CN219024685U - 用于处理工件的处理设备 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及一种用于处理工件的处理设备，其尤其是用于执行对车辆车身的流体处理，该处理设备构造简单并且能够实现高效的工件处理，本实用新型提出了，处理设备包括：包围处理室的罩壳；用于输送工件的输送装置；用于将流体施用到工件上的施用装置。

Description

用于处理工件的处理设备
技术领域
本实用新型涉及用于处理工件的处理设备的领域，具体为一种用于处理工件的处理设备。
背景技术
例如，为了在执行涂漆过程之前对车辆车身进行去脂或净化或预处理，可以规定，将车辆车身引入浸浴池中。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种处理设备，该处理设备构造简单并且能够实现高效的工件处理。
根据本实用新型，该目的通过下述处理设备来实现。
用于处理工件的处理设备尤其是用于执行对车辆车身的流体处理的处理设备，尤其是作为用于制造车辆的制造工艺的组成部分。
处理设备优选包括包围处理室的罩壳。
此外，处理设备优选包括输送装置，借助该输送装置，至少一个工件可被引入到处理室中和/或可被引导穿过处理室和/或可从处理室中被带出来。
有利的可以是，处理设备包括用于将流体施用到至少一个工件上的施用装置。
流体尤其是处理液。尤其地，用于执行处理的流体以液态形式存在。
流体例如是被加热的流体，尤其是具有60℃或更高、例如80℃或更高的温度的流体。
对此替选地或补充地可以规定，流体是水，或者是或者包括含表面活性剂的和/或碱性的水性溶液。这种流体尤其适用于工件的喷射去脂和/或浸渍去脂。
此外，流体例如可以是新鲜水或去离子水或者包括新鲜水和/或去离子水。这种流体尤其适用于工件的喷射冲洗和/或浸渍冲洗。
此外，流体例如可以是或包括磷酸盐基或硅烷基的化学涂覆介质。这种流体尤其适用于执行涂覆过程。
可以规定，施用装置包括用于将流体施用到至少一个工件上的一个或多个施用单元。
一个或多个施用单元优选地分别包括一个或多个喷射喷嘴和/或喷洒喷嘴或者构造为一个或多个喷射喷嘴和/或喷洒喷嘴。
在本实用新型的一个设计方案中可以规定，处理室是在给定的时刻容纳或者能容纳仅一个工件的单室。
对此替选地可以规定，处理室是在给定的时刻能够同时容纳多个工件的室。
有利的可以是，工件能借助输送装置沿引入方向被引入到处理室中并且能反向于引入方向从处理室中被带出来。
对此替选地可以规定，至少一个工件能借助输送装置沿引入方向被引入到处理室中并且能沿相同的方向、尤其在处理室的对置的端部处从处理室中被带出来。
可以规定，处理室在多侧配设有施用装置的施用单元。
例如可以规定，工件和/或处理室的容纳工件的部分在多侧、尤其是在两侧、三侧或四侧由施用装置的一个或多个施用单元包围。
例如可以规定，施用装置包括多个布置在彼此对置的侧壁处的施用单元，尤其是喷射喷嘴和/或喷洒喷嘴。
借助施用装置，尤其可以同时将流体施用到工件的多个侧，尤其是工件的多个彼此对置的和/或彼此背离的侧。
有利的可以是，工件可以在处理室中移动、尤其是线性位移，并且施用单元优选静止地、即尤其不可枢转地和/或不可位移地布置，其中工件优选地可以借助输送装置或移动装置移动。由此，工件可以可选地相对于施用装置的施用单元的相对移动。
有利的可以是，工件可以在移动方向上以多于两个相邻的施用单元的间距的一半往复移动至少一次，从而通过工件相对于施用单元的相对移动来均匀地和/或完全地向工件施加流体。
在此，有利的可以是，工件相对于施用单元的相对移动可以借助至少一个启动器、例如布置在处理室内的接近传感器被控制和/或被调节，其中至少一个启动器有利地具有根据DIN EN 60529的保护等级IP69k。
替选地或补充地可以规定，工件相对于施用单元的相对移动借助至少一个增量编码器或在时间上、尤其是在预设移动过程的情况下被控制和/或被调节。
此外，替选地或补充地可以规定，工件相对于施用单元的相对移动借助至少一个启动器被控制和/或被调节，该启动器布置在处理室之外并且检测和/或监控从处理室中被引导出的杆装置的移动。
有利的可以是，处理室在工件的移动方向上比工件本身长，尤其是比两个相邻的施用单元的间距的一半长至少两倍，从而可以实现工件相对于施用装置的施用单元的往复移动，而工件不接触处理室。
此外，有利的可以是，相对移动的加速度是可变的或可调整的。尤其有利的可以是，工件的相对移动的加速度为至少约0.1m/s2，优选为至少约0.25m/s2，和/或为最多约5m/s2，优选为最多约2m/s2。由此，工件优选地在相对移动的相应方向上适度地加速，使得有利地避免输送装置的驱动辊打滑。
可以规定，处理室包括用于部分地或完全地封闭处理室的进入开口的封闭装置，通过该进入开口能够将至少一个工件引入到处理室中和/或通过进入开口能够将至少一个工件从处理室中带出来。
封闭装置例如构造为卷帘门、滑动门或升降门。
可以规定，封闭装置是用于封闭处理室和/或用于避免流体喷出的喷射防护装置。这种喷射防护装置优选地并非相对于在处理室中上升的流体位是抗压的。
对此替选地可以规定，封闭装置是抗压的封闭装置、尤其是闸门，借助闸门针对处理室内的流体位上升也能够流体密封地封闭处理室的进入开口。
可以规定，输送装置是周期间歇式输送装置。
至少一个工件为了执行处理优选在空间上是稳固的，尤其是固定的。至少一个工件在执行处理期间尤其借助输送装置和/或除了输送装置之外设置的固定装置在空间上是稳固的、尤其是固定的。
有利的可以是，处理设备包括供给罐，该供给罐尤其布置在处理室之上。优选地，流体能够从供给罐被供给至施用装置。流体能够借助施用装置优选被施用到至少一个工件上。
优选地，通过将供给罐布置在处理室之上，可以省去用于驱动流体的泵。
在这种情况下，流体尤其仅基于重力能够从供给罐被供给至施用装置并且能够被施用到至少一个工件上。
作为供给罐的替选方案或补充方案尤其可以规定，处理设备包括导出罐。导出罐尤其布置在处理室之下。施用到至少一个工件上的流体优选能够从处理室被引导到导出罐中，尤其是仅基于重力能够流出到导出罐中。为此，泵优选并非必要。
有利的可以是，处理设备包括用于驱动流体的泵，尤其是用于将流体从导出罐供给回到供给罐中的泵。在此，在将导出罐与供给罐连接的管路中可以设置整备装置、尤其是过滤装置或其他用于净化流体的净化装置。由此可以将在处理过程中从工件清除的污物从流体中分离出来，以便由此仅提供未被污染的流体或至少最佳地整备和/或清洁过的流体以处理工件。
作为流体净化的替选方案或补充方案，可以对流体进行调温或其他整备以准备后续的处理过程。
有利的可以是，施用装置包括至少一个施用单元，该施用单元构造为至少一个施用喷枪。
至少一个施用单元、尤其是至少一个施用喷枪优选能够被引入到至少一个工件的内部空间中或者在工件的处理状态下伸入到内部空间中地布置和/或构造。
借助至少一个施用单元、尤其借助至少一个施用喷枪，优选地能够将流体施用到至少一个工件的朝向至少一个工件的内部空间的表面上。
有利的可以是，施用喷枪和/或工件是可移动的，尤其是可线性位移的，以便能够借助施用喷枪给工件的内部空间中的所有区域施加流体。
有利的可以是，借助一个或多个施用单元能够给至少一个工件的背离至少一个工件的内部空间的外表面施加流体，其中优选能够同时地和/或在时间上错开地和/或在时间上依次地借助至少一个另外的施用单元给至少一个工件的朝向至少一个工件的内部空间的表面施加流体。
有利的可以是，罩壳是可至少部分地漫灌的，尤其直至罩壳和/或处理室的最大空间高度和/或工件的最大高度的至少约40％、优选至少约60％的高度。
在此，术语“可漫灌的”尤其可以理解为，液体能够按照如下方式被供给，即该液体在罩壳内积聚并且因此液位上升。罩壳的侧壁和/或一个或多个封闭装置在此优选地液体密封地构成并且承受由于填充过程产生的液体压力。
作为一个或多个施用装置的替选方案或补充方案，可以设置用于漫灌罩壳的漫灌装置。
尤其可以规定，借助一个或多个施用装置在漫灌过程期间和/或在进行的漫灌进程之后、尤其在排空罩壳时能够将流体施用到至少一个工件上，例如用于从工件冲刷污物。
此外可以规定，工件能够部分地通过漫灌罩壳并且部分地通过借助施用装置施用流体而被施加流体，以便执行处理过程。在此，尤其是构造为车辆车身的工件的门槛区域和/或底部区域可以通过漫灌被施加流体。由此，尤其是门槛和/或底部区域内的通过喷洒和/或喷射难以接近或可能难以接近的空腔可以被施加流体。尤其是，例如构造为车辆车身的工件的一个或多个盖罩区域、A柱、B柱、C柱和/或车顶区域可以与此并行地优选借助施用装置被喷洒和/或喷射流体，以便执行处理过程。
处理优选是净化，尤其是去脂。
此外可以规定，处理是或包括化学的和/或物理的表面处理。
也可以规定，处理是涂覆。
此外还可以设有一种用于处理工件的，尤其是用于执行对车辆车身的流体处理的方法。
用于处理工件的方法优选地包括将至少一个工件引入到处理室中和/或将至少一个工件输送穿过处理室。此外，该方法优选包括借助施用装置将流体施用到至少一个工件上。
该方法优选具有一个或多个结合处理设备描述的特征和/或优点。
此外，根据本实用新型的处理设备优选包括该方法的一个或多个特征。
有利的可以是，至少一个工件至少在其外表面处至少近似均匀地和/或同时地被施加流体。
对此替选地或补充地可以规定，至少一个工件至少在其内表面处至少近似均匀地和/或至少近似同时地被施加流体。
优选地，对至少一个工件的施加不仅在其外表面处而且在其内表面处至少近似均匀地和/或至少近似同时地进行。
流体优选大面积地、尤其在工件的整个表面的至少约50％、优选至少约80％、尤其至少约90％的面积上被施用，尤其至少近似同时地被施用。
优选地，流体按照如下方式均匀地被施用到至少一个工件的表面上，使得具有小于约30％波动、优选小于约20％波动的流体压力和/或流体量和/或流体体积在表面的每个被施加流体的部位处是相同的。
有利的可以是，在用于至少部分地漫灌处理室的漫灌过程期间和/或在进行漫灌之后的排空过程中将流体施用到至少一个工件上。
为了优化工件处理还可以规定，至少一个工件在第一处理室中通过喷洒和/或喷射被施加流体，并且随后至少一个工件在与第一处理室不同的第二处理室中通过漫灌第二处理室被施加相同的流体和/或其他流体。
对此替选地可以规定，工件在同一个处理室中不仅通过喷洒和/或喷射而且还通过漫灌被施加一种或多种流体。
尤其是为了优化处理步骤可以规定，在用于执行工件处理的漫灌过程期间在处理室的被漫灌的部分中产生流动。由此至少一个工件可以优化地被流过，以便优化处理，例如以便简化地溶解污物。此外，由此优选地可以驱出气泡，以便能够完全润湿空腔和内部空间。
流动例如可以通过漫灌喷嘴产生。对此替选地或补充地，可以设置有用于在处理室中产生流动的泵。
此外，作为产生流动的替选方案或补充方案，可以设置有搅拌器和/或喷嘴器件、例如一个或多个旋转喷嘴，以便对流入和/或穿流至少一个工件进行优化。
尤其是当设有通过喷射和/或喷洒流体进行的漫灌过程以及施用过程时，可以规定，在执行漫灌过程、尤其用于工件处理的漫灌过程之后，将与用于漫灌的流体不同的流体用于喷洗和/或冲刷至少一个工件。由此尤其可以在从处理室中放出流体之后立即或者甚至在此期间在至少一个工件的从流体中伸出的部分中中止处理过程、例如化学表面处理过程。
此外，通过将流体喷射和/或喷洒到至少一个工件上来冲刷至少一个工件可以用于将脏粒和/或泡沫或在放出用于漫灌的流体时附着在至少一个工件处的其他污物从至少一个工件去除。
在处理过程中使用的流体尤其可以在其整备、尤其过滤和/或调温之后用于在另一工件处执行相同的处理过程。尤其当在多个处理过程之后污物累积在流体中时，相反地可以规定，流体在执行一个处理过程之后被用于执行另一处理过程、尤其另一类型的处理过程。在此，尤其地，流体可以选择性地被导出到不同的导出罐中，以便尤其是基于流体的相应污染程度提供给不同的处理过程。
尤其为了再冲洗外表面或其他表面可以规定，使用为此整备的流体、例如经受纳滤或超滤的流体。尤其地，高纯的滤液被用于喷射工艺和/或喷洒工艺，而浓缩物(Konzentrat)又被供给至其余流体、尤其是用于执行漫灌过程的其余流体。尤其地，再冲洗工艺由此可以优选地利用高纯的流体执行，以实现优化的冲洗效果，其中同时优选地，流体的整体组成尤其是在滤液和浓缩物在导出罐中重新混合之后保持不变。
根据本实用新型的另一方面可以规定，处理包括去脂过程和/或冲洗过程和/或涂覆过程。
借助施用装置，流体优选地能够以一个或多个随时间变化的喷洒图形或喷射图形被施用到工件上。
喷洒图形或喷射图形尤其是在工件的表面上的由流体射流的几何形状得出的图案或图形。
施用装置优选地包括一个或多个旋转的或能旋转的施用单元，借助施用单元能在工件上产生旋转的喷洒图形或喷射图形。
旋转的喷洒图形或喷射图形尤其通过喷洒射流或喷射射流的冲击部位的时间上的变化得出，喷洒射流或喷射射流借助一个或多个施用单元被输出到工件上。与时间无关地，在此优选地得出平均均匀地被施加的区域，尤其是至少近似旋转对称的整体喷洒图形或整体喷射图形。
在给定的时刻，借助旋转的或能旋转的施用单元优选地产生局部变化的喷洒图形或喷射图形，该喷洒图或喷射图只通过旋转在时间上平均地发展成均匀的整体喷洒图形或整体喷射图形。
可以规定，施用装置具有相互关联的和/或同步的多个施用单元。在此，一个或多个施用单元优选以如下方式相互关联和/或同步，使得由施用单元施用到工件上的喷洒射流或喷射射流在任意时刻总是冲击到工件的彼此不同的表面区域上。
例如可以规定，相邻的施用单元和/或喷洒射流和/或喷射射流构造成反向地旋转。
对此替选地或补充地可以规定，多个相邻的施用单元和/或喷洒射流和/或喷射射流构造成同向旋转。
借助施用装置的施用单元中的多个施用单元优选能够在工件上产生彼此重叠的整体喷洒图形或整体喷射图形。尤其地，借助多个施用单元能够给工件至少近似均匀地施加流体。
然而，在给定的时刻，喷洒射流或喷射射流优选地总是对准工件的不同的部位。尤其地，由此优选地防止用来自不同施用单元的多个喷洒射流或喷射射流对一个区域同时施加。
施用装置优选包括多个施用单元，所述多个施用单元能够共同地借助施用装置的用于将流体供给至施用单元的分配器装置移动、尤其是旋转。
分配器装置例如可以是分配管和/或喷洒臂。优选地，分配器装置是旋转件，该旋转件包括相对于旋转轴线以与旋转轴线不同的间距布置的多个施用单元。在此，旋转轴线尤其基本上垂直于旋转件的纵轴线。旋转件例如可以借助在施用装置内部的、尤其在分配器装置内部的传动装置和/或借助涡轮在使用流体作为驱动的情况下旋转地被驱动。对此替选地或补充地，可以通过施用单元的出口的适合的倾斜姿态通过反冲引起旋转件的旋转的驱动。
有利的可以是，至少一个旋转件的旋转移动能够借助一个或多个传感器、尤其是磁感应传感器来监控、控制和/或调节。
有利的可以是，施用装置包括多个施用单元，施用单元分别具有一个或多个分配器装置，尤其是根据上述实施方式之一的分配器装置。分配器装置尤其布置在不同的高度上和/或以彼此平行的旋转轴线布置和/或沿着旋转轴线彼此错开地布置，尤其以便能实现相应的分配器装置的自由移动并且同时能实现要由相应的施用单元施加流体的区域的重叠，尤其用于确保重叠的整体喷洒图形或整体喷射图形。
有利的可以是，在用于将流体施用到至少一个工件上的施用过程期间，至少一个工件能够借助输送装置移动、尤其是线性位移。
在此，例如可以设置沿一个方向的线性位移并且紧接着沿相反方向的线性位移，或者也可以仅设置沿一个方向的唯一的线性位移，以便借助施用装置均匀地给至少一个工件施加流体。
有利的可以是，流体借助施用装置不仅可以被施用到至少一个工件的外表面上、尤其是外可见面上，而且可以被施用到至少一个工件的内表面上、尤其是内部空间的表面上。
有利的可以是，施用装置包括多个施用单元，该施用单元以规则的和/或网格状的和/或矩阵状的图案布置。
尤其可以规定，在处理室、尤其是处理室的罩壳的彼此对置的侧壁处分别布置有多个施用单元，该施用单元尤其以规则的和/或网格状的和/或矩阵状的图案布置。
网格状的或矩阵状的图案尤其理解为下述图案，在该图案中设置有多列地或多行地或以其他方式在图案中依次布置的元件、尤其是施用单元。尤其地，设置有多个布置在水平和竖直行或列中的施用单元。
有利的可以是，一个或多个施用单元尤其相对于工件的高度方向布置在至少一个工件的中间区域之外，尤其仅布置在至少一个工件的上部区域和/或下部区域中。
由此可以使处理室的宽度最小化。
施用装置、尤其是施用装置的施用单元基本上门式地和/或笼式地和/或至少在三侧包围容纳至少一个工件的处理室或处理室的包围至少一个工件的部分。
有利的可以是，一个或多个施用单元、尤其是以规则的和/或网格状的和/或矩阵状的图案布置的多个施用单元在施用期间是流体可动的(fluidbewegbar)、尤其是可线性移动的。
在此，移动尤其可以是沿至少近似竖直的方向的、沿至少近似水平的方向或与此倾斜的移动。
在本实用新型的一个设计方案中可以规定，一个或多个施用单元可转动地或可枢转地构造。
尤其地，施用单元的竖直或水平布置的列或行可以一致地可转动地或可枢转地构造，例如用于实现从中心位置起至少约±20°、优选至少约±30°的变化的转动取向。
在施用流体期间，优选使至少一个工件移动、尤其是线性位移。对此替选地或补充地，优选在施用流体期间使施用装置的一个或多个施用单元移动、尤其是转动或枢转。
附图说明
实施例的以下说明和附图描述了本实用新型的其他优选的特征和/或优点。
在附图中：
图1示出了处理设备的第一实施方式的示意性立体图，其中能够借助施用装置将流体施用到工件上；
图2示出了图1中的处理设备的另一示意性立体图；
图3示出了处理设备的第二实施方式的示意性立体图，在该处理设备中，设置有由用于执行处理过程的施用装置和漫灌装置构成的组合；
图4示出了根据图3的处理设备的第二实施方式的另一示意性立体图；
图5示出了处理设备的第三实施方式的示意性竖直横截面，在该处理设备中，处理室在三侧设置有施用装置的施用单元；
图6示出了图5中的处理设备的示意性侧视图，其中看到处理设备的内部空间；
图7示出了图5中的处理设备的示意性俯视图，其中看到处理设备的内部空间；
图8示出了处理设备的第四实施方式的对应于图5的示意图，在该处理设备中，设置有可枢转的施用单元；
图9示出了图8的处理设备的对应于图6的示意图；
图10示出了处理设备的第五实施方式的对应于图5的示意图，在该处理设备中施用装置设置有施用装置的旋转的分配器装置；
图11示出了图10的处理设备的对应于图6的示意图；
图12示出了图10的处理设备的对应于图7的示意图；
图13示出了处理设备的对应于图6的示意图，该处理设备包括喷枪状的施用单元；
图14示出了处理设备的第六实施方式的对应于图6的示意图，在该处理设备中，设置有由漫灌处理以及喷射处理或喷洒处理构成的组合；以及
图15示出了图14中的处理设备的对应于图7的示意图。
相同的或功能等效的元件在所有附图中设有相同的附图标记。
具体实施方式
整体用100示出的处理设备的在图1和图2中示出的第一实施方式用于处理工件102、例如车辆车身104(在图1和图2中未示出，而在图5中画出)。
处理设备100包括罩壳106，该罩壳例如是金属的、箱形的、尤其方形的罩壳。
罩壳106尤其包括包围处理设备100的处理室108的多个侧壁。
处理设备100的在图1和图2中示出的实施方式尤其构成了用于处理工件102的处理工位110。在大型处理设备100中尤其可以设置有多个这样的处理工位110。
为了执行处理，处理设备100包括施用装置112，该施用装置尤其包括多个施用单元114、例如喷射喷嘴116。在该详细描述中，总体上涉及用于施用流体、尤其是液体的“喷射喷嘴”。作为对此的替选方案和/或根据在施用流体时所期望的框架条件，也可以设置“喷洒喷嘴”来代替这种喷射喷嘴116。
施用单元114尤其以至少近似水平的行118和/或以至少近似竖直的列120布置。例如设置有施用单元114的矩阵式或网格式的布置。
施用单元114尤其构成施用装置112的喷嘴矩阵122。
施用单元114优选地布置在罩壳106的侧壁中的一个侧壁处并且朝向处理室108的中心的方向取向，尤其以便能够给布置在处理室108的中心中的工件102施加流体。
如尤其从图1和图2的比较中得出的那样，在该实施方式中，罩壳106的彼此对置的侧壁分别设置有喷嘴矩阵122。
处理设备100还包括用于将至少一个工件102引入到处理室108中的和/或用于将至少一个工件102引导穿过处理室108的和/或用于将至少一个工件102从处理室108中输送出来的输送装置124。输送装置124尤其是周期间歇式输送装置126。在这种周期间歇式输送装置126的情况下尤其规定，将待处理的工件102锁定、尤其借助可选的固定装置固定在预定的处理位置中。由此可以获得与施用单元114的预定的位置关系，以便在静止状态下确保可靠的工件处理。
罩壳106尤其通过侧向的进入开口128是可进入的。例如，工件102可以借助构成输送装置124的辊式输送机或轨道输送机(未示出)穿过进入开口128被引入到处理室108中。
仅在图6中画出的封闭装置130用于关闭处理室108并且优选也设置在其余的实施方式中。借助封闭装置130尤其可以避免液体离开到罩壳106的周围环境中。
尤其根据封闭装置130是要仅用作喷射防护装置或还是用于在漫灌过程中流体密封地封闭处理室108，封闭装置130例如是卷帘门或闸门。
如图1中所画的那样，处理设备100优选包括供给罐132和导出罐134。
供给罐132优选用于将流体供给至施用装置112。优选地，供给罐132相对于重力方向布置在处理室108之上。
因此，位于供给罐132中的流体可以尤其在不使用泵的情况下仅基于重力被供给至施用装置112，以便最终被施用到工件102上。可选地，尤其是为了提高压力可以设置有附加的泵。
导出罐134优选相对于重力方向布置在罩壳106之下。因此，在处理室108中输出的流体尤其是在不利用泵的情况下可以特别简单地流出到导出罐134中，然而也可选地可以附加地设置泵。
流体优选可多次被利用，尤其用于执行在多个工件102处的多个处理过程。
处理设备100为此优选地包括泵136，借助该泵能够将流体尤其从导出罐134输送到供给罐132中。
可选地，尤其可以设置有整备装置138，例如净化装置140和/或调温装置142。
借助整备装置138，例如通过过滤出可能损害处理结果的悬浮物和其他污物，尤其能够在供给至供给罐132之前整备流体。
流体可以在一侧从处理设备100的导出罐134被泵送到同一处理设备100、尤其是处理设备100的同一工位110的供给罐132中。在这种情况下，流体尤其被设置用于执行相同的处理过程。对此替选地可以规定，将流体串联式地(kaskadenartig)被依次供给至用于执行不同类型的处理过程的不同的处理工位110。例如，根据流体的污染程度，可以将其应用于具有不同纯净度要求的冲洗工位。
在处理设备100的在图1和图2中示出的实施方式中，尤其能够从两侧大面积地向工件102施加流体。
有利的可以是，处理设备100还包括能够被导入到工件102的内部空间中的施用单元114。这种施用单元114例如是图1和图2中的施用喷枪144。
施用喷枪144优选地伸入到处理室108中。通过借助输送装置124引入工件102，该工件尤其是在避免接触施用喷枪144的情况下优选被推至施用喷枪144。施用喷枪144在工件102的处理位置中伸入到工件102的内部空间中。
在施用喷枪144的端部处尤其布置有一个喷射喷嘴116、例如旋转的喷射喷嘴116，以便能够给工件102的内部空间施加流体。在另外的实施方式中，在施用喷枪144的端部处也可以设置多个喷射喷嘴116、尤其是可移动的和/或旋转的喷射喷嘴116，以便能够施用足够的流体量以及均匀且大面积地润湿工件102的内部空间中的表面。此外，在施用喷枪144的端部处可以布置有构造为喷洒球或旋转净化器的施用单元114。
此外，补充地可以设置一个或多个喷涌喷嘴(Schwalldüsen)，以便能够将大量的流体导引到工件102的内部空间中。可以由此简单地从工件102冲出粗大的污染物和借助施用喷枪144清除的污物。
施用喷枪144尤其是在不存在工件102的情况下还可以优选地用于净化处理室108本身。
处理设备100的在图3和图4中示出的替选的实施方式与在图1和图2中示出的实施方式的区别主要在于，处理设备100不仅能够实现借助施用装置112的喷射施用或喷洒施用，而且能够执行漫灌过程。在此，(未示出的)封闭装置尤其抗压地构造，以便能够实现处理室108中的上升的流体位并且防止流体离开。
处理设备100的在图3和图4中示出的实施方式尤其包括用于执行漫灌过程的漫灌装置146。在此，尤其设置有漫灌装置146的漫灌管148，该漫灌管从(在图3和图4中未示出的)供给罐132引入处理室108中。漫灌管148尤其通入处理室108的相对于重力方向的下部区域中。
漫灌管148的直径尤其明显大于施用装置112的管路直径，例如大了至少2倍、优选至少5倍。由此，可以优选地在短时间内将特别大的流体量引入到处理室108中。
在处理设备100的第二实施方式中的施用装置112例如用于施用用于执行处理过程的流体，其中该处理过程可以是化学的或物理的处理或也可以是净化以及简单的冲刷。
施用装置112优选地具有在图4中可见的布置在处理设备100的罩壳106的顶壁150处的部分。
尤其地，喷嘴矩阵122布置在顶壁150处。
作为喷嘴的替选方案，布置在顶壁150处的施用单元114也可以是滴落元件或简单的管路端部，以便将流体逐滴地或喷涌式地输出到工件102上。
施用装置112的不同区段可选地能够被供应不同的流体。例如可以用侧向的施用单元114来施用用于执行物理或化学处理的处理流体，而例如能够经由布置在顶壁150处的施用单元114来供给冲洗流体。
漫灌装置146和施用装置112优选地以如下方式相互共同作用，使得在执行漫灌过程之后借助施用装置112执行冲洗过程，尤其是以便从工件102去除在漫灌过程结束时放出流体时可能附着在工件102处的泡沫和其他漂浮的污物。此外，施用装置112和漫灌装置146当然也可以共同用于施用相同的处理流体。
此外，处理设备100的在图3和图4中示出的第二实施方式在结构和功能方面与在图1和图2中示出的实施方式一致，从而就此而言参考其前面的描述即可。
处理设备100的在图5至图7中示出的第三实施方式与在图1和图2中示出的第一实施方式的区别主要在于，施用装置112的施用单元114布置成围绕处理室108的用于容纳工件102的部分分布。在此，施用单元114尤其布置在构造为车辆车身104的工件102的门槛区域中以及车顶区域中。
如尤其由图6中的箭头示出的那样，可选地可以设置有移动装置152，借助该移动装置，施用装置112和/或待处理的工件102能够移动、尤其是线性地移动。
但也可设想的是，待处理的工件可以在处理室108中借助输送装置124移动，尤其是线性地运动。
因此，借助移动装置152或输送装置124可以改变施用单元114相对于工件102的相对位置，以便能够为工件102完全地施加流体。
施用单元114在此可以布置成分布在处理室108的整个长度上。
在施用单元114的这种布置中特别有利的是，工件102可以以多于两个相邻的施用单元114的间距的一半往复移动至少一次，从而通过工件102相对于施用单元114的相对移动来均匀地和/或完全地向工件102施加流体。
对此替选地可以规定，施用单元114门式地在工件102的仅一个区域处围绕工件102布置，并且通过借助移动装置152的移动，工件102最终能够全面地被施加流体。
如尤其从图7中得出的那样，可以借助施用装置112的每个施用单元114产生整体喷射图形154，该整体喷射图优选地在工件102上重叠并且因此能够用流体来至少近似不中断地润湿工件102。
尤其可以设置流体的均匀施加，其中优选地能够在工件102的整个表面上施用相似量的具有至少近似相同的工艺参数、尤其液滴大小和冲击速度的流体。
借助移动装置152或输送装置124能够实现至少约100mm、优选至少约200mm和/或最多约1000mm、例如最多约700mm、尤其最多约500mm的移动，尤其是工件102的移动，例如线性移动。
作为线性移动的替选方案或补充方案，可以借助移动装置152优选地设置施用装置112和/或工件102的倾斜移动和/或旋转移动。
例如构造为喷射喷嘴116的施用单元114例如可以是尤其具有宽的喷洒锥形的实心锥形喷嘴和/或具有例如较窄的喷洒锥形、然而因此较大的投射范围和/或离开速度的喷嘴。例如可以设置有用于将流体施用到更远地布置的面上、例如边缘区域中和/或发动机罩和/或行李室罩上的扇形喷嘴。
优选地，施用装置112包括不同的区段、尤其是用于将流体供给至施用单元114的不同的分配管，其中不同的区段、尤其是不同的分配管能够被施加不同的压力，尤其是以便借助施用单元114产生不同的喷洒图案和/或喷射图案和/或喷洒图形和/或喷射图形。
尤其是当设置有用于使施用装置112移动的移动装置152时，优选地可以设置有用于将流体供给至施用装置112的柔性的输入管路、例如弹性软管。
移动装置152优选地可以包括(未示出的)气动缸或其他用于产生移动的驱动单元。
此外，在图5至图7中示出的第三实施方式在结构和功能方面与在图1和图2中描述的实施方式在结构和功能方面一致，从而就此而言参考其前面的描述即可。
处理设备100的在图8和图9中示出的第四实施方式与在图5至图7中示出的第三实施方式的区别主要在于，施用单元114的多个竖直的列120和/或水平的行118整体可转动地布置，尤其是以便改变流体从施用单元114的离开方向。给每个列120和/或每个行118优选地分别配备有分配管，施用单元114布置在该分配管处，并且分配管为了使施用单元114转动而可整体转动或者包括至少一个或多个可转动的区段。
通过可转动的设计方案，尤其可以实现大面积地向工件102施加流体。
尤其地，设置有从施用单元114的中心位置起至少约±20°、优选至少约±30°的转动角。
施用单元114的旋转例如可以气动地和/或电动地进行。例如可以设置有用于引起移动的机械连杆，其中尤其是多个施用单元114、优选多个竖直列120和/或多个水平行118能够同时和/或共同地、尤其是同步地移动。
此外，处理设备100的在图8和图9中示出的第四实施方式在结构和功能方面与在图5至图7中示出的第三实施方式一致，从而就此而言参考其前面的描述即可。
处理设备100的在图10至图12中示出的第五实施方式与在图8和图9中示出的实施方式的区别主要在于，施用装置112包括多个分配器装置156，分配器装置构成旋转件158并且能够围绕例如至少近似竖直的旋转轴线160旋转。
分配器装置156尤其分别具有例如成列地布置的多个施用单元114。
通过分配器装置156围绕旋转轴线160的旋转，使得向工件102随时间变化地施加流体。
优选地，设置有多个这种旋转件158，该旋转件尤其布置在不同的高度上，以便能够实现喷洒图形或喷射图形的重叠并且因此能够用流体均匀地润湿工件102。
施用单元114尤其布置在工件102之上和/或工件102之下。
然而可选地，也可以设置有尤其是围绕水平的旋转轴线116旋转的另外的分配器装置156，借助该分配器装置例如能够对工件102的侧面进行施加。
此外，处理设备100的在图10至图12中示出的第五实施方式在结构和功能方面与在图8和图9中示出的第四实施方式一致，从而就此而言参考其前面的描述即可。
在图13中示出了可选的附加的施用单元114，该施用单元在功能方面对应于在图1和图2中示出的施用喷枪144并且用于给工件102的内部空间施加流体。
在此也可以设置移动装置152，例如以便将施用喷枪144导入工件102的内部空间中。对此替选地，工件102例如也可以借助输送装置124被引入到处理室108中，使得在工件102的最终位置或处理位置中，施用喷枪144伸入到工件102的内部空间中。
处理设备100的在图14和图15中示出的第六实施方式与在图3和图4中示出的第二实施方式的区别主要在于，设置有两个用于在两侧和/或对称地将流体供给至处理室108的漫灌管148。
漫灌管148尤其布置成，使得流入的流体沿着工件102的外侧流动并且然后在中央区域中被导回，其中流体在此尤其穿流工件102。
一个或多个施用单元114可以用于附加地供给流体和/或驱动流体流动。也可以设置有例如喷枪状的、伸入到工件102的内部空间中的搅拌装置162，例如以便优化和/或驱动在工件102的内部空间中的流动。
此外，处理设备100的在图14和图15中示出的第六实施方式在结构和功能方面与在图3和图4中示出的实施方式一致，从而就此而言参考其前面的描述即可。
附图标记列表
100 处理设备
102 工件
104 车辆车身
106 罩壳
108 处理室
110 处理工位
112 施用装置
114 施用单元
116 喷射喷嘴
118 行
120 列
122 喷嘴矩阵
124 输送装置
126 周期间歇式输送装置
128 进入开口
130 封闭装置
132 供给罐
134 导出罐
136 泵
138 整备装置
140 净化装置
142 调温装置
144 施用喷枪
146 漫灌装置
148 漫灌管
150 顶壁
152 移动装置
154 整体喷射图
156 分配器装置
158 旋转件
160 旋转轴线
162 搅拌装置。

Claims (30)

1.一种用于处理工件的处理设备，其特征在于，所述处理设备(100)包括：
包围处理室(108)的罩壳(106)；
输送装置(124)，借助所述输送装置，至少一个工件(102)能被引入所述处理室(108)中和/或能被引导穿过所述处理室(108)和/或能从所述处理室(108)中被带出来；
用于将流体施用到所述至少一个工件(102)上的施用装置(112)。
2.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，所述处理设备用于执行对车辆车身(104)的流体处理。
3.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，所述施用装置(112)包括用于将流体施用到所述至少一个工件(102)上的一个或多个施用单元(114)，其中所述一个或多个施用单元(114)包括喷射喷嘴(116)和/或喷洒喷嘴或者构造为喷射喷嘴(116)和/或喷洒喷嘴。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的处理设备，其特征在于，所述处理室(108)是在给定的时刻能容纳仅一个工件(102)的单室。
5.根据权利要求4所述的处理设备，其特征在于，设置成，所述工件(102)借助所述输送装置(124)能沿引入方向被引入到所述处理室(108)中并且能反向于所述引入方向从所述处理室(108)中被带出来。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的处理设备，其特征在于，所述处理室(108)在多侧配设有所述施用装置(112)的施用单元(114)。
7.根据权利要求3所述的处理设备，其特征在于，所述工件(102)能够在所述处理室(108)中借助所述输送装置(124)或移动装置(152)相对于所述施用装置(112)的所述施用单元(114)移动。
8.根据权利要求7所述的处理设备，其特征在于，所述工件(102)能够在所述处理室(108)中借助所述输送装置(124)或移动装置(152)相对于所述施用装置(112)的所述施用单元(114)线性位移。
9.根据权利要求7所述的处理设备，其特征在于，所述施用单元(114)布置成在所述处理室(108)的整个长度上分布，并且所述工件(102)能够相对于所述施用单元(114)以多于两个相邻的施用单元(114)的间距的一半移动。
10.根据权利要求7或9所述的处理设备，其特征在于，所述工件(102)的相对移动能够借助接近传感器和/或增量编码器和/或在时间上被控制和/或被调节。
11.根据权利要求10所述的处理设备，其特征在于，所述接近传感器是具有保护等级IP69k的接近传感器。
12.根据权利要求10所述的处理设备，其特征在于，所述工件(102)的相对移动能够在预设移动过程的情况下被控制和/或被调节。
13.根据权利要求10所述的处理设备，其特征在于，所述相对移动的加速度能被调整。
14.根据权利要求13所述的处理设备，其特征在于，所述相对移动的加速度在0.25m/s2与2m/s2之间的范围内能被调整。
15.根据权利要求1至3中任一项所述的处理设备，其特征在于，所述处理室(108)包括用于部分地或完全地封闭进入开口(128)的封闭装置(130)，通过所述进入开口能够将所述至少一个工件(102)引入到所述处理室(108)中和/或通过所述进入开口能够将所述至少一个工件(102)从所述处理室(108)中带出来。
16.根据权利要求15所述的处理设备，其特征在于，所述封闭装置(130)构造为卷帘门、滑动门或升降门。
17.根据权利要求1至3中任一项所述的处理设备，其特征在于，所述输送装置(124)是周期间歇式输送装置，并且其特征还在于，所述至少一个工件(102)为了执行处理在空间上是稳固的。
18.根据权利要求17所述的处理设备，其特征在于，所述至少一个工件(102)为了执行处理借助所述输送装置(124)和/或附加的固定装置在空间上是稳固的。
19.根据权利要求17所述的处理设备，其特征在于，所述至少一个工件(102)为了执行处理在空间上是固定的。
20.根据权利要求1至3中任一项所述的处理设备，其特征在于，所述处理设备(100)包括供给罐(132)，其中流体能够从所述供给罐(132)被供给至所述施用装置(112)并且能够借助所述施用装置(112)被施用到所述至少一个工件(102)上。
21.根据权利要求20所述的处理设备，其特征在于，所述供给罐布置在所述处理室(108)之上。
22.根据权利要求1至3中任一项所述的处理设备，其特征在于，所述处理设备(100)包括导出罐(134)，并且施用到所述至少一个工件(102)上的流体能够流出到所述导出罐中。
23.根据权利要求22所述的处理设备，其特征在于，所述导出罐布置在所述处理室(108)之下。
24.根据权利要求1至3中任一项所述的处理设备，其特征在于，所述施用装置(112)包括至少一个施用单元(114)，所述施用单元能被引入或伸入到所述至少一个工件(102)的内部空间中，并且借助所述施用单元能够将流体施用到所述至少一个工件(102)的朝向所述至少一个工件(102)的内部空间的表面上。
25.根据权利要求24所述的处理设备，其特征在于，所述至少一个施用单元是至少一个施用喷枪(144)。
26.根据权利要求1至3中任一项所述的处理设备，其特征在于，所述罩壳(106)是能至少部分地漫灌的。
27.根据权利要求26所述的处理设备，其特征在于，所述罩壳(106)是能至少部分地漫灌的，直至所述罩壳(106)和/或所述处理室(108)的最大空间高度的至少40％的高度。
28.根据权利要求27所述的处理设备，其特征在于，所述罩壳(106)是能至少部分地漫灌的，直至所述罩壳(106)和/或所述处理室(108)的最大空间高度的至少60％的高度。
29.根据权利要求1至3中任一项所述的处理设备(100)，其特征在于，所述处理是或包括净化、和/或化学和/或物理的表面处理。
30.根据权利要求29所述的处理设备，其特征在于，所述净化是去脂。
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