CN219161366U - 一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及水冷屏生产技术领域,具体涉及一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置。包括柜体,所述柜体内设置有污水箱、通过过滤装置与所述污水箱连通的净水箱以及设备室。所述污水箱连接有污水管,所述污水管上设置有调节回水备压阀和调节回水备压压力表。所述设备室内设置有流量泵、压力泵和控制系统,所述流量泵与所述净水箱连通,所述流量泵的出口端与流量表的一端连接;所述压力泵与所述净水箱连通,所述压力泵出口端与压力表的一端连接。本实用新型通过流量泵对水冷屏同时进行清洗和流量测量工作,当清洗完成后,又可以通过压力泵测量水冷屏所能承受的压力。三项工作连续进行,整个流程完全自动化,大大提高了水冷屏的生产速度。
Description
技术领域
本实用新型涉及水冷屏生产技术领域,具体涉及一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置。
背景技术
大阳能电池用单晶硅材料,单晶硅的生产成本成为大阳能电池能否具有竞争优势的重要因素。
目前,常在单晶炉中采用直拉法来生长单晶硅。在单晶拉制过程中,物体相变产生结晶潜热会破坏单晶炉坩埚内熔体与结晶面的理想平衡状态,这部分结晶潜热主要通过热辐射的方式传给水冷屏被水冷屏吸收带走,以达到理想的结晶状态。
目前行业使用的水冷屏为各部位同等厚度的钢材设计,一般包括内外两层壳体,并在内外两层壳体之间设置冷却介质流道;内层壳体吸收热辐射,并将热量传递给冷却介质,冷却介质将热量带出水冷屏,以便于在单晶炉内制造均匀的热场,进一步提高单晶棒的冷却速率。
目前,水冷屏一般采用焊接的方式进行组装,首先将冷却介质流道盘绕层叠焊接在内层壳体的外周侧,然后再焊接外层壳体完成密封。水冷屏在生产过程中因焊接等原因,其内部水道必然会残留许多焊接残渣。而由于水冷屏内部复杂的结构,目前没有很好的清理方式。
此外,水冷屏在出厂前也需要测试其能够承受的最大水压,目前也没有好用的测试设备。
实用新型内容
本实用新型提供了一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置,其目的在于提供一种一体化装置,同时具备清洗、测流量、测压三种功能。
为实现上述目的,本实用新型的技术方案为:
本实用新型提供了一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置,包括柜体,所述柜体内设置有污水箱、通过过滤装置与所述污水箱连通的净水箱以及设备室。
所述污水箱连接有污水管,所述污水管上设置有调节回水备压阀和调节回水备压压力表。
所述设备室内设置有流量泵、压力泵和控制系统,所述流量泵与所述净水箱连通,所述流量泵的出口端与流量表的一端连接。所述压力泵与所述净水箱连通,所述压力泵出口端与压力表的一端连接。所述流量表的另一端及所述压力表的另一端通过三通阀与净水管连接,所述净水管设置有压力变送器。
在一实施例中,所述柜体的底部端角附近分别设置有带有锁定结构的万向轮。
在一实施例中,所述污水箱的底部连接有污水箱排空阀。
在一实施例中,所述净水管通过阀门与高压气源连接,所述净水管上设置有进气排水阀。
在一实施例中,所述净水管上设置手阀。
在一实施例中,所述控制系统包括变频器、电闸、中控和控制台。
本实用新型所达到的有益效果为:
本实用新型通过流量泵对水冷屏同时进行清洗和流量测量工作,当清洗完成后,又可以通过压力泵测量水冷屏所能承受的压力。三项工作连续进行,整个流程完全自动化,方便、快捷、迅速,大大提高了水冷屏的生产速度。
此外,本实用新型还连接高压气源,在测压完成后,还可以通过压缩空气,快速吹干水冷屏内部,进一步提高水冷屏的生产速度。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1是本实用新型主视图。
图2是本实用新型的设备室内部结构示意图。
图中,1、污水箱;11、污水管;12、调节回水备压压力表;13、调节回水备压阀;14、污水箱排空阀;2、净水箱;21、流量泵;22、净水管;23、流量表;24、进气排水阀;25、压力变送器;3、设备室;31、压力泵;311、压力表;32、变频器;33、电闸;34、中控;4、控制台。
本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
需要说明,若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……),则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
另外,若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述,则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,若全文中出现的“和/或”的含义为,包括三个并列的方案,以“A和/或B”为例,包括A方案,或B方案,或A和B同时满足的方案。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本实用新型要求的保护范围之内。
如图1~2所示,本实用新型提供了一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置,包括柜体,所述柜体内设置有污水箱1、通过过滤装置与所述污水箱1连通的净水箱2以及设备室3。
所述污水箱1连接有污水管11,所述污水管11上设置有调节回水备压阀13和调节回水备压压力表12。其中,所述调节回水备压阀13是一种备压阀,又称背压阀,用于形成一定的压力,在管路或是设备容器压力不稳的状态下,背压阀能保持管路所需压力,是一种成熟可采购的零件。当测水冷屏流量时,水冷屏出水经过调节回水备压阀13时,始终有设定的阻力存在。所述调节回水备压阀13在此处的目地是模拟现场实际的回水管道压力,模拟进水与回水之间的压力差,确保试验环境与现场实际工作情况一致。
所述设备室3内设置有流量泵21、压力泵31和控制系统,所述流量泵21与所述净水箱2连通,所述流量泵21的出口端与流量表23的一端连接;所述压力泵31与所述净水箱2连通,所述压力泵31出口端与压力表311的一端连接;所述流量表23的另一端及所述压力表311的另一端通过三通阀与净水管22连接,所述净水管22设置有压力变送器25。
其中,所述压力变送器25是一种成熟可采购的器件,是工业实践中最为常用的一种传感器,它能将测压元件传感器感受到的气体、液体等物理压力参数转变成标准的电信号(如4~20mADC等),以供给指示报警仪、记录仪、调节器等二次仪表进行测量、指示和过程调节。所述压力变送器25与下述中控34连接。所述三通阀为电磁三通阀。
在本实用新型的实施例中,所述柜体的底部端角附近分别设置有带有锁定结构的万向轮。
在本实用新型的实施例中,所述柜体采用不锈钢材质,以防止生锈,减少维护成本。
在本实用新型的实施例中,所述过滤装置包括沉淀室和不锈钢滤网,整套过滤装置采用沉淀、不锈钢滤网隔绝处理的方式处理污水。
在本实用新型的实施例中,所述污水箱1的底部连接有污水箱排空阀14,用于使用完毕后排空污水箱1,方便对污水箱1进行清理。
在本实用新型的实施例中,所述净水管22通过阀门与高压气源连接,所述净水管22上设置有进气排水阀24,所述进气排水阀24用于在吹净水冷屏时,排空所述净水管22内的残余清水。
在本实用新型的实施例中,所述净水管22上设置手阀,所述手阀设置在所述压力变送器25与所述压力表311之间。
在本实用新型的实施例中,所述控制系统包括变频器32、电闸33、中控34和控制台4。所述电闸33可与外接电源连接,为整套系统的总开关,用于为所述中控34、控制台4、流量泵21、压力泵31及各种传感器、电磁阀等提供二次电源。所述中控34为本实用新型的控制中心,可以通过所述变频器32控制所述流量泵21及压力泵31的输出功率,也可以接收并控制各种传感器、电磁阀,所述中控34用于操作流量泵21、压力泵31启动停止,流量、压力值显示。所述控制台4为本实用新型的控制端,包括设置在所述柜体上的支架、设置在所述支架上的触摸屏或非触摸屏以及若干控制按钮,工作人员通过所述控制台4设置本实用新型的各项参数。
其中,所述变频器32(Variable-frequency Drive,VFD)是应用变频技术与微电子技术,通过改变电机工作电源频率方式来控制交流电动机的电力控制设备,为成熟可采购的设备。所述中控34包括PLC控制器、单片机或其他可编程芯片。
在本实用新型的实施例中,所述中控34通过网线或4G网络等有线或无线设备与上位机连接,以接受上位机控制并上传测试信息。
清洗水冷屏并测量水冷屏允许通过的最大流量时,将净水管22端部与水冷屏的水道入口连接,将污水管11端部与水冷屏的水道出口连接。开启流量泵21,向水冷屏内部泵入清水,冲洗水冷屏内部的焊接残渣。同时,通过流量表23测量并记录流量信息。
测量水冷屏所能承受的压力时,流量泵21关闭,压力泵31开启,对水冷屏内的水持续加压,一般加压至4Mpa左右,并持续15~20min左右,如果为发生泄漏,则表示合格。
吹干水冷屏内部残余水分时,压力泵31关闭,开启进气排水阀24及高压气源,水冷屏内部的残余水分在压缩气体的吹拂下被快速吹干。
以上所述仅为本实用新型的可选实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是在本实用新型的发明构思下,利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (6)
1.一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置,其特征在于:包括柜体,所述柜体内设置有污水箱(1)、通过过滤装置与所述污水箱(1)连通的净水箱(2)以及设备室(3);
所述污水箱(1)连接有污水管(11),所述污水管(11)上设置有调节回水备压阀(13)和调节回水备压压力表(12);
所述设备室(3)内设置有流量泵(21)、压力泵(31)和控制系统,所述流量泵(21)与所述净水箱(2)连通,所述流量泵(21)的出口端与流量表(23)的一端连接;所述压力泵(31)与所述净水箱(2)连通,所述压力泵(31)出口端与压力表(311)的一端连接;所述流量表(23)的另一端及所述压力表(311)的另一端通过三通阀与净水管(22)连接,所述净水管(22)设置有压力变送器(25)。
2.根据权利要求1所述的一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置,其特征在于:所述柜体的底部端角附近分别设置有带有锁定结构的万向轮。
3.根据权利要求1所述的一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置,其特征在于:所述污水箱(1)的底部连接有污水箱排空阀(14)。
4.根据权利要求1所述的一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置,其特征在于:所述净水管(22)通过阀门与高压气源连接,所述净水管(22)上设置有进气排水阀(24)。
5.根据权利要求1所述的一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置,其特征在于:所述净水管(22)上设置手阀。
6.根据权利要求1所述的一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置,其特征在于:所述控制系统包括变频器(32)、电闸(33)、中控(34)和控制台(4)。
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CN202222863099.0U CN219161366U (zh) | 2022-10-28 | 2022-10-28 | 一种应用于水冷屏的清洗、测流量及测压装置 |
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