CN219129218U - 扰流构件、反应器和二叔丁基过氧化物的反应装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及化学反应装置技术领域，公开了一种扰流构件、反应器和二叔丁基过氧化物的反应装置，其中，所述扰流构件包括第一扰流构件，所述第一扰流构件包括环形支撑体、盘和扰流带；所述盘支撑于所述环形支撑体内，并且所述盘上设置有供流体通过的多个盘孔，所述扰流带支撑于所述环形支撑体内，并且所述扰流带与所述盘间隔设置，所述扰流带上设置有供流体通过的扰流带孔。该扰流构件能够对所流经的流体进行扰流，从而使得流体能够保持湍流状态，并可使得含有两种以上的物料的流体混合的更加均匀，进而能够保证流体中的物料之间的稳定且快速的反应。

Description

扰流构件、反应器和二叔丁基过氧化物的反应装置

技术领域

本实用新型涉及化学反应装置技术领域，具体地涉及一种扰流构件、反应器和二叔丁基过氧化物的反应装置。

背景技术

微反应器是带有微结构(通道、筛孔及沟槽等)的反应设备，在其中可形成微米尺度分散的单相或多相体系来强化反应过程。其具有特征尺度小、传递效率高、近似平推流的优势，可实现对流体以及反应条件的精准控制。微反应器特有的特征小尺度在提高传质传热的同时也带来了系统压降大、反应通量小、物料停留时间短的问题，严重限制了其应用推广。

管式反应器是一种呈管状、长径比很大的连续操作反应器，属于平推流反应器。这种反应器可以很长，如丙烯二聚的反应器管长以公里计。管式反应器返混小，因而容积效率(单位容积生产能力)高，对要求转化率较高或有串联副反应的场合尤为适用。

为了使得通过管式反应器内的物料混合均匀，通常会在管式反应器内设置内构件。结合微反应器和管式反应器，实现整个反应装置内物料微米尺寸上的分散强化反应过程，同时实现大通量的工业化生产具有十分重要的意义。而传统的内构件的扰流效果较差，尤其是对于含有两种以上的物料的流体的扰流效果不明显，影响物料之间的反应。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了提供一种扰流构件，该扰流构件能够对所流经的流体进行扰流，从而使得流体能够保持湍流状态，并可使得含有两种以上的物料的流体混合的更加均匀，进而能够保证流体中的物料之间的稳定且快速的反应。

为了实现上述目的，本实用新型一方面提供一种扰流构件，所述扰流构件包括第一扰流构件，所述第一扰流构件包括：

环形支撑体；

盘，所述盘支撑于所述环形支撑体内，并且所述盘上设置有供流体通过的多个盘孔；以及

扰流带，所述扰流带支撑于所述环形支撑体内，并且所述扰流带与所述盘间隔设置，所述扰流带上设置有供流体通过的扰流带孔。

上述技术方案，通过在环形支撑体内设置盘以及与盘间隔对置的扰流带，同时在盘和扰流带上均设置有供流体通过的孔，从而能够对流经第一扰流构件的流体进行扰动，进而当流体中混合有两种以上物料时，可使得物料混合的更加均匀而利于物料之间的快速且稳定的反应。

优选地，所述盘上设置有凸起罩体，所述凸起罩体朝向远离所述扰流带的方向凸起，所述凸起罩体上设置有供流体通过的罩体孔。

优选地，所述盘上设置有多个所述凸起罩体，多个所述凸起罩体均匀分布于所述盘。

优选地，所述凸起罩体上设置有多个所述罩体孔。

优选地，所述扰流带沿垂直于所述流体的流动方向的纵向方向延伸。

优选地，所述扰流带朝向背离所述盘的方向凸起以形成弧形状。

优选地，所述第一扰流构件包括并排设置的多个所述扰流带。

优选地，所述扰流带上设置有多个所述扰流带孔，多个所述扰流带孔沿所述扰流带的长度方向排布。

优选地，所述扰流构件包括设置于靠近所述第一扰流构件的端部处的第二扰流构件；

所述第二扰流构件包括扰流盘，所述扰流盘设置有供流体通过的扰流盘孔，所述扰流盘成角度设置于所述流体的流动方向，并且所述扰流盘具有迎向所述流体的迎流面和背离所述迎流面的背流面，所述第二扰流构件还包括设置于所述背流面处的引流片，所述引流片倾斜设置于所述流体的流动方向，所述引流片能够引导所流经的流体的流动方向。

优选地，所述扰流盘设置为朝向所述流体的流动方向凸出以形成弧形状。

优选地，所述扰流盘上设置有多个所述扰流盘孔。

优选地，所述引流片包括多个第一引流片和多个第二引流片，多个所述第一引流片和多个所述第二引流片在沿所述扰流盘的横向方向上交替分布，其中：所述第一引流片的靠近所述扰流盘的起始端位于所述第二引流片的靠近所述扰流盘的起始端的上方，所述第一引流片从所述第一引流片的起始端朝下倾斜，所述第二引流片从所述第二引流片的起始端朝上倾斜。

优选地，所述第一引流片上设置有多个第一引流孔，多个所述第一引流孔沿所述第一引流片的长度方向分布，所述第二引流片上设置有多个第二引流孔，多个所述第二引流孔沿所述第二引流片的长度方向分布。

优选地，所述第一引流片朝上凸起以形成第一弧形状，所述第二引流片朝下凸起以形成第二弧形状。

本实用新型第二方面提供一种反应器，所述反应器包括管本体和设置于所述管本体内的多个扰流构件，多个所述扰流构件沿所述管本体的轴向分布，所述扰流构件为本实用新型所提供的扰流构件。

本实用新型第三方面提供一种二叔丁基过氧化物的反应装置，所述二叔丁基过氧化物的反应装置中设置有微反应器和设置于所述微反应器的下游且连通于所述微反应器的反应器，其中，所述反应器为本实用新型所提供的反应器。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本实用新型的实施方式，并与说明书一起用于解释本实用新型的原理。

为了更清楚地说明本实用新型实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型优选实施方式的扰流构件中的第一扰流构件的立体结构示意图；

图2是图1所示的第一扰流构件的另一角度的立体结构示意图；

图3是本实用新型优选实施方式的扰流构件中的第二扰流构件的立体结构示意图；

图4是图3所示的第二扰流构件的另一角度的立体结构示意图；

图5是本实用新型优选实施方式的二叔丁基过氧化物的反应装置的整体结构示意图。

附图标记说明

20-第一扰流构件；22-环形支撑体；24-盘；240-盘孔；26-扰流带；260-扰流带孔；28-凸起罩体；280-罩体孔；10-第二扰流构件；12-扰流盘；12a-迎流面；12b-背流面；120-扰流盘孔；14-引流片；140-第一引流片；142-第二引流片；110-第一引流孔；112-第二引流孔；80-二叔丁基过氧化物的反应装置；82-进料单元；820-进料罐；822-输送泵；84-反应单元；840-微反应器；86-后处理单元；88-换热器。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本实用新型的上述目的、特征和优点，下面将对本实用新型的方案进行进一步描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。

下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，但本实用新型还可以采用其他不同于在此描述的方式来实施；显然，说明书中的实施方式只是本实用新型的一部分实施方式，而不是全部的实施方式。

实施例一

本实用新型的其中一个实施方式提供的扰流构件包括第一扰流构件20，结合图1和图2中所示，第一扰流构件20包括环形支撑体22、盘24和扰流带26。

如图1所示，盘24支撑于环形支撑体22内，需要指出的是，盘24可垂设于流体的流动方向，且盘24优选为圆盘，圆盘的截面积与环形支撑体22的空腔的截面积相同，以使得盘24的边部能够与环形支撑体22的内壁连接，且避免盘24的边部与环形支撑体22的内壁之间出现缝隙。并且，盘24上设置有供流体通过的多个盘孔240，其中，多个盘孔240可在盘24上均匀分布，也可采用其他的方式进行分布。

具体地，如图1所示，在其中一个实施方式中，盘24的靠近其边部的位置设有凸块，多个凸块沿着盘24的周向方向间隔设置，且相邻的两个凸块之间的距离相同，以使得多个凸块在盘24的边部均匀排布。每个凸块上分别贯穿设有一个盘孔240。盘24的靠近其中部的位置贯穿设有多个盘孔240，且多个盘孔240均匀排布。

如图2所示，扰流带26支撑于环形支撑体22内，可以明白的是，扰流带26的两端可分别支撑于环形支撑体22内的彼此相对的两个位置处，扰流带26与盘24间隔设置，优选地，扰流带26与盘24沿着环形支撑体22的轴向方向间隔设置，且扰流带26与盘24之间的距离可根据使用需求进行设计。扰流带26上设置有供流体通过的扰流带孔260。

通过在环形支撑体22内设置盘24以及与盘24间隔对置的扰流带26，同时在盘24和扰流带26上均设置有供流体通过的孔，从而能够对流经第一扰流构件20的流体进行扰动，进而当流体中混合有两种以上物料时，可使得物料混合的更加均匀而利于物料之间的反应。

其中，扰流构件尤其适用于反应器，在将扰流构件设置于反应器内时，盘24可设置为位于迎向流体的一侧，而扰流带26可设置为背离流体的一侧，这样，在流体流动的方向上，盘24可迎向流体，而扰流带26可背离流体，以此使得流体依次通过盘24上的盘孔240和扰流带26上的扰流带孔260，以确保扰流效果。

实施例二

为了能够对流体进行更好地扰流作用，本实用新型的另一个实施方式提供的扰流构件还包括凸起罩体28。如图1所示，凸起罩体28设置在盘24上，凸起罩体28可朝向远离扰流带26的方向凸起，可在凸起罩体28上设置供流体通过的罩体孔280。

优选地，可在盘24上设置多个凸起罩体28，多个凸起罩体28可均匀分布于盘24。应当理解为，多个凸起罩体28可采用任意方式分布于盘24，在多个分布方式中，优选采用均匀分布于盘24的设置方式。

如图1所示，在其中一个实施方式中，盘24的靠近其边部的位置设有多个凸起罩体28，多个凸起罩体28沿着盘24的周向方向间隔设置，且相邻的两个凸起罩体28之间的距离相同，以使得多个凸起罩体28在盘24的边部均匀排布。其余的多个凸起罩体28靠近盘24的中间位置处均匀分布，盘孔240可穿插在多个凸起罩体28之间。

另外，可在凸起罩体28上设置多个罩体孔280，多个罩体孔280可均匀分布于凸起罩体28，且每个凸起罩体28上的多个罩体孔280的直径可相同也可不同，可见，多个罩体孔280的尺寸和排布方式不受限制，可根据实际需求进行设计。

如图1所示，在其中一个实施方式中，每个凸起罩体28上设有两种直径的罩体孔280，且每种相同直径的罩体孔280的数量为三个，直径较大的三个罩体孔280均布于凸起罩体28的凸起位置，且相邻的两个直径较大的罩体孔280之间布置一个直径较小的罩体孔280，多个罩体孔280占据的空间大于凸起罩体28的面积的一半，以使得流经凸起罩体28的流体的流速不同，以增加扰流效果。

实施例三

该实施例三对于实施例二中的扰流带26做进一步限定。具体地，如图2中所示，扰流带26沿垂直于流体的流动方向的纵向方向延伸，从图2所述的方位看，扰流带26可沿图2所示的上下方向延伸。当然，应当理解的是，扰流带26沿垂直于流体的流动方向的纵向方向延伸的设置方式为优选实施例，并不代表扰流带26仅沿着垂直于流体的流动方向的纵向方向延伸。

此外，扰流带26可设置为朝向背离盘24的方向凸起以形成弧形状，通过将扰流带26设置为呈弧形状，可进一步提高对流体的扰动效果。其中，扰流带26的凸起程度可根据实际需求进行设定。

优选地，可设置多个扰流带26，多个扰流带26可并排设置，其中，多个扰流带26可沿垂直于流体的流动方向的横向方向间隔排布。

如图2所示，在其中一个实施方式中，扰流带26为5条，且相邻两条扰流带26之间的间隙相同，以使得5条扰流带均匀分布。处于中部的扰流带26的中线的延伸方向与环形支撑体22的径向方向的其中一条中线的延伸方向相同，且该条扰流带26的两侧分别设有两条扰流带26。并且，为了使得扰流带26能够安装在环形支撑体22上，沿着远离处于中部的扰流带26的方向，扰流带26的长度逐渐减小，即处于边部的扰流带26的长度应小于处于中部的扰流带26的长度。该种设计方式的扰流带26可以确保扰流效果，同时降低材料成本。

进一步优化地，可在扰流带26上设置多个扰流带孔260，多个扰流带孔260可沿扰流带26的长度方向依次排布，且扰流带孔260优选设置成条形孔，且条形孔的宽度应小于扰流带26的宽度的二分之一，优选地，条形孔的宽度小于扰流带26的宽度的三分之一，避免影响扰流带26的结构强度，进而避免影响扰流构件的结构强度。

具体地，如图2所示，在其中一个实施方式中，每个扰流带26上沿着扰流带26的延伸间隔设置有三个扰流带孔260，且相邻两个扰流带孔260之间的间隙相同，以使得三个扰流带孔260均匀排布在扰流带26上。该种设计方式的扰流带26能够在确保扰流效果的同时，避免降低扰流带26的强度，进而能够确保扰流带26的使用寿命，进而增加整个扰流构件的使用寿命。

实施例四

本实用新型的另一个实施方式提供的扰流构件还包括第二扰流构件10，第二扰流构件10设置于靠近第一扰流构件20的端部处，其中，在流体的流动方向上，第二扰流构件10可选择性地设置于第一扰流构件20的上游或是下游位置。

结合图3和图4中所示，第二扰流构件10可包括扰流盘12，扰流盘12设置有供流体通过的扰流盘孔120，扰流盘12成角度设置于流体的流动方向。例如扰流盘12可大致垂设于流体的流动方向，扰流盘12具有迎向流体的迎流面12a和背离迎流面12a的背流面12b，第二扰流构件10还包括设置于背流面12b处的引流片14，引流片14倾斜设置于流体的流动方向，引流片14能够引导所流经的流体的流动方向。

通过在第二扰流构件10中设置扰流盘12以及在扰流盘12的背流面12b设置引流片14，从而能够对流经第二扰流构件10的流体进行扰动，即先利用扰流盘12对流体进行切割，之后，再利用引流片14对流体进行引流，由此可使得所流经的流体保持湍流状态，进而当流体中混合有两种以上物料时，可进一步使得物料混合的更加均匀而利于物料之间的反应。

如图4中所示，扰流盘12可设置为朝向流体的流动方向凸出以形成弧形状，由此，可使得扰流盘12对流体进行更好的扰动作用。其中，扰流盘12的凸出程度可根据实际的使用场景进行设计，以确保能够对流体进行更好的扰动。

为了对流体进行更好的扰流，如图3中所示，可在扰流盘12上设置多个扰流盘孔120，其中，多个扰流盘孔120可均匀设置于扰流盘12。

在本实用新型的其中一个实施方式中，当在扰流盘12上设置有多个扰流盘孔120时，多个扰流盘孔120可包括多组扰流盘孔，其中：每组扰流盘孔的形状互不相同，以设置三组扰流盘孔为例，第一组扰流盘孔中的扰流盘孔120可呈圆形状，第二组扰流盘孔中的扰流盘孔120可呈三角形状，第三组扰流盘孔中的扰流盘孔120可呈长条状。

具体地，如图3所示，扰流盘12以三角形状的扰流盘孔120为主扰流盘孔，即将三角形状的扰流盘孔120均布在扰流盘12上。圆形状的扰流盘孔120呈工字型分布，且处于中间的部分圆形状的扰流盘孔120穿设在三角形状的扰流盘孔120之间，并使得处于圆形状的扰流盘孔120两侧的三角形状的扰流盘孔120对称分布，且三角形状的扰流盘孔120的顶角朝向圆形状的扰流盘孔120。处于边部的部分圆形状的扰流盘孔120位于三角形状的扰流盘孔120的外侧。呈长条状的扰流盘孔120处于圆形状的扰流盘孔120的外侧，且长条状的扰流盘孔120的两端分别设有一个圆形状的扰流盘孔120。

值得注意的是，多个扰流盘孔120的排布方式和布置的数量应不影响扰流盘12的结构强度，进而增加扰流盘12的使用寿命，进而增加第二扰流构件10的使用寿命。

在本实用新型的另一个实施方式中，当在扰流盘12上设置有多个扰流盘孔120时，多个扰流盘孔120可包括多组扰流盘孔，每组扰流盘孔可包括多个扰流盘孔120，在每组扰流盘孔中，扰流盘孔120的尺寸可互不相同，由此，可对流体进行更好的切割作用，从而可进一步提高扰流效果，此外，也可适应扰流盘12的形状，使得扰流盘孔120的分布更加合理。

比如，处于边部的扰流盘孔120的尺寸小于处于中部的扰流盘孔120的尺寸，以此适应扰流盘12的形状。在此基础上，也可在处于中部的较大的扰流盘孔120中，穿插直径较小的扰流盘孔120，使得各尺寸的扰流盘孔120穿插布置，以此确保扰流效果。

同理，多个扰流盘孔120的排布方式和布置的数量应不影响扰流盘12的结构强度，进而增加扰流盘12的使用寿命，进而增加第二扰流构件10的使用寿命。

实施例五

该实施例五对于实施例四中的引流片14做进一步限定。具体地，结合图3和图4中所示，引流片14可包括多个第一引流片140和多个第二引流片142，多个第一引流片140和多个第二引流片142在沿扰流盘12的横向方向上可交替分布。

可以理解的是，扰流盘12的横向方向为大致垂直于流体的流动方向的水平方向，其中：第一引流片140的靠近扰流盘12的起始端可位于第二引流片142的靠近扰流盘12的起始端的上方，第一引流片140从第一引流片140的起始端可朝下倾斜，第二引流片142从第二引流片142的起始端可朝上倾斜。其中，相邻的两个第一引流片140之间的间隙可供第二引流片142插入，同理，相邻的两个第二引流片142之间的间隙可供第一引流片140插入。在第一引流片140和第二引流片142的共同作用下，可对流体进行更好的引流，从而更好的扰动流体。

为了进一步对流体进行更好的引流，可在第一引流片140上设置多个第一引流孔110，多个第一引流孔110可沿第一引流片140的长度方向分布。具体地，第一引流孔110优选设置成条形孔，且条形孔的宽度应小于第一引流片140的宽度的二分之一，优选地，条形孔的宽度小于第一引流片140的宽度的三分之一。

该种设计方式的第一引流片140能够在确保扰流效果的同时，避免降低第一引流片140的自身强度，进而能够确保第一引流片140自身的的使用寿命，进而增加整个第二扰流构件10的使用寿命。

另外，可在第二引流片142上设置多个第二引流孔112，多个第二引流孔112可沿第二引流片142的长度方向分布，由此可进一步更好的引导流体的流动。具体地，第二引流孔112优选设置成条形孔，且条形孔的宽度应小于第二引流片142的宽度的二分之一，优选地，条形孔的宽度小于第二引流片142的宽度的三分之一。

该种设计方式的第二引流片142能够在确保扰流效果的同时，避免降低第二引流片142的自身强度，进而能够确保第二引流片142自身的的使用寿命，进而增加整个第二扰流构件10的使用寿命。

结合图3和图4所示，第一引流片140可朝上凸起以形成第一弧形状，且第一引流片140的凸起程度可根据实际使用需求进行设计。这样，呈弧形状的第一引流片140可对流体进行更好的引流作用，进而进一步提高对流体的扰动作用，使得流体维持更稳定的维持湍流状态。

此外，第二引流片142可朝下凸起以形成第二弧形状，且第二引流片142的凸起程度可根据实际使用需求进行设计。同样的，呈弧形状的第二引流片142可对流体进行更好的引流作用进而进一步提高对流体的扰动作用，使得流体具备更稳定的湍流状态。

优选地，第一引流片140的凸起程度与第二引流片142的凸起程度相同，以确保流体的稳定。

本实用新型还提供了一种反应器，反应器包括管本体和设置于管本体内的多个扰流构件，多个扰流构件沿管本体的轴向分布，扰流构件为本实用新型所提供的扰流构件。即该扰流构件包括本实用新型的上述扰流构件的全部技术特征。

可以理解的是，当同时设置有第一扰流构件20和第二扰流构件10时，在流体的流动方向上，多个第一扰流构件20和多个第二扰流构件10可交替分布。

通过在反应器中设置本实用新型所提供的扰流构件，可使得流经反应器的流体更好的保持湍流状态进而使得流体中的物料混合的更加均匀，由此可促进物料之间的稳定反应。另外，反应器可使得所流经的流体增加通量并降低压降。

相邻的扰流构件之间的间距可设定为管本体的长度的5％-50％，这样，可在管本体内合理设置扰流构件，不仅能够对流体进行有效的扰流作用，而且不至于在管本体内设置过多的扰流构件，有效控制了成本。

同理，当同时设置有第一扰流构件20和第二扰流构件10时，在流体的流动方向上，相邻的第一扰流构件20和第二扰流构件10之间的间距也可设定为管本体的长度的5％-50％，以此使得第一扰流构件20和第二扰流构件10的分布更加合理。

另外，可在管本体的外部套设外管，并使得外管和管本体之间形成有间隙，间隙可设置为能够供与流经管本体内的流体进行换热的换热介质通过。

此外，可设置彼此相互串联的多个管本体，每个管本体内可设置有沿相应的管本体的轴向分布的多个扰流构件。其中，管本体的内径可为1-20cm，优选地，管本体的内径可为1-10cm；此外，管本体的长度可为0.3-20m，优选地，管本体的长度可为0.5-10m。

本实用新型还提供了一种二叔丁基过氧化物的反应装置，二叔丁基过氧化物的反应装置80包括进料单元82，进料单元82设置为能够提供反应物料。

二叔丁基过氧化物的反应装置80还包括反应单元84，反应单元84设置于进料单元82的下游，反应单元84包括能够连通于进料单元82的微反应器840和设置于微反应器840的下游且连通于微反应器840的反应器。可以理解的是，在反应物料的流动方向上，反应器可设置于微反应器840的下游，其中，反应器为本实用新型所提供的反应器，即该反应器包括本实用新型的上述反应器的全部技术特征。

通过在二叔丁基过氧化物的反应装置80中设置本实用新型所提供的反应器，从而能够增加用于生成二叔丁基过氧化物的反应物料的通量，降低压降，并使得反应物料保持湍流状态，由此，反应物料混合均匀进而能够快速且稳定地反应。

如图5中所示，进料单元82可包括彼此并联设置的多个进料罐820，其中，每个进料罐820均可与微反应器840流体连通。可以理解的是，进料罐820的个数可与反应物料的种类数相对应。以制备二叔丁基过氧化物为例，可设置三个进料罐820，三个进料罐820可分别用于容纳硫酸、双氧水和叔丁醇。其中，进料罐820的设置方式，以及进料罐820的进料方式均为常规设计，因此，在此未对进料罐820的具体结构，以及进料罐820与微反应器840的连接方式做过多的描述。

为了更好的输送反应物料，可在进料罐820和微反应器840之间的连通管线上设置输送泵822。相应的，可设置分别与相应的进料罐820相对应的输送泵822。例如，可设置三个输送泵822以分别用于输送硫酸、双氧水和叔丁醇。其中，输送泵822为用于提供动力的泵结构，其为常规技术，因此，在此对于输送泵822的结构和使用方式未做过多的描述。

在反应单元84中，可设置彼此相互串联的多个微反应器840和多个反应器，多个微反应器840和多个反应器在沿反应物料的流动方向上可交替分布，通过设置彼此交替分布的多个微反应器840和多个反应器，可进一步增加通量以及进一步提高反应速率。

此外，在沿反应物料的流动方向上，如图5中所示，可在反应单元84的下游设置后处理单元86，其中，后处理单元86可设置为根据实际需求对反应生成物如二叔丁基过氧化物进行后续处理，例如可对反应生成物如二叔丁基过氧化物进行静置分层处理，其中，静置分层步骤可分离出水相和有机相，其中，有机相经中和、洗涤、干燥步骤得到产物二叔丁基过氧化物，另外，回收水相中的废酸进行再利用。

可以理解的是，后处理单元86可包括在物料的流动方向上依次设置的静置分层装置、中和装置、洗涤装置和干燥装置。由于静置分层装置、中和装置、洗涤装置和干燥装置均为常规技术，且其并非本实用新型的保护点，因此，在此对于静置分层装置、中和装置、洗涤装置和干燥装置的结构和工作原理未做过多的描述。

如图5中所示，可在反应单元84和后处理单元86之间设置能够与含有反应产物的物料进行热交换的换热器88。其中，换热器88为常规部件，因此，在此未对换热器88的结构和工作原理做过多的描述。

需要说明的是，在本文中，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上所述仅是本实用新型的具体实施方式，使本领域技术人员能够理解或实现本实用新型。对这些实施方式的多种修改对本领域的技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施方式中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所述的这些实施方式，而是要符合与本文所实用新型的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (16)

1.一种扰流构件，其特征在于，所述扰流构件包括第一扰流构件(20)，所述第一扰流构件(20)包括：

环形支撑体(22)；

盘(24)，所述盘(24)支撑于所述环形支撑体(22)内，并且所述盘(24)上设置有供流体通过的多个盘孔(240)；以及

扰流带(26)，所述扰流带(26)支撑于所述环形支撑体(22)内，并且所述扰流带(26)与所述盘(24)间隔设置，所述扰流带(26)上设置有供流体通过的扰流带孔(260)。

2.根据权利要求1所述的扰流构件，其特征在于，所述盘(24)上设置有凸起罩体(28)，所述凸起罩体(28)朝向远离所述扰流带(26)的方向凸起，所述凸起罩体(28)上设置有供流体通过的罩体孔(280)。

3.根据权利要求2所述的扰流构件，其特征在于，所述盘(24)上设置有多个所述凸起罩体(28)，多个所述凸起罩体(28)均匀分布于所述盘(24)。

4.根据权利要求3所述的扰流构件，其特征在于，所述凸起罩体(28)上设置有多个所述罩体孔(280)。

5.根据权利要求1所述的扰流构件，其特征在于，所述扰流带(26)沿垂直于所述流体的流动方向的纵向方向延伸。

6.根据权利要求1所述的扰流构件，其特征在于，所述扰流带(26)朝向背离所述盘(24)的方向凸起以形成弧形状。

7.根据权利要求1所述的扰流构件，其特征在于，所述第一扰流构件(20)包括并排设置的多个所述扰流带(26)。

8.根据权利要求1所述的扰流构件，其特征在于，所述扰流带(26)上设置有多个所述扰流带孔(260)，多个所述扰流带孔(260)沿所述扰流带(26)的长度方向排布。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的扰流构件，其特征在于，所述扰流构件包括设置于靠近所述第一扰流构件(20)的端部处的第二扰流构件(10)；

所述第二扰流构件(10)包括扰流盘(12)，所述扰流盘(12)设置有供流体通过的扰流盘孔(120)，所述扰流盘(12)成角度设置于所述流体的流动方向，并且所述扰流盘(12)具有迎向所述流体的迎流面(12a)和背离所述迎流面(12a)的背流面(12b)，所述第二扰流构件(10)还包括设置于所述背流面(12b)处的引流片(14)，所述引流片(14)倾斜设置于所述流体的流动方向，所述引流片(14)能够引导所流经的流体的流动方向。

10.根据权利要求9所述的扰流构件，其特征在于，所述扰流盘(12)设置为朝向所述流体的流动方向凸出以形成弧形状。

11.根据权利要求9所述的扰流构件，其特征在于，所述扰流盘(12)上设置有多个所述扰流盘孔(120)。

12.根据权利要求9所述的扰流构件，其特征在于，所述引流片(14)包括多个第一引流片(140)和多个第二引流片(142)，多个所述第一引流片(140)和多个所述第二引流片(142)在沿所述扰流盘(12)的横向方向上交替分布，其中：所述第一引流片(140)的靠近所述扰流盘(12)的起始端位于所述第二引流片(142)的靠近所述扰流盘(12)的起始端的上方，所述第一引流片(140)从所述第一引流片(140)的起始端朝下倾斜，所述第二引流片(142)从所述第二引流片(142)的起始端朝上倾斜。

13.根据权利要求12所述的扰流构件，其特征在于，所述第一引流片(140)上设置有多个第一引流孔(110)，多个所述第一引流孔(110)沿所述第一引流片(140)的长度方向分布，所述第二引流片(142)上设置有多个第二引流孔(112)，多个所述第二引流孔(112)沿所述第二引流片(142)的长度方向分布。

14.根据权利要求12所述的扰流构件，其特征在于，所述第一引流片(140)朝上凸起以形成第一弧形状，所述第二引流片(142)朝下凸起以形成第二弧形状。

15.一种反应器，其特征在于，所述反应器包括管本体和设置于所述管本体内的多个扰流构件，多个所述扰流构件沿所述管本体的轴向分布，所述扰流构件为权利要求1-14中任一项所述的扰流构件。

16.一种二叔丁基过氧化物的反应装置，其特征在于，所述二叔丁基过氧化物的反应装置(80)中设置有微反应器(840)和设置于所述微反应器(840)的下游且连通于所述微反应器(840)的反应器，其中，所述反应器为权利要求15所述的反应器。

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