第一导风板和所述第二导风板在所述罩体的投影均为梯形。
可选的，所述顶盖的盖体与所述壳体铰链连接。
可选的，所述顶盖还设置空气过滤单元和静电消除单元，所述静电消除单元位于空气过滤单元与导流单元之间，所述导流单元位于顶盖贴近壳体内腔的一侧；
所述空气过滤单元对进入工艺腔体的气体进行过滤；
所述静电消除单元用于对过滤后的气体进行静电消除，防止颗粒经过静电吸附在晶圆表面。
可选的，所述顶盖的盖体设置有连通环境气体的气道，所述空气过滤单元包括FFU，所述气道连通FFU。
可选的，还包括排风系统，所述排风系统侧面连接所述工艺腔体，协同所述顶盖共同形成工艺腔体内的气流循环，并在旋转干燥过程中甩干排放的废液。
可选的，所述排风系统包括排风管和控制器，所述排风管设置于壳体的侧壁上，所述控制器用于控制排风管的开启与关闭。
可选的，所述排风管连接有积液部，所述积液部位于干燥机壳体与控制器之间，所述积液部的底部连接有抽水管，所述抽水管呈“U”形。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
本实用新型通过设置了导风板，经过过滤后的气流通过通风孔在导风板的导流作用下产生旋转的气流，气流中的氮气不仅可以对晶圆进行保护，同时旋转的气流与晶圆的转动方向相反形成对流，获得更大的切割速度，从而使得气流对晶圆片表面的药液和液滴吹扫，螺旋向下的气流与晶圆所在的平面相平行，可有效对堆叠在下方的晶圆进行吹扫，干燥效果明显。
附图说明
图1为本实用新型一种晶圆旋转干燥装置的整体图；
图2为本实用新型一种晶圆旋转干燥装置的整体图的内部结构示意图；
图3为本实用新型一种晶圆旋转干燥装置中排风系统的示意图；
图4为本实用新型一种晶圆旋转干燥装置中导流板的结构示意图；
图5为本实用新型一种晶圆旋转干燥装置中的气体流向示意图；
图6为本实用新型一种晶圆旋转干燥装置中顶盖的正视图；
图7为本实用新型一种晶圆旋转干燥装置中顶盖的侧视图。
图中：1、壳体；2、旋转平台；3、支架；4、顶盖；41、空气过滤单元；42、静电消除单元；5、导流单元；6、扇形导流罩；7、扇形旋切口；8、导风板；81、第一导风板；82、第二导风板；9、排风系统；91、排风管；92、控制器；93、积液部。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
参照图1至图7，本实用新型提供的一种晶圆旋转干燥装置的实施例，晶圆旋转干燥装置，包括壳体1，壳体1内设置有旋转平台2，旋转平台2上设置有工艺腔体；旋转平台2连接有支架3，支架3用于对晶圆盒进行固定，壳体1连接有顶盖4，顶盖4的盖体与壳体1铰链连接。
顶盖4用于密封支架3内的工艺腔体，并在旋转干燥过程中提供干燥气体的供应；
顶盖4包括导流单元5，导流单元5用于引导气流产生螺旋气流；
其中，导流单元5包括扇形导流罩6，扇形导流罩6的罩体中心设置有扇形旋切口7，使气流呈螺旋状吹向晶圆。扇形旋切口7的旋转方向与旋转平台2的旋转方向相反，以增大晶圆切割下吹气流的相对切割速度。
顶盖4还包括空气过滤单元41和静电消除单元42，静电消除单元42位于空气过滤单元41与导流单元5之间，导流单元5位于顶盖4贴近壳体1内腔的一侧。顶盖4的盖体设置有连通环境气体的气道，空气过滤单元41包括FFU，气道连通FFU。
空气过滤单元41对进入工艺腔体的气体进行过滤；静电消除单元42用于对过滤后的气体进行静电消除，防止颗粒经过静电吸附在晶圆表面。
扇形旋切口7包括以罩体中心为圆心开设的多个通风孔，及连通通风孔并倾斜设置的导风板8，导风板8的倾斜方向与旋转平台2的旋转方向相反，气流导风板8的作用下螺旋吹相晶圆，气流的运动方向与晶圆的旋转方向相反。
导风板8包括间隔交替设置的第一导风板81和第二导风板82，第一导风板81和第二导风板82的倾斜方向均朝向同一时针方向。第一导风板81的导风面积大于第二导风板82的导风面积。第一导风板81和第二导风板82在罩体的投影均为梯形，第一导风板81和第二导风板82对气流进行引导，产生螺旋气流。
晶圆旋转干燥装置还包括排风系统9，排风系统9侧面连接工艺腔体，协同顶盖4共同形成工艺腔体内的气流循环，并在旋转干燥过程中甩干排放的废液。
排风系统9包括排风管91和控制器92，排风管91设置于壳体1的侧壁上，控制器92用于控制排风管91的开启与关闭，使得干燥机内保持洁净。排风管91连接有积液部93，积液部93位于干燥机壳体1与控制器92之间，积液部93的底部连接有抽水管，抽水管呈“U”形。
工作原理：
空气过滤单元41和静电消除单元42对气流中的杂质进行过滤和除静电处理，经过过滤后的气流通过通风孔在导风板8的导流作用下产生旋转的气流，气流中的氮气不仅可以对晶圆进行保护，同时旋转的气流与晶圆的转动方向相反形成对流，获得更大的切割速度，从而使得气流对晶圆片表面的药液和液滴吹扫，螺旋向下的气流可对堆叠在下方的晶圆进行良好的吹扫，干燥效果明显。
对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
Claims (11)
1.一种晶圆旋转干燥装置，其特征在于：包括壳体(1)，所述壳体(1)内设置有旋转平台(2)，所述旋转平台(2)上设置有工艺腔体；
壳体(1)连接有顶盖(4)，所述顶盖(4)上设置有导流单元(5)，用于向所述工艺腔体内引导气流，并产生螺旋气流；
其中，所述导流单元(5)包括导流罩(6)，所述导流罩(6)的罩体中心设置有扇形旋切口(7)，使气流呈螺旋状吹向晶圆；
所述扇形旋切口(7)的旋转方向与旋转平台(2)的旋转方向相反，以增大晶圆切割下吹气流的相对切割速度。
2.根据权利要求1所述的晶圆旋转干燥装置，其特征在于，所述扇形旋切口(7)包括以所述罩体中心为圆心开设的多个通风孔，及连通所述通风孔并倾斜设置的导风板(8)，所述导风板(8)的倾斜方向与所述旋转平台(2)的旋转方向相反。
3.根据权利要求2所述的晶圆旋转干燥装置，其特征在于，所述导风板(8)包括间隔交替设置的第一导风板(81)和第二导风板(82)，所述第一导风板(81)和所述第二导风板(82)的倾斜方向均朝向同一时针方向。
4.根据权利要求3所述的晶圆旋转干燥装置，其特征在于，所述第一导风板(81)的导风面积大于所述第二导风板(82)的导风面积。
5.根据权利要求4所述的晶圆旋转干燥装置，其特征在于，所述第一导风板(81)和所述第二导风板(82)在所述罩体的投影均为梯形。
6.根据权利要求1所述的晶圆旋转干燥装置，其特征在于，所述顶盖(4)的盖体与所述壳体(1)铰链连接。
7.根据权利要求1所述的晶圆旋转干燥装置，其特征在于，所述顶盖(4)还设置有空气过滤单元(41)和静电消除单元(42)，所述静电消除单元(42)位于空气过滤单元(41)与导流单元(5)之间，所述导流单元(5)位于顶盖(4)贴近壳体(1)内腔的一侧；
所述空气过滤单元(41)对进入工艺腔体的气体进行过滤；
所述静电消除单元(42)用于对过滤后的气体进行静电消除，防止颗粒经过静电吸附在晶圆表面。
8.根据权利要求7所述的晶圆旋转干燥装置，其特征在于，所述顶盖(4)的盖体设置有连通环境气体的气道，所述空气过滤单元(41)包括FFU，所述气道连通FFU。
9.根据权利要求1所述的晶圆旋转干燥装置，其特征在于，还包括排风系统(9)，所述排风系统(9)侧面连接所述工艺腔体，协同所述顶盖(4)共同形成工艺腔体内的气流循环，并在旋转干燥过程中甩干排放的废液。
10.根据权利要求9所述的晶圆旋转干燥装置，其特征在于，所述排风系统(9)包括排风管(91)和控制器(92)，所述排风管(91)设置于壳体(1)的侧壁上，所述控制器(92)用于控制排风管(91)的开启与关闭。
11.根据权利要求10所述的晶圆旋转干燥装置，其特征在于，所述排风管(91)连接有积液部(93)，所述积液部(93)位于干燥机壳体(1)与控制器(92)之间，所述积液部(93)的底部连接有抽水管，所述抽水管呈“U”形。
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN117497461A (zh) * | 2023-12-29 | 2024-02-02 | 无锡尚积半导体科技有限公司 | 晶圆镀膜前处理装置 |
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2023
- 2023-02-07 CN CN202320184332.4U patent/CN219674688U/zh active Active
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