CN219204766U - 一种用于涂层处理的等离子装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及等离子装置技术领域，且公开了一种用于涂层处理的等离子装置，包括箱体，箱体内设置有等离子发生器以及真空室水冷机构；箱体的一侧连接有真空系统，等离子发生器包括阴极，阴极的外侧套有水套管，水套管的外侧套有空气管，空气管的一端外侧缠绕有线圈，线圈上连接有电源，阴极的一端设置有可更换的阴极头，阴极头设置在线圈的内部，阴极头的外端连接有阳极，阳极内侧设置有放电腔，且在放电腔的表面设置有电弧，阳极的一端设置有等离子喷头，真空室水冷机构设置在阳极的侧面，箱体的内部设置有用于调节等离子发生器角度的调节装置，可以对等离子喷头喷出的等离子体冷却降温处理，方便实现联动控制水冷。

Description

一种用于涂层处理的等离子装置

技术领域

本实用新型涉及等离子装置技术领域，具体为一种用于涂层处理的等离子装置。

背景技术

在真空等离子表面处理工艺中，真空等离子体清洗机产生的等离子体温度很低，但是在使用过程中，如果使用功率较大或处理时刻过长，就会出现电极板温度升高的情况，而等离子体清洗机一般也会处理一些对温度比较敏感的产品，这时就需要根据用户的要求给电极板降温，以达到使对腔内温度稳定在要求范围的目的。

等离子体清洗机的等离子体发生器是该设备的核心部件，一般小型等离子体清洗机使用功率较小，等离子体发生器自身产生的热量较小，一般会选择风冷除温的方法。而大型等离子清洗机都是会使用输出功率较大的等离子发生器，工作时自身产生的热量也很大，为了保证设备使用的稳定性，延长使用寿命，采用工艺冷却水除温的方法来冷却。

真空泵在使用过程中无润滑油冷却，机械结构之间又产生了很高的摩擦温度，如真空泵在没有冷却的情况下工作时，会出现转子或螺杆抱死的情况，造成报废。因此，真空泵在使用中需要实时冷却，所采用的方法就是采用过程工艺冷却水冷却。

局部干泵在设计时为了保证降低电机噪音，更好地做好电机保护，一般还会选择水冷式电机，也需要工艺冷却水进行实时降温。

一般情况下，等离子清洗机的冷却水压力和流量监测由水流开关完成，水流开关分为机械式和数量式，需要串联应用于进水管，当压力或流量太小时，输出信号，完成设备的报警功能。一般是在每个温度控制部件的入口安装独立的水流量开关，以确保其稳定可靠。

实用新型内容

本实用新型提供了一种用于涂层处理的等离子装置，用于解决了上述背景技术中所提到的技术问题。

本实用新型提供如下技术方案：一种用于涂层处理的等离子装置，包括箱体，所述箱体内设置有等离子发生器以及真空室水冷机构；

所述箱体的一侧连接有真空系统，所述等离子发生器包括阴极，所述阴极的外侧套有水套管，所述水套管的外侧套有空气管，所述空气管的一端外侧缠绕有线圈，所述线圈上连接有电源，所述阴极的一端设置有可更换的阴极头，所述阴极头设置在线圈的内部，所述阴极头的外端连接有阳极，所述阳极内侧设置有放电腔，且在放电腔的表面设置有电弧，所述阳极的一端设置有等离子喷头，所述真空室水冷机构设置在阳极的侧面，所述箱体的内部设置有用于调节等离子发生器角度的调节装置。

作为本实用新型所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：真空室水冷机构包括外壳、水管、转杆以及第一喷嘴器，所述外壳内开设有滑槽与槽体，所述滑槽与所述槽体相连通，所述滑槽内可滑动连接有密封块，所述密封块上开设有流通槽，所述转杆上固定连接有连接杆，所述连接杆上固定连接有限流部件，所述转杆用于将所述密封块进行位置调整从而促使所述流通槽与所述水管相连通；

所述限流部件为转动板，所述转动板上开设有第一通孔，所述连接杆用于促使所述转动板进行转动。

作为本实用新型所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述密封块上固定连接有定位板，所述定位板上开设有第二通孔，所述连接杆用于促使所述第一通孔与所述第二通孔相连通，从而控制水流大小进入到所述槽体内。

作为本实用新型所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述密封块上可转动连接有限位圈，所述限位圈呈中空环形状，所述限位圈用于促使所述密封块转动时稳定。

作为本实用新型所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述第一喷嘴器内可滑动连接有第二喷嘴器，所述第二喷嘴器呈倒圆台状，所述第一喷嘴器呈倒圆台状，所述第一喷嘴器的半径大于所述第二喷嘴器的半径，所述第二喷嘴器上固定连接有移动块，所述移动块用于促使所述第二喷嘴器在所述第一喷嘴器内滑动，所述第一喷嘴器内开设有移动槽，所述移动块的一端与所述移动槽滑动连接，所述移动块的另一端与所述第二喷嘴器连接。

作为本实用新型所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述移动块上安装有推动杆，所述推动杆上可拆卸的安装有限位杆，所述第一喷嘴器上开设有限位槽，所述限位槽与所述移动槽相连通，所述限位槽与所述限位杆相卡合。

作为本实用新型所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述箱体的一侧设置有箱体门，所述箱体门的内侧设置有多层凸出密封环，所述箱体门的四角均螺纹连接有丝杆，所述丝杆的一端转动连接在箱体上，所述丝杆的另一端设置有旋转把手。

作为本实用新型所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述真空系统包括安装在箱体的抽气泵，所述抽气泵用于将箱体进行抽真空处理。

作为本实用新型所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述调节装置包括电机，所述电机的输出端上连接有丝杠，所述丝杠上螺纹连接有滑套，丝杠的转动可以带动滑套的移动，所述等离子发生器安装在滑套上，所述丝杠上还同轴设置有圆盘，所述圆盘的外周面上设置有一层防滑纹路，所述圆盘的外周面与转杆的侧面接触。

本实用新型具备以下有益效果：

1、通过将等离子发生器置于真空箱体内，压缩空气进入到空气管内，线圈通电以及水进入到水套管内，其中水为循环设置，在密封箱体中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，然后通过等离子喷头喷送出来，设置的真空室水冷机构可以对等离子喷头喷出的等离子体冷却降温处理；

在需要控制雾化喷嘴喷洒的水量大小时，使用者把传送管与水管连接，水源传送到水管内，此时使用者转动转杆，转杆转动带动密封块转动，密封块转动到一定位置关系时，滑槽与密封块上的流通槽相连通，此时水管内的水流流入到流通槽内，水流通过流通槽传送到转动板上，转杆转动带动连接杆转动，连接杆转动带动转动板转动，转动板转动到一定位置后，水流的流量通过第一通孔与第二通孔接通的空隙中流送到槽体内，槽体内的水源进一步流送到第一喷嘴器内，此时第一喷嘴器开始喷洒水流，转杆便于调节雾化喷嘴喷洒的水流大小，从而控制喷洒时的水压，提高雾化喷嘴的工作效率，且在不使用时，使用者转动转杆，转杆带动密封块对水管进行封堵，即第一喷嘴器不能喷洒水流，使用调节便捷，结构简单。

2、该一种用于涂层处理的等离子装置，在需要调节雾化喷嘴喷洒的范围时，使用者推动推动杆，推动杆带动移动块在移动槽内滑动，移动块带动第二喷嘴器滑动，移动块在移动槽内滑动便于对第二喷嘴器在滑动时进行限位，避免第二喷嘴器在第一喷嘴器内滑动产生位移等现象，当滑动到具体想要喷洒的位置后，使用者固定推动杆即可，第二喷嘴器滑动便于调节第一喷嘴器喷洒的范围内，提高雾化喷嘴的实用性。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图；

图2为本实用新型的正视结构示意图；

图3为本实用新型的内部结构示意图；

图4为本实用新型的图3中A处放大结构示意图；

图5为本实用新型的等离子发生器立体结构示意图；

图6为本实用新型的等离子发生器结构示意图；

图7为本实用新型的等离子发生器剖视结构示意图；

图8为本实用新型的外壳结构示意图；

图9为本实用新型的外壳剖视结构示意图；

图10为本实用新型的滑槽爆炸结构示意图；

图11为本实用新型图10中B处放大图；

图12为本实用新型喷嘴器爆炸结构示意图。

图中：1、外壳；2、水管；3、转杆；4、第一喷嘴器；5、滑槽；6、槽体；7、密封块；8、流通槽；9、连接杆；10、转动板；11、第一通孔；12、定位板；13、第二通孔；14、限位圈；15、第二喷嘴器；16、移动块；17、移动槽；18、推动杆；19、限位杆；20、限位槽；21、箱体；22、等离子发生器；23、真空室水冷机构；24、真空系统；25、阴极；26、水套管；27、空气管；28、线圈；29、阴极头；30、阳极；31、放电腔；32、电弧；33、等离子喷头；34、调节装置；35、箱体门；36、密封环；37、丝杆；38、旋转把手；39、抽气泵；40、电机；41、丝杠；42、滑套；43、圆盘。

实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例

请参阅图1-7，一种用于涂层处理的等离子装置，其包括箱体21，箱体21内设置有等离子发生器22以及真空室水冷机构23；

箱体21的一侧连接有真空系统24，等离子发生器22包括阴极25，阴极25的外侧套有水套管26，水套管26的外侧套有空气管27，空气管27的一端外侧缠绕有线圈28，线圈28上连接有电源，阴极25的一端设置有可更换的阴极头29，阴极头29设置在线圈28的内部，阴极头29的外端连接有阳极30，阳极30内侧设置有放电腔31，且在放电腔31的表面设置有电弧32，阳极30的一端设置有等离子喷头33，真空室水冷机构23设置在阳极30的侧面，箱体21的内部设置有用于调节等离子发生器22角度的调节装置34。

本装置，通过将等离子发生器22置于真空箱体21内，压缩空气进入到空气管27内，线圈28通电以及水进入到水套管26内，其中水为循环设置，在密封箱体21中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，然后通过等离子喷头33喷送出来，设置的真空室水冷机构23可以对等离子喷头33喷出的等离子体冷却降温处理。

实施例

请参阅图8-12，一种用于涂层处理的等离子装置，包括外壳1、水管2、转杆3以及第一喷嘴器4，外壳1内开设有滑槽5与槽体6，滑槽5与槽体6相连通，滑槽5内可滑动连接有密封块7，密封块7上开设有流通槽8，转杆3上固定连接有连接杆9，连接杆9上固定连接有限流部件，转杆3用于将密封块7进行位置调整从而促使流通槽8与水管2相连通；

限流部件为转动板10，转动板10上开设有第一通孔11，连接杆9用于促使转动板10进行转动。

在需要控制雾化喷嘴喷洒的水量大小时，使用者把传送管与水管2连接，水源传送到水管2内，此时使用者转动转杆3，转杆3转动带动密封块7转动，密封块7转动到一定位置关系时，滑槽5与密封块7上的流通槽8相连通，此时水管2内的水流流入到流通槽8内，水流通过流通槽8传送到转动板10上，转杆3转动带动连接杆9转动，连接杆9转动带动转动板10转动，转动板10转动到一定位置后，水流的流量通过第一通孔11流送到槽体6内，槽体6内的水源进一步流送到第一喷嘴器4内，此时第一喷嘴器4开始喷洒水流，转杆3便于调节雾化喷嘴喷洒的水流大小，从而控制喷洒时的水压，提高雾化喷嘴的工作效率，且在不使用时，使用者转动转杆3，转杆3带动密封块7对水管2进行封堵，即可时第一喷嘴器4不能喷洒水流，使用调节便捷，结构简单。

实施例

本实施例是在实施例1的基础上做出的改进，具体结合图1和图4，本实施例还包括：请参阅图4，密封块7上固定连接有定位板12，定位板12上开设有第二通孔13，连接杆9用于促使第一通孔11与第二通孔13相连通，从而控制水流大小进入到槽体6内。

本实施例中，在需要控制水流大小进入槽体6时，使用者在转动转杆3时，转杆3上的连接杆9带动转动板10进行旋转，转动板10旋转带动第一通孔11旋转，到转动板10旋转到一定位置后，第一通孔11与第二通孔13相接触或连通，流通槽8内的水流或通过第一通孔11与第二通孔13连通的空隙中流送到槽体6内，连接杆9便于调整第一通孔11与第二通孔13连通的空隙，进而对水流的大小流送进行控制，提高使用者需要的水流量进行喷洒，使用多样性。

本实施例的其他结构与实施例1相同，在此不在赘述。

实施例

本实施例是在实施例1的基础上做出的改进，具体结合图2和图3，本实施例还包括：请参阅图2，密封块7上可转动连接有限位圈14，限位圈14呈中空环形状，限位圈14用于促使密封块7转动时稳定。

本实施例中，转杆3带动密封块7转动时，因限位圈14呈环形中空状，便于对密封块7在转动时进行限位，防止密封块7转动时脱离滑槽5内，提高密封块7转动时的稳定性。

本实施例的其他结构与实施例1相同，在此不在赘述。

实施例

本实施例是在实施例1的基础上做出的改进，具体结合图2和图5，本实施例还包括：请参阅图5，第一喷嘴器4内可滑动连接有第二喷嘴器15，第二喷嘴器15呈倒圆台状，第一喷嘴器4呈倒圆台状，第一喷嘴器4的半径大于第二喷嘴器15的半径，第二喷嘴器15上固定连接有移动块16，移动块16用于促使第二喷嘴器15在第一喷嘴器4内滑动。

本实施例中，在需要调节雾化喷嘴喷洒的范围时，使用者推动第二喷嘴器15，此时第二喷嘴器15上的移动块16在第一喷嘴器4内滑动，因第一喷嘴器4的半径大于第二喷嘴器15的半径，使第二喷嘴器15在第一喷嘴器4内滑动便捷自如，当滑动到具体想要喷洒的位置后，使用者固定移动块16即可，第二喷嘴器15滑动便于调节第一喷嘴器4喷洒的范围内，提高雾化喷嘴的实用性。

本实施例的其他结构与实施例1相同，在此不在赘述。

实施例

本实施例是在实施例4的基础上做出的改进，具体结合图2和图5，本实施例还包括：请参阅图5，第一喷嘴器4内开设有移动槽17，移动块16的一端与移动槽17滑动连接，移动块16的另一端与第二喷嘴器15连接。

本实施例中，在需要调节雾化喷嘴喷洒的范围时，使用者推动第二喷嘴器15，此时第二喷嘴器15上的移动块16在移动槽17内滑动，因第一喷嘴器4的半径大于第二喷嘴器15的半径，使第二喷嘴器15在第一喷嘴器4内滑动便捷自如，移动块16在移动槽17内滑动便于对第二喷嘴器15在滑动时进行限位，避免第二喷嘴器15在第一喷嘴器4内滑动产生位移等现象，当滑动到具体想要喷洒的位置后，使用者固定移动块16即可，第二喷嘴器15滑动便于调节第一喷嘴器4喷洒的范围内，提高雾化喷嘴的实用性。

本实施例的其他结构与实施例1相同，在此不在赘述。

实施例

本实施例是在实施例4的基础上做出的改进，具体结合图2和图5，本实施例还包括：请参阅图5，移动块16上安装有推动杆18，推动杆18上可拆卸的安装有限位杆19，第一喷嘴器4上开设有限位槽20，限位槽20与移动槽17相连通，限位槽20与限位杆19相卡合。

本实施例中，第二喷嘴器15在第一喷嘴器4内滑动到一定位置后，需要对第二喷嘴器15进行固定时，此时使用者把限位杆19贯穿推动杆18并插接到限位槽20内后，即可对移动块16进行定位，便于保证第二喷嘴器15在滑动后需要定位，提高雾化喷嘴的具体范围，使用多样性。

本实施例的其他结构与实施例1相同，在此不在赘述。

实施例

箱体21的一侧设置有箱体门35，箱体门35的内侧设置有多层凸出密封环36，箱体门35的四角均螺纹连接有丝杆37，丝杆37的一端转动连接在箱体21上，丝杆37的另一端设置有旋转把手38。

通过转动旋转把手38，可以带动丝杆37的转动，丝杆37再带动箱体门35向箱体21方向挤压，使箱体21尽量呈密封设置。

真空系统24包括安装在箱体21的抽气泵39，抽气泵39用于将箱体21进行抽真空处理。

调节装置34包括电机40，电机40的输出端上连接有丝杠41，丝杠41上螺纹连接有滑套42，丝杠41的转动可以带动滑套42的移动，等离子发生器22安装在滑套42上，丝杠41上还同轴设置有圆盘43，圆盘43的外周面上设置有一层防滑纹路，圆盘43的外周面与转杆3的侧面接触。

电机40为正反转电机，电机40可以驱动丝杠41的转动，丝杠41带动滑套42移动，然后再带动等离子发生器22移动，可以使等离子发生器22的喷头端置于待加工的工件表面，另外设置的圆盘43可以带动转杆3的转动，转杆3的转动可以控制冷却水，从而实现联动。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (9)

1.一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：包括箱体（21），所述箱体（21）内设置有等离子发生器（22）以及真空室水冷机构（23）；

所述箱体（21）的一侧连接有真空系统（24），所述等离子发生器（22）包括阴极（25），所述阴极（25）的外侧套有水套管（26），所述水套管（26）的外侧套有空气管（27），所述空气管（27）的一端外侧缠绕有线圈（28），所述线圈（28）上连接有电源，所述阴极（25）的一端设置有可更换的阴极头（29），所述阴极头（29）设置在线圈（28）的内部，所述阴极头（29）的外端连接有阳极（30），所述阳极（30）内侧设置有放电腔（31），且在放电腔（31）的表面设置有电弧（32），所述阳极（30）的一端设置有等离子喷头（33），所述真空室水冷机构（23）设置在阳极（30）的侧面，所述箱体（21）的内部设置有用于调节等离子发生器（22）角度的调节装置（34）。

2.根据权利要求1所述的一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：真空室水冷机构（23）包括外壳（1）、水管（2）、转杆（3）以及第一喷嘴器（4），所述外壳（1）内开设有滑槽（5）与槽体（6），所述滑槽（5）与所述槽体（6）相连通，所述滑槽（5）内可滑动连接有密封块（7），所述密封块（7）上开设有流通槽（8），所述转杆（3）上固定连接有连接杆（9），所述连接杆（9）上固定连接有限流部件，所述转杆（3）用于将所述密封块（7）进行位置调整从而促使所述流通槽（8）与所述水管（2）相连通；

所述限流部件为转动板（10），所述转动板（10）上开设有第一通孔（11），所述连接杆（9）用于促使所述转动板（10）进行转动。

3.根据权利要求2所述的一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：所述密封块（7）上固定连接有定位板（12），所述定位板（12）上开设有第二通孔（13），所述连接杆（9）用于促使所述第一通孔（11）与所述第二通孔（13）相连通，从而控制水流大小进入到所述槽体（6）内。

4.根据权利要求2所述的一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：所述密封块（7）上可转动连接有限位圈（14），所述限位圈（14）呈中空环形状，所述限位圈（14）用于促使所述密封块（7）转动时稳定。

5.根据权利要求2所述的一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：所述第一喷嘴器（4）内可滑动连接有第二喷嘴器（15），所述第二喷嘴器（15）呈倒圆台状，所述第一喷嘴器（4）呈倒圆台状，所述第一喷嘴器（4）的半径大于所述第二喷嘴器（15）的半径，所述第二喷嘴器（15）上固定连接有移动块（16），所述移动块（16）用于促使所述第二喷嘴器（15）在所述第一喷嘴器（4）内滑动，所述第一喷嘴器（4）内开设有移动槽（17），所述移动块（16）的一端与所述移动槽（17）滑动连接，所述移动块（16）的另一端与所述第二喷嘴器（15）连接。

6.根据权利要求5所述的一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：所述移动块（16）上安装有推动杆（18），所述推动杆（18）上可拆卸的安装有限位杆（19），所述第一喷嘴器（4）上开设有限位槽（20），所述限位槽（20）与所述移动槽（17）相连通，所述限位槽（20）与所述限位杆（19）相卡合。

7.根据权利要求1所述的一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：所述箱体（21）的一侧设置有箱体门（35），所述箱体门（35）的内侧设置有多层凸出密封环（36），所述箱体门（35）的四角均螺纹连接有丝杆（37），所述丝杆（37）的一端转动连接在箱体（21）上，所述丝杆（37）的另一端设置有旋转把手（38）。

8.根据权利要求1所述的一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：所述真空系统（24）包括安装在箱体（21）的抽气泵（39），所述抽气泵（39）用于将箱体（21）进行抽真空处理。

9.根据权利要求1所述的一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：所述调节装置（34）包括电机（40），所述电机（40）的输出端上连接有丝杠（41），所述丝杠（41）上螺纹连接有滑套（42），丝杠（41）的转动可以带动滑套（42）的移动，所述等离子发生器（22）安装在滑套（42）上，所述丝杠（41）上还同轴设置有圆盘（43），所述圆盘（43）的外周面上设置有一层防滑纹路，所述圆盘（43）的外周面与转杆（3）的侧面接触。

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