CN219099370U - 一种阴极导电机构及电镀装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了电镀设备技术领域中的一种阴极导电机构及电镀装置，阴极导电机构包括：位于薄膜走膜方向左右两侧的两个阴极导电带、位于两个阴极导电带下方的皮带，皮带的表面设有多个均匀分布的对薄膜进行导电的导电杆，导电杆的长度方向与薄膜的走膜方向垂直，且导电杆的长度大于或等于薄膜的宽度，导电杆的两端均设有导电支耳，运动到皮带上表面的导电支耳与对应的阴极导电带的下表面接触。解决了现有的电镀设备在薄膜宽度方向上镀层不均匀的问题，其使得薄膜在宽度方向上受到均匀的阴极电流，进而使得在薄膜宽度方向上的镀层均匀。

Description

一种阴极导电机构及电镀装置

技术领域

本实用新型涉及电镀设备技术领域，具体地说，是涉及一种阴极导电机构及电镀装置。

背景技术

电镀就是利用电解原理在金属表面上镀上一薄层金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性及增进美观等作用。随着现代工业技术的发展，薄膜基材表面镀膜需求越来越大，广泛应用于高性能汽车贴膜、等离子电视平板显示、触摸屏、太阳能电池、柔性印刷线路板(FPC)、覆晶薄膜(COF)等领域。

现有的电镀设备中采用边缘压紧导电的方式，如专利公开号为CN216947262U的一种阴极边缘导电机构，通过阴极导电带对薄膜宽度方向的两边缘进行导电，然而，采用边缘压紧导电的方式，会导致在薄膜宽度方向上镀层不均匀，具体为中间的镀层较薄，而两边的镀层较厚，影响产品品质。

实用新型内容

为了解决现有的电镀设备在薄膜宽度方向上镀层不均匀的问题，本实用新型提供一种阴极导电机构及电镀装置。

本实用新型技术方案如下所述：

一种阴极导电机构，包括：位于薄膜走膜方向左右两侧的两个阴极导电带、位于两个所述阴极导电带下方的皮带，所述皮带的表面设有多个均匀分布的对所述薄膜进行导电的导电杆，所述导电杆的长度方向与所述薄膜的走膜方向垂直，且所述导电杆的长度大于或等于所述薄膜的宽度，所述导电杆的两端均设有导电支耳，运动到所述皮带上表面的导电支耳与对应的所述阴极导电带的下表面接触。

进一步的，所述皮带的运动速度与所述薄膜的传输速度相同。

进一步的，所述阴极导电带为环状。

一种电镀装置，包括上述的阴极导电机构。

进一步的，包括放卷机构、导向辊、电镀槽、位于所述电镀槽内的电镀阳极板、收卷机构，所述阴极导电机构的走膜路径穿过所述电镀槽，所述放卷机构所供给的薄膜依次经过所述导向辊、所述阴极导电机构、所述电镀槽后，收卷于所述收卷机构。

更进一步的，所述电镀阳极为钛篮。

进一步的，还包括用于为所述电镀槽补充阳离子的阳离子补充机构。

更进一步的，所述阳离子补充机构为溶铜系统。

进一步的，所述电镀槽内部设有多个压杆，所述压杆设置在所述薄膜走膜路径的上方。

进一步的，还包括位于所述电镀槽下方的解镀槽，所述皮带穿过所述解镀槽，所述解镀槽内部设有解镀阳极导电带和解镀阴极板，所述解镀阳极导电带与位于所述皮带下表面的导电支耳的顶部接触。

根据上述方案的本实用新型，其有益效果在于：

上述阴极导电机构，通过设置皮带，皮带的表面设有均匀分布的导电杆，导电杆的长度与在薄膜的走膜方向垂直，且导电杆的长度大于或等于薄膜的宽度，导电杆两端设有导电支耳，进行电镀的时候，两个阴极导电带通过导电支耳和导电杆将电流传到薄膜上，并与电镀槽中的电镀阳极板形成导电闭环体，通过电流把镀液中金属离子均匀地覆盖在薄膜上，由于导电杆沿着薄膜宽度方向布置，使得薄膜在宽度方向上受到均匀的阴极电流，进而使得在薄膜宽度方向上的镀层均匀。

附图说明

图1为本实用新型一个实施例的结构示意图；

图2为图1中A部分的放大图；

图3为阴极导电机构的左视图；

图4为本实用新型另一个实施例的结构示意图。

在图中，1、放卷机构；2、导向辊；3、电镀槽；31、阴极导电机构；311、阴极导电带；312、皮带；313、导电杆；314、导电支耳；32、电镀阳极板；33、压杆；4、收卷机构；5、阳离子补充机构；6、解镀槽；61、解镀阳极导电带；62、解镀阴极板；7、薄膜。

具体实施方式

下面结合附图以及实施方式对本实用新型进行进一步的描述：

如图1至图4所示，本实用新型提供一种电镀设备，包括放卷机构1、导向辊2、电镀槽3、阴极导电机构31、电镀阳极板32、收卷机构4，阴极导电机构31的走膜路径穿过电镀槽3，电镀阳极板32设置在电镀槽内。待电镀的薄膜7通过放卷机构1放卷，经过导向辊2调整方向后进入电镀槽3内，然后通过阴极导电机构31和电镀阳极板32对其进行电镀，电镀完成之后的薄膜7经过收卷机构4进行卷曲收集。

如图1所示，在本实施例中，薄膜7经过放卷机构1放卷后，经过导向辊2导向，且薄膜7与皮带312上表面平行，使得薄膜7水平进入电镀槽3内进行电镀。如图4所示，在另一个可选的实施例中，薄膜7经过放卷机构1放卷后，经过导向辊2导向，使得薄膜7与电镀槽3顶部呈小于90°进入电镀槽3内进行电镀，且电镀槽3内设置有导向辊2，加大薄膜7电镀时的张力，使得薄膜7在电镀时与皮带312上表面平行。

如图1至图3所示，在本实施例中，阴极导电机构31包括位于薄膜走膜方向左右两侧的两个阴极导电带311、位于阴极导电带311下方的皮带312，皮带312的表面设有多个均匀分布的导电杆313，导电杆313的长度方向与薄膜7的走膜方向垂直，且导电杆313的长度大于或者等于薄膜7的宽度。导电杆313的两端均设有导电支耳314，且导电支耳314与导电杆313垂直设置，运动到皮带312上表面的导电支耳314的顶部分别与对应的阴极导电带311的下表面接触。此外，阴极导电带311为环状，使其与薄膜7在电镀槽3中一起同步运动，并且阴极导电带311、皮带312的运动速度均与薄膜7的传输速度相同，阴极导电带311逆时针走带，皮带312顺时针走带，即阴极导电带311的下表面、皮带312的上表面与薄膜7在电镀槽3中的走膜方向相同。皮带312由四个皮带轮带动，驱动装置驱动皮带轮转动，进而带动皮带312运动，实现导电杆313与薄膜7接触进行电镀。

如图1所示，在本实施例中，电镀阳极板32设置在薄膜7下方，且电镀阳极与薄膜7平行布置，电镀阳极板32可以设计为钛篮。当然，在实际设计时，可以根据实际的需要来设计电镀阳极321的材质。此外，该电镀设备还包括阳离子补充机构5，用于为电镀槽补充阳离子，阳离子补充机构5可以设计为溶铜系统。当然，在实际设计时，可以根据实际的需要来设计阳离子补充机构5。

在本实施例中，进行电镀时，薄膜7与皮带312一同从电镀槽3的左侧进入到电镀槽3内，且薄膜7的下表面与导电杆313顶部接触，阴极导电机构31和电镀阳极板32分别接通电镀电源的负极和正极，阴极导电带311通过导电支耳314将电流传到导电杆313上，导电杆313对薄膜7导电，将阴极电流传递到电镀液中，并与电镀槽3中的电镀阳极板32形成导电闭环体，通过电流把镀液中金属离子均匀地覆盖在薄膜7上，导电杆313沿着薄膜7宽度方向布置，使得薄膜7宽度方向上受到的阴极电流更加均匀，进而在薄膜7宽度方向的镀层均匀。电镀完成之后，薄膜7与皮带312同步从电镀槽3的右侧穿出到电镀槽3，皮带继续环形运动，电镀好的薄膜7经过导向辊2导向，然后经过收卷机构4卷曲收集在一起，即完成薄膜7的电镀。

在本实施例中，电镀槽3的前端设置有进液管，电镀槽3后端设置有出液管，进液管不断的输进镀液和出液管不断排出的镀液，使得电镀槽的进液量和出液量保持平衡，即使得镀液中金属离子的浓度保持不变。

在本实施例中，导电杆313的底部为平面，有利于与皮带312接触，使得导电效果好。同时，导电支耳314设计为金属材质的，且导电支耳314的外侧壁包裹有绝缘层，当导电支耳314进入电镀槽3内参与电镀时，支耳也会被镀上金属膜，镀上的金属膜会消耗部分电流，造成到达导电杆313的电流较小，影响薄膜7的电镀。因此，导电支耳314的外侧壁包裹绝缘层，可以避免导电支耳314的外侧壁被镀上金属，减少电流的消耗，也保证到达导电杆313的电流强达到电镀的要求。

如图1至图3所示，在本实施例中，电镀槽3内部设有多个压杆33，压杆33设置在薄膜7走膜路径的上方。由于薄膜7水平走膜，薄膜7进行电镀时，在电镀槽3前侧和后侧的导向辊2对薄膜7进行限位张紧，并且电镀槽3内不停地在进液和出液，因此，电镀槽3中的薄膜7容易上扬和下陷，从而影响镀液中金属离子均匀覆盖在薄膜7上，进而导致镀膜层不均匀。薄膜7从导电杆313和压杆33之间通过，导电杆313和压杆33可以对薄膜7进行限位，减少薄膜7的上扬和下陷，使得薄膜7保持水平，保证薄膜7的镀膜层均匀。

如图1所示，在本实施例中，电镀槽3下方设有解镀槽6，薄膜7电镀完成后，皮带312从电镀槽3穿出后，穿过解镀槽6进行解镀。由于导电杆313和导电支耳314随着薄膜7一同进入电镀槽3中，在电镀过程中，在电流的作用下，导电杆313表面也会镀有点状金属颗粒物，颗粒物在电流作用下不断长大，容易刺穿薄膜7的膜面。因此，在解镀槽6内部设置解镀阳极导电带61和解镀阴极板62，解镀阳极导电带61的上表面与位于皮带312下表面的导电支耳314的顶部接触。此外，解镀阳极导电带61为环状，且解镀阳极导电带61与皮带312的运动速度相同，运动方向相反。进行解镀时，解镀阳极导电带61和解镀阴极板62分别接通解镀电源的正极和负极，使得导电杆313和导电支耳314上镀有的金属离子转移到电镀阴极板上，从而达到解镀的作用，防止导电杆313镀有点状颗粒物刺破薄膜7。

在本实施例中，解镀槽6的前端设置有进液管，解镀槽6的后端设置有出液管，进液管不断的输进镀液和出液管不断排出的镀液，使得解镀槽6的进液量和出液量保持平衡，即可以使得镀液中金属离子的浓度保持不变。

应当理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，而所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。

上面结合附图对本实用新型专利进行了示例性的描述，显然本实用新型专利的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型专利的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进将本实用新型专利的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围内。

Claims (10)

1.一种阴极导电机构，其特征在于，包括：位于薄膜走膜方向左右两侧的两个阴极导电带、位于两个所述阴极导电带下方的皮带，所述皮带的表面设有多个均匀分布的对所述薄膜进行导电的导电杆，所述导电杆的长度方向与所述薄膜的走膜方向垂直，且所述导电杆的长度大于或等于所述薄膜的宽度，所述导电杆的两端均设有导电支耳，运动到所述皮带上表面的导电支耳与对应的所述阴极导电带的下表面接触。

2.根据权利要求1所述的阴极导电机构，其特征在于，所述皮带的运动速度与所述薄膜的传输速度相同。

3.根据权利要求1所述的阴极导电机构，其特征在于，所述阴极导电带为环状。

4.一种电镀装置，其特征在于，包括有如权利要求1-3任一项所述的阴极导电机构。

5.根据权利要求4所述的电镀装置，其特征在于，包括放卷机构、导向辊、电镀槽、位于所述电镀槽内的电镀阳极板、收卷机构，所述阴极导电机构的走膜路径穿过所述电镀槽，所述放卷机构所供给的薄膜依次经过所述导向辊、所述阴极导电机构、所述电镀槽后，收卷于所述收卷机构。

6.根据权利要求5所述的电镀装置，其特征在于，所述电镀阳极为钛篮。

7.根据权利要求5所述的电镀装置，其特征在于，还包括用于为所述电镀槽补充阳离子的阳离子补充机构。

8.根据权利要求7所述的电镀装置，其特征在于，所述阳离子补充机构为溶铜系统。

9.根据权利要求5所述的电镀装置，其特征在于，所述电镀槽内部设有多个压杆，所述压杆设置在所述薄膜走膜路径的上方。

10.根据权利要求5所述的电镀装置，其特征在于，还包括位于所述电镀槽下方的解镀槽，所述皮带穿过所述解镀槽，所述解镀槽内部设有解镀阳极导电带和解镀阴极板，所述解镀阳极导电带与位于所述皮带下表面的导电支耳的顶部接触。

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