CN219503364U - 化学发光磁分离清洗机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种化学发光磁分离清洗机构，包括磁分离底盘组件、磁分离清洗针升降部件和磁力支架组件，其中，磁分离底盘组件包括反应杯支架以及驱动反应杯支架旋转的磁分离旋转驱动组件，反应杯支架上设有多个用于放置反应杯的孔位；磁力支架组件包括磁力支架底座和设在磁力支架底座上的若干磁块；磁分离清洗针升降部件包括清洗针支架和驱动清洗针支架升降的升降驱动机构，清洗针支架上安装有多套清洗针组件。本实用新型既优化降低了磁分离清洗机构的成本、安装空间，又提高了磁珠回收效率，降低了磁分离清洗不足对检测结果的干扰。

Description

化学发光磁分离清洗机构

技术领域

本实用新型涉及体外诊断医疗器械领域，尤其涉及一种化学发光磁分离清洗机构。

背景技术

传统的磁分离清洗机构采用单侧磁块打散和吸附的形式实现，需要在反应杯的运行通道上放置很多磁块才能达到打散和吸附效果；并且采用的是底部吸附。然而，这种结构导致传统的磁分离清洗机构的体积太大，从而导致仪器制造成本高昂；此外，底部吸附方式使得经常发生磁珠被清洗针意外吸走，进而使待检物浓度检测结果大受干扰。

实用新型内容

本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提供一种化学发光磁分离清洗机构，以实现更好的磁分离清洗所需的磁珠打散和聚合分离的过程，提高磁珠的回收效率，降低磁珠被意外排出的检测结果干扰。

为了解决上述技术问题，本实用新型实施例提出了一种化学发光磁分离清洗机构，包括磁分离底盘组件、磁分离清洗针升降部件和磁力支架组件，其中，磁分离底盘组件包括反应杯支架以及驱动反应杯支架旋转的磁分离旋转驱动组件，反应杯支架上设有多个用于放置反应杯的孔位；磁力支架组件包括磁力支架底座和设在磁力支架底座上的若干磁块；磁分离清洗针升降部件包括清洗针支架和驱动清洗针支架升降的升降驱动机构，清洗针支架上安装有多套清洗针组件。

进一步地，所述孔位绕反应杯支架的旋转轴心设置，磁力支架底座安装有一个对应位于孔位下方的环形的反应杯旋转通道，所述磁块对应反应杯旋转通道设置。

进一步地，所述孔位数为3的倍数，所述清洗针组件对应有3组。

进一步地，所述清洗针组件通过弹性的连接，固定在清洗针支架上。

进一步地，所述磁块包括多个外环磁块、多个内环磁块，所述外环磁块和内环磁块分别交替设于反应杯旋转通道外侧和内侧。

进一步地，磁力支架组件设置有吸附位，磁力支架底座上对应设有吸附位磁块，吸附位磁块用于在排出清洗液时，通过侧向磁力吸附将磁珠及待检物吸附在反应杯的侧下方杯壁。

进一步地，磁分离旋转驱动组件包含磁分离底盘，磁分离底盘的一端安装有旋转驱动电机，磁分离底盘的另一端安装有旋转传动组件，旋转驱动电机的输出端连接着同步轮，同步轮与旋转传动组件之间通过同步带传动，反应杯支架设于旋转传动组件上。

进一步地，磁分离底盘下方对应设有转盘光耦挡片和对应的复位光耦。

进一步地，升降驱动机构为丝杆升降机构。

本实用新型的有益效果为：本实用新型采用环形的反应杯旋转通道，环形内侧和外侧同时分布磁块实现交替磁力线方向的磁场，实现了紧凑空间下的交替打散和磁珠吸附；同时，本实用新型采用侧向磁场磁吸附设计（而非底部磁吸附的设计），避免了清洗针扎到底部时磁珠被吸走的情形，提高了磁珠的回收率，降低了磁珠损失对检测结果的干扰。

附图说明

图1是本实用新型实施例的化学发光磁分离清洗机构的立体结构图。

图2是本实用新型实施例的磁分离底盘组件的立体结构图。

图3是本实用新型实施例的磁分离清洗针升降部件的立体结构图。

图4是本实用新型实施例的磁力支架组件的分解图。

附图标号说明

反应杯1，磁分离底盘组件10，反应杯支架11，磁分离底盘12，旋转驱动电机13，旋转传动组件14，同步带15，转盘光耦挡片16，复位光耦17，位置检测光耦18，孔位19，磁分离清洗针升降部件20，清洗针支架21，升降支架22，丝杆电机23，清洗针组件24，磁力支架组件30，磁力支架底座31，反应杯旋转通道32，外环磁块33，内环磁块34，吸附位磁块35。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互结合，下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。

本实用新型实施例中若有方向性指示（诸如上、下、左、右、前、后……）仅用于解释在某一特定姿态（如附图所示）下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，在本实用新型中若涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。

请参照图1～图4，本实用新型实施例的化学发光磁分离清洗机构包括磁分离底盘组件、磁分离清洗针升降部件和磁力支架组件。

磁分离底盘组件包括反应杯支架以及驱动反应杯支架旋转的磁分离旋转驱动组件，反应杯支架上设有多个用于放置反应杯的孔位。磁分离清洗针升降部件包括清洗针支架和驱动清洗针支架升降的升降驱动机构，清洗针支架上安装有多套清洗针组件。

磁分离清洗针升降部件和磁力支架组件安装在磁分离底盘组件上，形成一个整体机构。清洗针组件的升降方向与磁力支架底座水平面相垂直。化学发光磁分离清洗机构的底部有固定柱，用于将整个机构安装在体外诊断仪器的整机上。

磁分离旋转驱动组件包含磁分离底盘，磁分离底盘的一端安装有旋转驱动电机，磁分离底盘的另一端安装有旋转传动组件。旋转驱动电机的输出端连接着同步轮。旋转传动组件包含了支撑座、转轴、齿轮、轴承、挡圈、磁分离清洗支架以及转盘光耦挡片。旋转驱动电机的输出端同步轮与旋转传动组件上的齿轮之间通过同步带传动。旋转传动组件设有反应杯支架，可同时放置若干反应杯，反应杯支架可以进行360旋转，实现反应杯在不同磁场位置的转换。

作为一种实施方式，转盘光耦挡片与两个光耦搭配使用，分别为用于初始复位的复位光耦，以及用于旋转位置检测的位置检测光耦。磁分离底盘的下方安装有同步带、转盘光耦挡片、光耦、光耦固定板等，磁分离底盘的上方安装有磁力支架组件。

升降驱动机构包含升降支架，升降支架上安装有丝杆电机，丝杆电机上连接有丝杆螺母，并通过丝杆螺母带动清洗针支架运动，可以实现上升和下降。清洗针支架上安装有多套清洗针组件，多套清洗针可连接到多通道吸排液系统，多套清洗针可以同时进行加液、排液动作。

作为一种实施方式，清洗针支架上安装有三套清洗针组件，三套清洗针组件在一个圆的圆周上，从则实现同时对圆周点位上三个反应杯同时加液、或排液。清洗针组件的清洗针包括加液针、排液针。加液针短于排液针，使加液针加液过程中干净的清洗液冲洗排液针，减少携带污染率。

所述的清洗针组件通过弹性的连接，固定在清洗针支架上，当清洗针组件的清洗针下降到接近最底部时，即可下降到最底部，又不对机械系统精度提出过高要求。

所述清洗针组件的清洗针针尖有侧开口的防堵设计，防止清洗针下降到底部时，被反应杯堵住吸排液口。

磁力支架组件包含磁力支架底座和若干磁块，磁块的安装位置在不同位置形成不规则磁场和规则磁场，分别用于反应杯内的磁珠的打散和聚集。磁力支架底座安装有一个反应杯旋转通道，实现反应杯支架旋转时，磁场以一定顺序交替对反应杯内试剂样本混合液进行磁力作用。

优选地，磁力支架组件设有三个吸附位，用于在排出清洗液时，通过侧向磁力吸附将磁珠及待检物吸附在反应杯的侧下方杯壁。

所述磁力支架组件设有三个外环磁块和三个内环磁块，外环磁块和内环磁块交替放置，反应杯在反应杯旋转通道中快速旋转，交替的不规则磁力线将磁珠打散，使磁珠及偶合物充分与清洗液混合进行彻底清洗。这些磁块形成的位于反应杯旋转通道上的磁场有不规则的磁力线空间，也有规则的磁力线空间。不规则的磁力线空间应用于将试剂样本混合液中的磁珠及偶合物打散，从而彻底与清洗液混合达到更好的清洗效果，规则的磁力线空间应用于将试剂样本混合液中的磁珠及偶合物聚合，从而实现排出清洗时磁吸附保留待检的特定组份，将清洗液与待检物分离，清洗效率与磁力强弱相关。

具体实施时，所述的磁块从上往下安装到磁力支架底座上，使用支架盖子将磁铁固定在安装位。

反应杯支架上设置多个孔位，反应杯在反应杯支架旋转盘上可以旋转到不同位置，不同位置的功能不同。所述的位置功能包含放置反应杯位、磁吸附位、加液排液位和磁珠打散位等。

放置反应杯的孔位具有限制反应杯倾斜的足够厚度，防止反应杯在旋转过程中倾斜。所述的放置反应杯的孔位用于给外部机械夹手从其他机构夹取反应杯到磁分离清洗机构时使用，或从磁分离清洗机构夹取反应杯到其他机构使用；所述的磁吸附位用于在需要将清洗液与磁珠及偶合物分离时使用。

优选的，本实用新型的磁分离清洗机构的紧凑设计使其总体积不超过：190mm x156mm x 263mm。

优选的，所述的反应杯孔位为3的倍数，使本实用新型整机磁分离清洗可以按3个反应杯同时进行的形式，流水式操作。

本实用新型用于需要进行磁分离清洗的试剂反应体系中，对采用磁珠吸附待检物或待检混合物液体，进行磁分离清洗，将已完成反应后的过量底物、或试剂组分清洗掉。

本实用新型具有紧凑的结构、侧向吸附、弹性安装清洗针的设计，既优化降低了磁分离清洗机构的成本、安装空间，又提高了磁珠回收效率，降低了磁分离清洗不足对检测结果的干扰。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同范围限定。

Claims (6)

1.一种化学发光磁分离清洗机构，其特征在于，包括磁分离底盘组件、磁分离清洗针升降部件和磁力支架组件，其中，磁分离底盘组件包括反应杯支架以及驱动反应杯支架旋转的磁分离旋转驱动组件，反应杯支架上设有多个用于放置反应杯的孔位；磁力支架组件包括磁力支架底座和设在磁力支架底座上的若干磁块；磁分离清洗针升降部件包括清洗针支架和驱动清洗针支架升降的升降驱动机构，清洗针支架上安装有多套清洗针组件；

所述孔位绕反应杯支架的旋转轴心设置，磁力支架底座安装有一个对应位于孔位下方的环形的反应杯旋转通道，所述磁块对应反应杯旋转通道设置；

所述磁块包括多个外环磁块、多个内环磁块，所述外环磁块和内环磁块分别交替设于反应杯旋转通道外侧和内侧，形成交替的不规则磁场；

磁力支架组件设置有吸附位，磁力支架底座上对应设有吸附位磁块，吸附位磁块用于在排出清洗液时，通过侧向磁力吸附将磁珠及待检物吸附在反应杯的侧下方杯壁。

2.如权利要求1所述的化学发光磁分离清洗机构，其特征在于，所述孔位数为3的倍数，所述清洗针组件对应有3组。

3.如权利要求1所述的化学发光磁分离清洗机构，其特征在于，所述清洗针组件通过弹性的连接，固定在清洗针支架上。

4.如权利要求1所述的化学发光磁分离清洗机构，其特征在于，磁分离旋转驱动组件包含磁分离底盘，磁分离底盘的一端安装有旋转驱动电机，磁分离底盘的另一端安装有旋转传动组件，旋转驱动电机的输出端连接着同步轮，同步轮与旋转传动组件之间通过同步带传动，反应杯支架设于旋转传动组件上。

5.如权利要求4所述的化学发光磁分离清洗机构，其特征在于，磁分离底盘下方对应设有转盘光耦挡片和对应的复位光耦。

6.如权利要求1所述的化学发光磁分离清洗机构，其特征在于，升降驱动机构为丝杆升降机构。