CN218974465U - 一种熔断器测试电阻用双桥法工装 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及熔断器电阻测试领域，具体指一种熔断器测试电阻用双桥法工装，包括基座，在所述基座上相对间隔设置有可相对位移的两组导电的桥状结构，两组所述桥状结构呈V型设置；在两组所述桥状结构上设置有放置熔断器的放置空间。本发明的双桥法工装，结构简单，熔断器放置方便，测试便捷，可适用不同尺寸规格的熔断器电阻测试用。
Description
技术领域
本发明涉及熔断器电阻测试领域，具体指，用于熔断器电阻测试用的工装。
背景技术
熔断器的电阻是熔断器性能好坏的重要指标之一。在熔断器成品检测中，电阻检测也是必要的检测环节。目前，检测的手段用两个线夹夹在产品两接线端，与电阻测试仪接通，读取电阻测试仪上显示的电阻值。但当产品尺寸较大，线夹无法夹持时，测试电阻时，就需要手工压紧，手工压紧程度不同，则接触程度不同，导致测量一致性较差，测量时间也较长。因此，电阻测量工装也营运而生。
中国专利201920173057公开了一种熔断器电阻测量工装，其通过有由第一限位块和第二限位块组成的熔断器固定座、第一接线柱固定架、第二接线柱固定架、第一电流检测接线柱、第二电流检测接线柱等实现熔断器电阻检测。通过调整第一限位块和第二限位块固定熔断器，然后进行测试。该测试工装电阻测量一致性好，但是其仅限于一种尺寸规格将近的熔断器，无法适用于不同尺寸规格或尺寸规格相差较大的熔断器电阻测试，且该专利技术方案的工装结构相对比较复杂。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种熔断器测试电阻用双桥法工装，该工装结构简单，可适用于不同规格的熔断器电阻测试用。
为解决上述技术问题，本发明提供的技术方案是一种熔断器测试电阻用双桥法工装，包括基座，在所述基座上相对间隔设置有可相对位移的两组导电的桥状结构，两组所述桥状结构呈V型设置；在两组所述桥状结构上设置有放置熔断器的放置空间。
优选地，在所述基座上相对间隔设置有两组支架结构，在每组所述支架结构上设置有一组所述桥状结构。
优选地，在所述基座上设置有至少一条滑轨，所述支架结构设置在所述滑轨上。
优选地，每组所述支架结构包括高度不同、顶部宽度不同的两支架，所述桥状结构设置在两所述支架上；两组所述支架结构相邻一端的所述支架高度及宽度比远离的所述支架的高度及宽度小。
优选地，每组所述桥状结构包括间隔且倾斜设置的两导电杆，两所述导电杆两端间距不同；两组所述桥状结构相邻一端的两所述导电杆之间的间距最小。
本发明的熔断器测试电阻用双桥法工装，通过可相对移动的双桥，可以在其上放置不同尺寸规格的熔断器，在熔断器重力作用下，熔断器接线端可以与电阻工装紧密接触，使电阻测试一致性好。且该电阻工装制作简单，方便测试，适用范围广。
附图说明
图1是电阻工装立体结构示意图。
图2是电阻工装侧视结构示意图。
图3是电阻工装俯视结构示意图。
图4是熔断器放置在电阻工装上结构示意图。
具体实施方式
针对上述技术方案，现举较佳的实施例并结合图示进行具体说明。
本发明的双桥法工装，参看图1至图4，包括基座10、两组支架结构、两组桥状结构。
其中：
基座10，为长条结构。在基座10的上表面上，沿其长度方向开设有两条平行间隔设置的滑轨11，滑轨11的两端贯通基座10的两端。滑轨11也可以设置在基座上的滑槽结构，也可以是凸出基座上表面的导轨结构。
两组支架结构，安装在基座10上，其底部分别位于基座10的两滑轨11中。两组支架结构相对间隔设置在基座10的滑轨11中，且可相对于基座相向或反向位移。
由于两组支架结构的结构相同，在此，以一组支架结构为例进行说明。支架结构，材质为绝缘材质，包括高度不同的第一支架21和第二支架22。第一支架21的高度比第二支架22的高度高，第一支架21的顶部比第二支架22的顶部宽。在第一支架21和第二支架22的底部对应基座10上的两滑轨11位置处分别一体成型有两滑块(未图示)。第一支架21和第二支架22从基座10的一端滑设在基座的两滑轨11中，使第一支架21和第二支架22可沿滑轨11沿基座长度方向移动。两组支架结构20相邻的一端均为高度低的第二支架22，其远离的一端为高度高的第一支架21。
两组桥状结构，在一组支架结构上安装一组桥状结构，参看图2，每组桥状结构呈倾斜设置，从侧视方向，两组相对间隔设置的桥状结构呈近似V型结构。由于两组桥状结构的结构也相同，在此，则以一组桥状结构为例说明。桥状结构，材质为导电材质，在本实例中为铜材质。其包括两根导电杆31，两根导电杆31分别通过螺钉安装在第一支架21和第二支架22顶部两侧。由于第一支架21和第二支架22的高度不同，安装好后的两导电杆31的顶面呈倾斜状态。由于第一支架21和第二支架22的顶部宽度不同，位于第二支架22处与位于第一支架21处的两导电杆31间距不同。因此，相邻的桥状结构的一端间距小，适合尺寸规格较小的熔断器测试，远离的一端间距大，适合尺寸规格较大的熔断器。
上述桥状结构是由两根导电杆31形成的，在两根导电杆之间形成放置熔断器的空间。桥状结构也可以是其他结构，其只需满足具有放置熔断器的放置空间即可，为了满足不同尺寸规格的熔断器，放置空间应该贯通桥状结构的两端，比如放置空间为放置槽。
在测试时，参看图4，将熔断器A放置在电阻工装上，使熔断器A水平放置工装上，使熔断器A的两端分别位于两组桥状结构上，由于两桥状结构呈V型结构设置，则熔断器A的两端的导电部A1(与接线端导电接触)可确保与导电杆31接触。电阻测试仪的夹子分别夹在两组桥状结构的导电杆31上，进行电阻测试。测试完全，取下熔断器，放置另外的熔断器上去即可。
本发明的双桥法工装，结构简单，熔断器放置方便，测试便捷，可适用不同尺寸规格的熔断器电阻测试用。
Claims (5)
1.一种熔断器测试电阻用双桥法工装，其特征在于，包括基座，在所述基座上相对间隔设置有可相对位移的两组导电的桥状结构，两组所述桥状结构呈V型设置；在两组所述桥状结构上设置有放置熔断器的放置空间。
2.根据权利要求1所述的熔断器测试电阻用双桥法工装，其特征在于，在所述基座上相对间隔设置有两组支架结构，在每组所述支架结构上设置有一组所述桥状结构。
3.根据权利要求2所述的熔断器测试电阻用双桥法工装，其特征在于，在所述基座上设置有至少一条滑轨，所述支架结构设置在所述滑轨上。
4.根据权利要求3所述的熔断器测试电阻用双桥法工装，其特征在于，每组所述支架结构包括高度不同、顶部宽度不同的两支架，所述桥状结构设置在两所述支架上；两组所述支架结构相邻一端的所述支架高度及宽度比远离的所述支架的高度及宽度小。
5.根据权利要求1至4任一所述的熔断器测试电阻用双桥法工装，其特征在于，每组所述桥状结构包括间隔且倾斜设置的两导电杆，两所述导电杆两端间距不同；两组所述桥状结构相邻一端的两所述导电杆之间的间距最小。
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