CN219169903U - 全方位镭雕设备及系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种全方位镭雕设备及系统，属于镭雕设备技术领域，包括翻转机构和镭雕机构，所述翻转机构包括支撑台以及转动的安装于所述支撑台的旋转台，所述旋转台设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品；所述镭雕机构包括第一支撑柱、导引机构、第二支撑柱和镭雕头，所述导引机构安装于所述第一支撑柱；所述第二支撑柱与所述导引机构连接，以通过所述导引机构沿所述第一支撑柱的长度延伸方向移动；所述镭雕头安装于所述第二支撑柱，且所述镭雕头发射的激光束照射至所述镭雕区域。本实用新型达到提高镭雕加工效率，降低镭雕加工误差的技术效果。

Description

全方位镭雕设备及系统

技术领域

本实用新型属于镭雕设备技术领域，特别涉及一种全方位镭雕设备及系统。

背景技术

镭雕是一种利用光学原理对产品的表面进行处理的一种工艺，也称为激光雕刻或者激光打标，可以在产品的表面雕刻图案或文字，为产品做上标记，广泛应用于工业生产中。

目前，在现有的镭雕设备技术中，通常是将产品安装到治具上，再将治具安装到镭雕机上对产品的某一区域进行镭雕，待该区域镭雕完成后，人工将产品从治具上取出，并且人工对产品的摆放位置进行翻转，再将翻转后的产品安装到治具上，对产品的另一区域进行镭雕。但是，在对产品进行全方位的镭雕加工过程中，会耗费较多的人力去对产品的位置进行多次的调节，难以对产品的不同区域进行连续的镭雕加工，也容易造成镭雕加工的误差较大，降低了镭雕效率。

综上所述，在现有的镭雕设备技术中，存在着镭雕效率低，镭雕加工的误差较大的技术问题。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是镭雕效率低，镭雕加工的误差较大的技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种全方位镭雕设备，所述设备包括：翻转机构和镭雕机构，所述翻转机构包括支撑台以及转动的安装于所述支撑台的旋转台，所述旋转台设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品；所述镭雕机构包括第一支撑柱、导引机构、第二支撑柱和镭雕头，所述导引机构安装于所述第一支撑柱；所述第二支撑柱与所述导引机构连接，以通过所述导引机构沿所述第一支撑柱的长度延伸方向移动；所述镭雕头安装于所述第二支撑柱，且所述镭雕头发射的激光束照射至所述镭雕区域。

进一步地，所述翻转机构还包括：伺服电机，所述伺服电机安装于所述支撑台，且所述伺服电机与所述旋转台连接。

进一步地，所述支撑台包括：底板、第一竖板和第二竖板，所述第一竖板和所述第二竖板分别与所述底板连接，所述伺服电机与所述第一竖板固定连接，所述旋转台与所述第二竖板转动连接，且所述伺服电机的转轴贯穿所述第一竖板与所述旋转台连接。

进一步地，所述旋转台包括：支撑座、第一卡紧端和第二卡紧端，所述支撑座转动的安装于所述支撑台，所述支撑座设置有通槽，所述镭雕区域位于所述通槽内；所述第一卡紧端和所述第二卡紧端均安装于所述支撑座，所述通槽位于所述第一卡紧端和第二卡紧端之间。

进一步地，所述导引机构包括：安装于所述第一支撑柱的导轨，以及与所述导轨滑动连接的滑块，所述导轨沿所述第一支撑柱的长度延伸方向设置，所述滑块与所述第二支撑柱连接。

进一步地，所述镭雕机构包括还包括：反射镜片，所述反射镜片至少包括反光面，所述镭雕头发射的激光束经所述反光面反射至所述镭雕区域。

进一步地，所述反射镜片还包括透光面；所述镭雕机构包括还包括图像检测装置，所述图像检测装置接收经所述透光面透过的来自所述镭雕区域的光束。

进一步地，所述镭雕机构还包括；防护机构，所述防护机构安装于所述镭雕头，且所述防护机构与所述镭雕头围合形成防护区，所述反射镜片安装于所述防护区，所述防护区位于所述图像检测装置与所述支撑台之间。

进一步地，所述设备还包括；操作台，所述支撑台和所述第一支撑柱分别设于所述操作台。

依据本实用新型的又一个方面，本实用新型还提供一种全方位镭雕系统，包括可供安装目标产品的治具，还包括所述的全方位镭雕设备，所述治具安装于所述镭雕区域。

有益效果：

本实用新型提供一种全方位镭雕设备，通过翻转机构中旋转台转动的安装于支撑台，旋转台设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品。镭雕机构中导引机构安装于第一支撑柱，第二支撑柱与导引机构连接，第二支撑柱以通过导引机构可以沿着所述第一支撑柱的长度延伸方向进行移动，镭雕头安装于第二支撑柱，并且镭雕头发射的激光束照射至所述镭雕区域。这样在对产品进行全方位的镭雕加工的过程中，镭雕头发射的激光束照射至位于镭雕区域的目标产品的正面上，可以对目标产品的正面进行镭雕，待对目标产品的正面镭雕完成后，旋转台的转动会带动目标产品翻转至背面朝向激光束的照射方向，此时镭雕头发射的激光束会度位于镭雕区域的目标产品的背面进行镭雕，继而能够较快的对目标产品的正面和反面进行镭雕，实现对产品的不同区域进行连续的镭雕加工，会降低镭雕加工的误差，提高了镭雕效率。从而达到了提高镭雕加工效率，降低镭雕加工误差的技术效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图一；

图2为本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图二；

图3为本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备中镭雕头和反射镜片的放大结构示意图；

图4为本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备中激光束和反射镜片的夹角示意图；

图5为本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备中翻转机构的结构示意图；

图6为本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备中镭雕头和防护机构的结构示意图；

图7为本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图三；

图8为本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图四。

附图中各标号的含义为：1-操作台；2-镭雕机构；3-翻转机构；4-第一支撑柱；5-第二支撑柱；6-镭雕头；7-激光束；8-反射镜片；9-支撑台；10-目标产品；11-伺服电机；12-图像检测装置；13-治具；14-防护机构；15-旋转台；16a—支撑座，16b—第一卡紧端，16c—第二卡紧端，17-导轨；18-滑块；19-旋钮组件；21-电源按钮；22-急停按钮；23-开关按钮；24-上升按钮；25-下降按钮；26-控制屏；27-设备箱；41-底座；91-底板；92-第一竖板；93-第二竖板；101-台面；111-转轴；121-检测头；122-支撑部件；131-中空槽；151-通槽；141-第一面板；142-第二面板；143-第三面板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围；其中本实施中所涉及的“和/或”关键词，表示和、或两种情况，换句话说，本实用新型实施例所提及的A和/或B，表示了A和B、A或B两种情况，描述了A与B所存在的三种状态，如A和/或B，表示：只包括A不包括B；只包括B不包括A；包括A与B。

应当理解，虽然术语“第一”，“第二”等在这里可以用来描述各种元件，部件，区域，层和/或部分，但是这些元件，部件，区域，层和/或部分不应当受到这些术语的限制。这些术语仅用于区分一个元件，部件，区域，层或区段与另一个元件，部件，区域，层或区段。因此，在不背离示例性实施例的教导的情况下，下面讨论的第一元件，部件，区域，层或部分可以被称作第二元件，部件，区域，层或部分。这里可以使用空间上相关的术语，例如“下面”，“上面”等，以便于描述一个元件或特征与另一个元件或特征的关系。可以理解，除了图中所示的方位之外，空间上相对的术语还包括使用或操作中的装置的不同方位。例如，如果图中的设备被翻转，那么被描述为“下面”的元件或特征将被定向为“上面”其它元件或特征。因此，示例性术语“下面”可以包括上面和下面的取向。该设备可以被定向(旋转90度或在其它定向上)，并且这里所使用的空间相关描述符被相应地解释。

同时，本实用新型实施例中，当组件被称为“固定于”另一个组件，它可以直接在另一个组件上或者也可以存在居中组件。当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。本实用新型实施例中所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明目的，并不是旨在限制本实用新型。

实施例一

请参见图1、图2、图3、图4、图5、图6、图7和图8，图1是本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图一，图2是本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图二，图3是本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备中镭雕头6和反射镜片8的放大结构示意图，图4是本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备中激光束7和反射镜片8的夹角示意图，图5是本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备中翻转机构3的结构示意图，图6是本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备中镭雕头6和防护机构14的结构示意图，图7是本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图三，图8是本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图四。本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备，包括翻转机构3和镭雕机构2，现分别对翻转机构3和镭雕机构2进行以下详细说明：

对于翻转机构3而言：翻转机构3包括支撑台9、旋转台15和伺服电机11，旋转台15转动的安装在支撑台9，在旋转台15上设置有用于可以对目标产品10的正反面进行镭雕加工的镭雕区域，目标产品10是指待镭雕加工的产品。伺服电机11安装在支撑台9上，并且伺服电机11与旋转台15连接。其中，所述支撑台9可以包括底板91，以及分别安装在底板91的两端的第一竖板92和第二竖板93，所述第一竖板92与所述底板91连接，伺服电机11与所述第一竖板92固定连接，通过第一竖板92支撑伺服电机11，并且所述伺服电机11的转轴111贯穿第一竖板92后可以与所述旋转台15连接。所述第二竖板93与所述底板91连接，所述旋转台15与所述第二竖板93转动连接。如旋转台15可以包括支撑座16a，以及分别安装在支撑座16a的两端的第一卡紧端16b和第二卡紧端16c，支撑座16a转动的安装在支撑台9的第一竖板92和第二竖板93之间，支撑座16a上设置有用于可以对目标产品10的正反面进行镭雕加工的通槽151，所述镭雕区域位于所述通槽151的内部，所述通槽151位于所述第一卡紧端16b和第二卡紧端16c之间。

具体而言，支撑台9包括底板91、第一竖板92和第二竖板93，第一竖板92与底板91相互垂直，第二竖板93与底板91相互垂直，第一竖板92和第二竖板93相互平行，并且第一竖板92和第二竖板93之间具有容纳旋转台15的空间。旋转台15的支撑座16a的一端与第二竖板93转动连接，支撑座16a的另一端与贯穿第一竖板92的伺服电机11的转轴111连接，伺服电机11的转轴111可以带动旋转台15的支撑座16a进行转动。通过伺服电机11可以控制旋转台15按设定的角度进行旋转，旋转台15的旋转会带动位于旋转台15上的治具13进行旋转，治具13的旋转会带动位于治具13上的目标产品10进行旋转，这样实现通过伺服电机11来对目标产品10的翻转角度进行精确控制。支撑座16a的通槽151的内部区域即为镭雕区域，镭雕头6发射的激光束7可以贯穿镭雕区域，在镭雕区域内具有容纳需要对目标产品10进行镭雕加工的空间。在支撑座16a的两端上分别安装有第一卡紧端16b和第二卡紧端16c，本领域技术人员可以理解的是在本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备中对第一卡紧端16b和第二卡紧端16c的具体结构不作限制，只需要实现通过第一卡紧端16b和第二卡紧端16c从治具13的两侧对治具13进行夹紧即可，如第一卡紧端16b和第二卡紧端16c均具有伸缩的结构，当需要在支撑座16a的通槽151上放置治具13时，可以通过压缩第一卡紧端16b和第二卡紧端16c，将治具13放入第一卡紧端16b和第二卡紧端16c之间，再通过第一卡紧端16b和第二卡紧端16c的伸长对治具13的两侧进行夹紧，来实现将治具13压紧在通槽151上，并且在治具13上可以设置有与通槽151相对齐的中空槽131。治具13可以包括正面和背面，放置在旋转台15中支撑座16a上的目标产品10会与中空槽131相互对齐，当需要对具有正面和背面的目标产品10进行镭雕时，可以从中空槽131的一侧对目标产品10的正面进行镭雕，从中空槽131的另一侧对目标产品10的反面进行镭雕。当下述图像检测装置12检测到目标产品10的其中一个面镭雕完成后，通过伺服电机11的转轴111可以带动旋转台15翻转180度，实现采用镭雕头6所发射的激光束7对目标产品10的另一个面进行镭雕。另外，目标产品10也可以是具有多个面或多个区域需要镭雕的产品，如当需要对目标产品10的四个面或四个区域进行镭雕时，可以将安装有目标产品10的治具13通过第一卡紧端16b和第二卡紧端16c来夹紧在旋转台15上，再将目标产品10的其中一个面或一个区域倾斜放置在旋转台15的通槽151中，当图像检测装置12检测到目标产品10的一个面或一个区域镭雕完成后，通过伺服电机11可以控制旋转台15按照设定的旋转角度旋转，对产品的另一个面或另一个区域进行镭雕，从而实现对产品的多个面或多个区域进行连续的镭雕加工。

对于镭雕机构2而言：镭雕机构2包括第一支撑柱4、导引机构、第二支撑柱5、镭雕头6、反射镜片8、图像检测装置12和防护机构14，所述导引机构安装于所述第一支撑柱4，所述第二支撑柱5与所述导引机构连接，第二支撑柱5通过所述导引机构可以沿着第一支撑柱4的长度延伸方向进行移动。所述镭雕头6安装在所述第二支撑柱5，并且镭雕头6发射的激光束7可以照射至上述镭雕区域。其中，所述导引机构可以包括安装在第一支撑柱4上的导轨17、与导轨17滑动连接的滑块18，所述导轨17可以沿着第一支撑柱4的长度延伸方向进行设置，所述滑块18与所述第二支撑柱5连接。所述反射镜片8至少包括反光面，所述镭雕头6发射的激光束7可以经过反光面反射至所述镭雕区域。所述反射镜片8还可以包括透光面，所述图像检测装置12可接收经过所述透光面透过的来自所述镭雕区域的光束，图像检测装置12可以采用图像传感器，图像检测装置12包括检测头121，检测头121设置在反射镜片8的上方，检测头121可以是CCD检测头121，CCD检测头121可以为CCD图像传感器，图像检测装置12接收来自所述镭雕区域的光束后可以对位于镭雕区域的目标产品10进行错雕和漏雕的检测。通过设置在支撑台9旁的支撑机构可以支撑图像检测装置12，如支撑机构可以包括固定在操作台1上的支撑部件122，以及与支撑部件122连接的支撑组件，支撑组件位于支撑部件122中远离操作台1的一端，支撑组件可以对图像检测装置12进行夹紧固定，支撑组件还可以与支撑部件122活动连接，便于对支撑组件在支撑部件122上所处的位置进行调节，来实现对图像检测装置12与操作台1之间的间距进行调节。防护机构14安装在镭雕头6，并且所述防护机构14与所述镭雕头6围合可以形成有防护区，防护区的内部可以容纳反射镜片8，反射镜片8安装在防护机构14上，反射镜片8位于所述防护区内，防护区位于所述图像检测装置12与所述支撑台9之间。

具体而言，第一支撑柱4可以垂直设置在下述操作台1上，第二支撑柱5设置在第一支撑柱4上，第二支撑柱5与第一支撑柱4相互垂直，第二支撑柱5与第一支撑柱4之间通过导引机构进行滑动连接，如将导引机构中两个相互平行的导轨17安装在第一支撑柱4上，在第一支撑柱4的内部还可以安装有丝杆，丝杆与嵌入至导轨17上的滑块18进行滑动连接，通过丝杆的转动可以带动滑块18沿着导轨17的长度延伸方向进行移动。第二支撑柱5固定设置在滑块18上后，第二支撑柱5也可以沿着第一支撑柱4进行向上或者向下的方向移动。在第二支撑柱5的一端上安装有镭雕头6，镭雕头6用于发射激光束7，通过第二支撑柱5的移动可以带动镭雕头6朝着向上或者向下的方向移动，实现对镭雕头6与目标产品10之间的距离进行调节。在激光束7的发射方向上还设置有反射镜片8，反射镜片8用于将激光束7反射到目标产品10上。在反射镜片8的上方设置有图像检测装置12，图像检测装置12用于检测目标产品10的镭雕状态。

需要注意的是，镭雕头6所发射的激光束7的方向可以为水平方向，或者镭雕头6发射的激光束7的方向为与水平方向具有夹角，该夹角能够使镭雕头6发射的激光束7通过反射镜片8反射到目标产品10上，并且该夹角能够使图像检测装置12透过反射镜片8检测到位于支撑台9上的目标产品10的镭雕状态。当镭雕头6发射激光束7的方向为水平方向时，反射镜片8与激光束7的夹角为45度。当镭雕头6发射的激光束7与水平方向的夹角为30度时，反射镜片8与激光束7的夹角为60度。通过在镭雕头6发射激光束7的方向上设置反射镜片8，能够将激光束7反射到目标产品10上，实现对目标产品10进行镭雕，同时在反射镜片8的正上方设置有图像检测装置12，能够对目标产品10进行漏雕和错雕的检测。当图像检测装置12检测到目标产品10的某一区域镭雕完成后，通过伺服电机11能够带动目标产品10翻转至需要镭雕的角度，使激光束7对目标产品10的另一区域进行镭雕，实现提高镭雕效率，并且提高目标产品10的合格率。反射镜片8可以采用单向透视镜，单相透视镜的一平面为反光面，另一平面为透光面，反光面与透光面相互对立，反光面可反射激光束7，反射激光束7至目标产品10后，会使激光束7与目标产品10的镭雕区域相垂直，实现对目标产品10进行镭雕加工。透光面可透过光束，可以通过透光面清晰地观察到反射镜片8下方的目标产品10的镭雕状态，图像检测装置12可以透过透光面，检测到位于支撑台9上的目标产品10是否漏雕和错雕，继而不需要通过人工对目标产品10进行检测，能够降低所耗费的人力，也会提高目标产品10的合格率。在镭雕头6的外围可以设置有防护机构14，防护机构14包括第一面板141、第二面板142和第三面板143，第一面板141和第二面板142相互对立设置，第三面板143正对镭雕头6设置，第一面板141、第二面板142和第三面板143合围防护区，反射镜片8设置在第一面板141和所述第二面板142之间。该防护机构14整体可以呈现为U型结构，镭雕头6发射的激光束7可以与第三面板143相互垂直。另外，在第一支撑柱4上还可以设置有旋钮组件19和驱动装置，旋钮组件19用于手动控制第二支撑柱5在向上或者向下的方向上进行移动，如旋钮组件19与丝杠连接，通过控制丝杠的旋转方向，来实现对第二支撑柱5的移动方向进行控制。

本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备还可以包括操作台1，所述操作台1被构造为可供支撑所述支撑台9和所述第一支撑柱4。另外，本实用新型实施例提供的一种全方位镭雕设备还可以包括控制屏26、控制按钮、工控主机和设备箱27。

具体而言，操作台1可以包括台面101和侧面，台面101上具有容纳镭雕机构2和翻转机构3的空间，通过台面101为支撑台9和第一支撑柱4提供支撑，围绕台面101的四周，并且与台面101相互垂直设置有侧面，侧面具有容纳安装控制按钮的空间。控制屏26和控制按钮均设置在操作台1上。或者，控制屏26设置在一个第一支撑柱4上，控制屏26用于显示目标产品10的实时位置和实时角度信息，或者控制屏26用于对目标产品10的位置和角度信息进行设置。控制按钮可以包括总电源按钮21、急停按钮22、激光器开关按钮23、上升按钮24和下降按钮25，激光器开关按钮23用于控制镭雕头6是否发射激光束7，上升按钮24用于控制第二支撑柱5的上升距离，下降按钮25用于控制第二支撑柱5的下降距离。操作台1设置在设备箱27上，工控主机设置在设备箱27的内部。工控主机用于接收图像检测装置12的检测信号并且可以发出控制信号来控制镭雕头6发射的激光束7的运行轨迹，工控主机还可以用于接收图像检测装置12的检测信号并发出控制信号控制伺服电机11的旋转。如当图像检测装置12检测到目标产品10漏雕或错雕时，工控主机可以接收到该检测信号，并且控制镭雕头6发射的激光束7的运行轨迹，对目标产品10重新进行镭雕。当图像检测装置12检测到目标产品10的某一区域已完成镭雕，工控主机接收到该检测信号后，可以控制伺服电机11按设定的角度进行旋转，来采用激光束7对目标产品10的另一区域进行镭雕。这样通过伺服电机11来带动旋转台15进行旋转，旋转台15会带动位于治具13中的目标产品10进行旋转，再通过图像检测装置12对目标产品10进行光学定位，能够一次性装夹目标产品10，实现对目标产品10的正反两个面进行镭雕；或者对具有多个面的目标产品10进行一次装夹，全方位的镭雕，能够节约镭雕机的台数，节省装夹的次数，有利于降低人力成本，以及降低周转物料和二次镭雕的时间成本，由于减少装夹次数，也能够有效地减少装夹误差。通过采用图像检测装置12对目标产品10进行光学定位，并进行错雕和漏雕检测，会进一步提高目标产品10的镭雕精度，以及减少出现错雕和漏雕等不良现象，有利于提高目标产品10的合格率。

本实用新型提供一种全方位镭雕设备，通过翻转机构3中旋转台15转动的安装于支撑台9，旋转台15设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品10。镭雕机构2中导引机构安装于第一支撑柱4，第二支撑柱5与导引机构连接，第二支撑柱5以通过导引机构可以沿着所述第一支撑柱4的长度延伸方向进行移动，镭雕头6安装于第二支撑柱5，并且镭雕头6发射的激光束7照射至所述镭雕区域。这样在对产品进行全方位的镭雕加工的过程中，镭雕头6发射的激光束7照射至位于镭雕区域的目标产品10的正面上，可以对目标产品10的正面进行镭雕，待对目标产品10的正面镭雕完成后，旋转台15的转动会带动目标产品10翻转至背面朝向激光束7的照射方向，此时镭雕头6发射的激光束7会度位于镭雕区域的目标产品10的背面进行镭雕，继而能够较快的对目标产品10的正面和反面进行镭雕，实现对产品的不同区域进行连续的镭雕加工，会降低镭雕加工的误差，提高了镭雕效率。从而达到了提高镭雕加工效率，降低镭雕加工误差的技术效果。

为了对本实用新型提供的一种全方位镭雕系统做详细说明，上述实施例一对一种全方位镭雕设备做了详细说明，基于同一实用新型构思，本申请还提供了一种全方位镭雕系统，详见实施例二。

实施例二

本实用新型实施例二提供一种全方位镭雕系统，包括可供安装目标产品10的治具13，还包括所述的全方位镭雕设备，所述治具13安装于所述镭雕区域。

本实用新型提供一种全方位镭雕系统，通过翻转机构3中旋转台15转动的安装于支撑台9，旋转台15设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品10。镭雕机构2中导引机构安装于第一支撑柱4，第二支撑柱5与导引机构连接，第二支撑柱5以通过导引机构可以沿着所述第一支撑柱4的长度延伸方向进行移动，镭雕头6安装于第二支撑柱5，并且镭雕头6发射的激光束7照射至所述镭雕区域。这样在对产品进行全方位的镭雕加工的过程中，镭雕头6发射的激光束7照射至位于镭雕区域的目标产品10的正面上，可以对目标产品10的正面进行镭雕，待对目标产品10的正面镭雕完成后，旋转台15的转动会带动目标产品10翻转至背面朝向激光束7的照射方向，此时镭雕头6发射的激光束7会度位于镭雕区域的目标产品10的背面进行镭雕，继而能够较快的对目标产品10的正面和反面进行镭雕，实现对产品的不同区域进行连续的镭雕加工，会降低镭雕加工的误差，提高了镭雕效率。从而达到了提高镭雕加工效率，降低镭雕加工误差的技术效果。

最后所应说明的是，以上具体实施方式仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照实例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的精神和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。

Claims (10)

1.一种全方位镭雕设备，其特征在于，所述设备包括：翻转机构和镭雕机构，所述翻转机构包括支撑台以及转动的安装于所述支撑台的旋转台，所述旋转台设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品；所述镭雕机构包括第一支撑柱、导引机构、第二支撑柱和镭雕头，所述导引机构安装于所述第一支撑柱；所述第二支撑柱与所述导引机构连接，以通过所述导引机构沿所述第一支撑柱的长度延伸方向移动；所述镭雕头安装于所述第二支撑柱，且所述镭雕头发射的激光束照射至所述镭雕区域。

2.根据权利要求1所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述翻转机构还包括：伺服电机，所述伺服电机安装于所述支撑台，且所述伺服电机与所述旋转台连接。

3.根据权利要求2所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述支撑台包括：底板、第一竖板和第二竖板，所述第一竖板和所述第二竖板分别与所述底板连接，所述伺服电机与所述第一竖板固定连接，所述旋转台与所述第二竖板转动连接，且所述伺服电机的转轴贯穿所述第一竖板与所述旋转台连接。

4.根据权利要求1所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述旋转台包括：支撑座、第一卡紧端和第二卡紧端，所述支撑座转动的安装于所述支撑台，所述支撑座设置有通槽，所述镭雕区域位于所述通槽内；所述第一卡紧端和所述第二卡紧端均安装于所述支撑座，所述通槽位于所述第一卡紧端和第二卡紧端之间。

5.根据权利要求1所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述导引机构包括：安装于所述第一支撑柱的导轨，以及与所述导轨滑动连接的滑块，所述导轨沿所述第一支撑柱的长度延伸方向设置，所述滑块与所述第二支撑柱连接。

6.根据权利要求1所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述镭雕机构包括还包括：反射镜片，所述反射镜片至少包括反光面，所述镭雕头发射的激光束经所述反光面反射至所述镭雕区域。

7.根据权利要求6所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述反射镜片还包括透光面；所述镭雕机构包括还包括图像检测装置，所述图像检测装置接收经所述透光面透过的来自所述镭雕区域的光束。

8.根据权利要求7所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述镭雕机构还包括；防护机构，所述防护机构安装于所述镭雕头，且所述防护机构与所述镭雕头围合形成防护区，所述反射镜片安装于所述防护区，所述防护区位于所述图像检测装置与所述支撑台之间。

9.根据权利要求1所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述设备还包括；操作台，所述支撑台和所述第一支撑柱分别设于所述操作台。

10.一种全方位镭雕系统，包括可供安装目标产品的治具，其特征在于，还包括如权利要求1至9任一项所述的全方位镭雕设备，所述治具安装于所述镭雕区域。

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