CN219613770U - 清洁装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种清洁装置，包括：基站，包括基站本体，基站本体形成有清洗槽，基站本体包括第一驱动件以及旋转轴，第一驱动件设置于基站本体底部，旋转轴一端与第一驱动件连接、另一端凸设于清洗槽；清洁设备，包括清洁设备本体以及拖布支架组件，拖布支架组件可拆卸于清洁设备本体、并相对清洁设备本体升降运动；在拖布支架组件脱离清洁设备本体时，拖布支架组件插接于旋转轴，第一驱动件驱动旋转轴作用于拖布支架组件。本申请清洁装置能够对拖布支架组件进行自主清洁，实现湿式清洁部件以及干式清洁部件分离；结构简单，节省成本。

Description

清洁装置

技术领域

本申请涉及家用电器技术领域，特别是涉及一种清洁装置。

背景技术

现有清洁设备一般设置有边刷、滚刷以及拖布，边刷和滚刷为干式清洁部件，用于清扫地面灰尘垃圾。拖布为湿式清洁部件，用于湿拖地面，使地面清洁。拖布清洁完地面后回基站进行清洗过程中，很容易将污水渍打到干式清洁部件(滚刷、边刷上)，很容易导致滚刷或边刷打湿打结影响清洁效率，甚至容易导致发霉有异味等。

实用新型内容

本申请提供一种清洁装置，以解决清洁设备上拖布清洁完地面后回基站进行清洗过程中，很容易将污水渍打到干式清洁部件(滚刷、边刷上)，很容易导致毛刷打湿打结影响清洁效率，甚至容易导致发霉有异味等的技术问题。

为解决上述技术问题，本申请提出一种清洁装置，包括：基站，包括基站本体，基站本体形成有清洗槽，基站本体包括第一驱动件以及旋转轴，第一驱动件设置于基站本体底部，旋转轴一端与第一驱动件连接、另一端凸设于清洗槽；清洁设备，包括清洁设备本体以及拖布支架组件，拖布支架组件可拆卸于清洁设备本体、并相对清洁设备本体升降运动；在拖布支架组件脱离清洁设备本体时，拖布支架组件插接于旋转轴，第一驱动件驱动旋转轴作用于拖布支架组件。

其中，拖布支架组件吸附于旋转轴。

其中，拖布支架组件内设置有第一磁性件，旋转轴为第一金属件；清洁设备本体包括第二驱动件，第二驱动件驱动拖布支架组件上升至与清洁设备本体底部抵接、直至拖布支架组件脱离，而后第一磁性件吸附第一金属件。

其中，旋转轴设置有第二磁性件，拖布支架组件内设置有第三磁性件；清洁设备本体包括第二驱动件，第二驱动件驱动拖布支架组件下降直至插接于旋转轴，而后第二磁性件和第三磁性件磁性连接，其中第二磁性件和第三磁性件相吸形成的电磁力大于拖布支架组件与清洁设备本体之间的吸附力，用于拖布支架组件脱离。

其中，旋转轴设置有第四磁性件，清洁设备本体内设置有第五磁性件，拖布支架组件内设置有第二金属件；清洁设备本体包括第二驱动件，第二驱动件驱动拖布支架组件下降直至插接于旋转轴，而后第二金属件与第四磁性件磁性连接，第五磁性件与第二金属件解除磁性连接。

其中，拖布支架组件包括拖布支架以及拖布，拖布可拆卸于拖布支架，拖布支架朝向旋转轴的一侧面凹陷设置有凹陷部，凹陷部插接于旋转轴远离第一驱动件的一端。

其中，旋转轴远离第一驱动件的一端设置有限位部，凹陷部和限位部在垂直于旋转轴的轴向延伸方向的截面形状为相互适配的非圆形。

其中，限位部远离第一驱动件的一端外表面设置有第一限位面，凹陷部朝向拖布支架的底部设置有第二限位面，第一限位面和第二限位面适配。

其中，基站本体设置有安装座，安装座位于清洗槽内，旋转轴穿设出安装座。

其中，旋转轴外周侧壁和安装座内侧壁之间设置有密封件；和/或，旋转轴外周侧壁和安装座内侧壁之间设置有转动件，用于旋转轴相对安装座转动。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请提供一种清洁装置。清洁装置包括基站以及清洁设备。基站包括基站本体。基站本体形成有清洗槽。基站本体包括第一驱动件以及旋转轴。第一驱动件设置于基站本体底部。旋转轴一端与第一驱动件连接、另一端凸设于清洗槽。清洁设备包括清洁设备本体以及拖布支架组件。拖布支架组件可拆卸于清洁设备本体、并相对清洁设备本体升降运动。在拖布支架组件脱离清洁设备本体时，拖布支架组件插接于旋转轴，第一驱动件驱动旋转轴作用于拖布支架组件。通过上述方式，能够对拖布支架组件进行自主清洁，实现湿式清洁部件以及干式清洁部件分离，进而避免清洗槽中污水渍打到干式清洁部件(滚刷、边刷上)，很容易导致毛刷打湿打结影响清洁效率，甚至容易导致发霉有异味等问题。另外，分离后的拖布支架组件自动插接于旋转轴上，而后通过第一驱动件驱动实现拖布支架组件清洁，结构简单，节省成本。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，其中：

图1是本申请清洁装置一实施例的第一局部示意图；

图2是本申请清洁设备的结构示意图；

图3是本申请清洁装置的局部截面示意图；

图4是图3所示A的结构示意图；

图5是本申请拖布支架组件的截面示意图；

图6是本申请拖布支架组件的第一角度示意图；

图7是本申请旋转轴的结构示意图；

图8是本申请拖布支架组件的第二角度示意图；

图9是本申请清洁装置一实施例的第二局部示意图。

附图标号：10、清洁装置；1、基站；11、基站本体；111、清洗槽；112、第一驱动件；113、旋转轴；1131、限位部；1132、第一限位面；114、安装座；115、密封件；116、转动件；2、清洁设备；21、清洁设备本体；22、拖布支架组件；221、拖布支架；2211、第一磁性件；2212、凹陷部；2212a、第二限位面；222、拖布。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

下面结合实施例对本实用新型提供的一种清洁装置进行详细描述。

请参阅图1和图2，图1是本申请清洁装置一实施例的第一局部示意图；图2是本申请清洁设备的结构示意图。本申请提供了一种清洁装置10。清洁装置10包括基站1以及清洁设备2。基站1可以为清洁设备2提供至少充电、清洗、烘干以及杀菌等功能。清洁设备2可以为拖地机、扫地机、拖扫一体机以及吸尘器等。基站1包括基站本体11。基站本体11形成有清洗槽111。清洗槽111能够容纳水，用于清洗清洁设备2等。基站本体11包括第一驱动件112以及旋转轴113。第一驱动件112提供驱动力。第一驱动件112设置于基站本体11底部，避免清洗槽111中水损坏第一驱动件112。旋转轴113一端与第一驱动件112连接。旋转轴113在第一驱动件112作用下运动，如旋转轴113实现旋转、振动等。旋转轴113的另一端凸设于清洗槽111内，即旋转轴113的另一端可以浸没水中。

清洁设备2包括清洁设备本体21以及拖布支架组件22。拖布支架组件22可拆卸于清洁设备本体21，实现拖布支架组件22的快速安装和拆卸。另外，拖布支架组件22并能够相对清洁设备本体21升降运动，使得拖布支架组件22上升或者下降，满足不同状态使用需求。

请参阅图3以及图4，图3是本申请清洁装置的局部截面示意图；图4是图3所示A的结构示意图。结合图1和图2，当清洁设备2回基站1后，拖布支架组件22自动脱离清洁设备本体21，而后拖布支架组件22自动插接于旋转轴113上。第一驱动件112连接旋转轴113，在第一驱动件112的作用下，旋转轴113作用于拖布支架组件22，如旋转轴113带动拖布支架组件22在清洗槽111中旋转，将拖布支架组件22上污渍进行剥离；或者，旋转轴113将振动能量传送至拖布支架组件22上，从而带动拖布支架组件22在清洗槽111中振动，使污渍剥离出来，清洁拖布支架组件22。上述拖布支架组件22自动脱离清洁设备本体21的具体方式不做限定，能够实现拖布支架组件22与清洁设备本体21两者之间自动分离即可。

通过上述方式，能够对拖布支架组件22进行自主清洁，实现湿式清洁部件以及干式清洁部件分离，进而避免清洗槽111中污水渍打到干式清洁部件(滚刷、边刷上)，很容易导致滚刷或边刷打湿打结影响清洁效率，甚至容易导致发霉有异味等问题。另外，分离后的拖布支架组件22自动插接于旋转轴113上，而后通过第一驱动件112驱动实现拖布支架组件22清洁，结构简单，节省成本。

上述第一驱动件112可以为驱动电机(图上未示意)。驱动电机带动旋转轴113旋转，旋转轴113带动拖布支架组件22进行旋转清洁。或者，第一驱动件112可以为超声波发生装置(图上未示意)。超声发生装置将振动能量传递给旋转轴113，旋转轴113将振动能量传送至拖布支架组件22上，实现振动清洁。另外，拖布支架组件22可通过吸附方式连接于清洁设备本体21。

在一实施例中，拖布支架组件22吸附于旋转轴113。当拖布支架组件22脱离清洁设备本体21后，因拖布支架组件22和旋转轴113之间具有一定吸附力，使得拖布支架组件22能够自动吸附对位，能够更准确地插接在旋转轴113上，避免拖布支架组件22错位而影响拖布支架组件22插接于旋转轴113的准确性。其中，拖布支架组件22可以通过磁性方式吸附旋转轴113。

上述拖布支架组件22脱离清洁设备本体21的方式有多种。下面将一一进行详细阐述。

如第一实施例中，拖布支架组件22内设置有第一磁性件2211。第一磁性件2211具有一定磁力。旋转轴113为第一金属件(图上未示意)。清洁设备本体21包括第二驱动件(图上未示意)。第二驱动件提供一定驱动力。第二驱动件用于驱动拖布支架组件22进行升降运动。如第二驱动件能够驱动拖布支架组件22上升至与清洁设备本体21底部抵接，而后第二驱动件继续运动直至拖布支架组件22从清洁设备本体21底部脱离。当拖布支架组件22掉落到清洗槽111过程中，第一磁性件2211和第一金属件之间磁性连接，使得拖布支架组件22能够准确地插接于旋转轴113。

即通过上述第二驱动件驱动拖布支架组件22与清洁设备本体21底部抵接，拖布支架组件22与清洁设备本体21逐渐脱离，拖布支架组件22掉落到基站1中清洗槽111内。上述第一磁性件2211可以为电磁铁。第一金属件可以为铁、钴、镍及其合金等。

如第二实施例中，旋转轴113设置有第二磁性件(图上未示意)。第二磁性件具有一定磁力。拖布支架组件22内设置有第三磁性件(图上未示意)。第三磁性件具有一定磁力。清洁设备本体21包括第二驱动件。第二驱动件提供一定驱动力。第二驱动件用于驱动拖布支架组件22进行升降运动。如第二驱动件驱动拖布支架组件22下降直至插接于旋转轴113，实现拖布支架221组件与旋转轴113直接插接，进一步提升拖布支架组件22与旋转轴113插接准确性。

当拖布支架组件22下降直至插接于旋转轴113过程中，第二磁性件和第三磁性件之间通电，第二磁性件和第三磁性件之间磁性连接。第二磁性件和第三磁性件两者相吸形成有电磁力。该电磁力大于拖布支架组件22与清洁设备本体21之间的吸附力，使得拖布支架组件22从清洁设备本体21自动脱离，此时清洁设备本体21离开基站1。上述第二磁性件以及第三磁性件可以均为电磁铁。

如第三实施例中，旋转轴113设置有第四磁性件(图上未示意)。第四磁性件具有一定磁力。清洁设备本体21内设置有第五磁性件(图上未示意)。第五磁性件具有一定磁力。拖布支架组件22内设置有第二金属件。

清洁设备本体21包括第二驱动件。第二驱动件提供一定驱动力。第二驱动件用于驱动拖布支架组件22进行升降运动。如第二驱动件驱动拖布支架组件22下降直至插接于旋转轴113，实现拖布支架组件22与旋转轴113直接插接，进一步提升拖布支架组件22与旋转轴113插接准确性。

当拖布支架组件22下降直至插接于旋转轴113后，第二金属件和第四磁性件之间通电，第二金属件和第四磁性件之间磁性连接。此时，第二金属件和第五磁性件之间由通电状态变化为断电状态，第二金属件和第五磁性件之间解除磁性连接，使得拖布支架组件22从清洁设备本体21自动脱离，清洁设备本体21离开基站1。上述第四磁性件以及第五磁性件可以均为电磁铁。第二金属件可以铁、钴、镍及其合金等。

请参阅图5和图6，图5是本申请拖布支架组件的截面示意图；图6是本申请拖布支架组件的第一角度示意图。结合图1和图4，上述拖布支架组件22包括拖布支架221以及拖布222。当拖布支架组件22设置有第一磁性件2211，或者拖布支架组件22设置有第三磁性件时，第一磁性件2211或第三磁性件可以设置在拖布支架221顶端位置处，用于与清洁设备本体21的尘盒组件(图上未示意)上的升降轴(图上未示意)连接，实现拖布支架221和升降轴之间吸附连接。当拖布支架组件22脱离清洁设备本体21底部时，相当于拖布支架221与升降轴之间解除吸附连接。

当拖布支架组件22设置有第二金属件时，第二金属件可以是拖布支架221，即拖布支架221可以是铁、钴、镍及其合金的支架。

当旋转轴113为第一金属件时，旋转轴113可以是铁、钴、镍及其合金材料支撑。当旋转轴113设置有第二磁性件或第四磁性件时，第二磁性件或第四磁性件可以设置在旋转轴113任意位置处，只要能够实现磁性连接即可，其具体位置不做限定。

在一实施例中，拖布222可拆卸于拖布支架221，便于拖布222安装和拆卸。拖布222可通过粘接、吸附、卡接等方式设置在拖布支架221上。如本实施例中，拖布支架221贴有魔术贴(图上未示意)，拖布222通过魔术贴贴附在拖布支架221上。

具体地，拖布支架221朝向旋转轴113的一侧面凹陷设置有凹陷部2212。凹陷部2212插接于旋转轴113远离第一驱动件112的一端，实现拖布支架组件22自动对外至旋转轴113上，同时便于拖布支架组件22拆卸安装，旋转或振动清洁等。

请参阅图7和图8，图7是本申请旋转轴的结构示意图；图8是本申请拖布支架组件的第二角度示意图。结合图1、图4、图5以及图6，在一实施例中，旋转轴113远离第一驱动件112的一端设置有限位部1131。凹陷部2212和限位部1131相互适配。凹陷部2212和限位部1131在垂直于旋转轴113的轴向延伸方向的截面形状为非圆形。通过上述设置方式，便于自动对位，旋转轴113能够带动凹陷部2212转动，避免旋转轴113相对凹陷部2212滑动。

上述凹陷部2212和限位部1131在垂直于旋转轴113的轴向延伸方向的截面形状可以为正多边形和异形等。正多边形可以为四边形、五边形、六边形等。异形可以为三边和弧形组合、四边和弧形组合、五边和曲线组合等，不做限定。

在一实施例中，限位部1131远离第一驱动件112的一端外表面设置有第一限位面1132。凹陷部2212朝向拖布支架221的底部设置有第二限位面2212a。第一限位面1132以及第二限位面2212a均提供导向功能。通过第一限位面1132和第二限位面2212a相互适配，便于拖布支架221自动导向对位至旋转轴113上，提升拖布支架组件22对位的准确性。

请参阅图9，图9是本申请清洁装置一实施例的第二局部示意图。结合图1以及图4，在一实施例中，基站本体11设置有安装座114。安装座114位于清洗槽111内。旋转轴113穿设出安装座114。安装座114为旋转轴113的安装提供了安装位置，同时安装座114能够减少水进入基站本体11底部内，避免影响第一驱动件112正常使用；另外，能够用于后续安装转动件116以及密封件115等。

具体地，旋转轴113外周侧壁和安装座114内侧壁之间设置有密封件115。密封件115具有一定密封性能。通过上述密封件115能够提升旋转轴113安装于旋转轴113的密封性，减少清洗槽111中水进入基站本体11底部内。上述密封件115套设在旋转轴113外周侧壁。或者，密封件115设置在旋转轴113内侧壁。

当然，在实际过程中，旋转轴113设置有密封凹槽(图上未示意)，密封件115嵌设在密封凹槽内。其中，密封件115可以为密封圈(图上未示意)。

具体地，旋转轴113外周侧壁和安装座114内侧壁之间设置有转动件116，用于旋转轴113相对安装座114转动。在实际过程中，旋转轴113设置有转动凹槽(图上未示意)，转动件116嵌设在转动凹槽内。其中，转动件116可以为转轴。当安装座114内均有密封件115以及转动件116时，密封件115位于转动件116上方位置处。

相比于现有技术，本申请提供一种清洁装置。清洁装置包括基站以及清洁设备。基站包括基站本体。基站本体形成有清洗槽。基站本体包括第一驱动件以及旋转轴。第一驱动件设置于基站本体底部。旋转轴一端与第一驱动件连接、另一端凸设于清洗槽。清洁设备包括清洁设备本体以及拖布支架组件。拖布支架组件可拆卸于清洁设备本体、并相对清洁设备本体升降运动。在拖布支架组件脱离清洁设备本体时，拖布支架组件插接于旋转轴，第一驱动件驱动旋转轴作用于拖布支架组件。通过上述方式，能够对拖布支架组件进行自主清洁，实现湿式清洁部件以及干式清洁部件分离，进而避免清洗槽中污水渍打到干式清洁部件(滚刷、边刷上)，很容易导致毛刷打湿打结影响清洁效率，甚至容易导致发霉有异味等问题。另外，分离后的拖布支架组件自动插接于旋转轴上，而后通过第一驱动件驱动实现拖布支架组件清洁，结构简单，节省成本。

本申请中的术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

以上所述仅为本申请的实施例，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种清洁装置，其特征在于，包括：

基站，包括基站本体，所述基站本体形成有清洗槽，所述基站本体包括第一驱动件以及旋转轴，所述第一驱动件设置于所述基站本体底部，所述旋转轴一端与所述第一驱动件连接、另一端凸设于所述清洗槽；

清洁设备，包括清洁设备本体以及拖布支架组件，所述拖布支架组件可拆卸于所述清洁设备本体、并相对所述清洁设备本体升降运动；

在所述拖布支架组件脱离所述清洁设备本体时，所述拖布支架组件插接于所述旋转轴，所述第一驱动件驱动所述旋转轴作用于所述拖布支架组件。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述拖布支架组件吸附于所述旋转轴。

3.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述拖布支架组件内设置有第一磁性件，所述旋转轴为第一金属件；

所述清洁设备本体包括第二驱动件，所述第二驱动件驱动所述拖布支架组件上升至与所述清洁设备本体底部抵接、直至所述拖布支架组件脱离，而后所述第一磁性件吸附所述第一金属件。

4.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述旋转轴设置有第二磁性件，所述拖布支架组件内设置有第三磁性件；

所述清洁设备本体包括第二驱动件，所述第二驱动件驱动所述拖布支架组件下降直至插接于所述旋转轴，而后所述第二磁性件和所述第三磁性件磁性连接，其中所述第二磁性件和所述第三磁性件相吸形成的电磁力大于所述拖布支架组件与所述清洁设备本体之间的吸附力，用于所述拖布支架组件脱离。

5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述旋转轴设置有第四磁性件，所述清洁设备本体内设置有第五磁性件，所述拖布支架组件内设置有第二金属件；

所述清洁设备本体包括第二驱动件，所述第二驱动件驱动所述拖布支架组件下降直至插接于所述旋转轴，而后所述第二金属件与所述第四磁性件磁性连接，所述第五磁性件与所述第二金属件解除磁性连接。

6.根据权利要求1-5任一项所述的清洁装置，其特征在于，所述拖布支架组件包括拖布支架以及拖布，所述拖布可拆卸于所述拖布支架，所述拖布支架朝向所述旋转轴的一侧面凹陷设置有凹陷部，所述凹陷部插接于所述旋转轴远离所述第一驱动件的一端。

7.根据权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述旋转轴远离所述第一驱动件的一端设置有限位部，所述凹陷部和所述限位部在垂直于所述旋转轴的轴向延伸方向的截面形状为相互适配的非圆形。

8.根据权利要求7所述的清洁装置，其特征在于，所述限位部远离所述第一驱动件的一端外表面设置有第一限位面，所述凹陷部朝向所述拖布支架的底部设置有第二限位面，所述第一限位面和所述第二限位面适配。

9.根据权利要求1-5任一项所述的清洁装置，其特征在于，所述基站本体设置有安装座，所述安装座位于所述清洗槽内，所述旋转轴穿设出所述安装座。

10.根据权利要求9所述的清洁装置，其特征在于，所述旋转轴外周侧壁和所述安装座内侧壁之间设置有密封件；

和/或，所述旋转轴外周侧壁和所述安装座内侧壁之间设置有转动件，用于所述旋转轴相对所述安装座转动。