CN218951559U - 一种拉晶设备用真空机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种拉晶设备用真空机构，涉及拉晶设备技术领域，包括拉晶真空装置本体，所述拉晶真空装置本体设置有单晶炉，所述单晶炉设置有真空发生装置，所述单晶炉右侧设置有输送管，所述输送管右端设置有装料体，所述装料体内部设置有隔热层，所述装料体内壁设置有加热板，所述隔热层内部设置有反应炉，所述装料体设置有进料口，当固定硅进料堵住时，由于重力的推挤，会使得斜板下移，从而带动转杆移动，此时在短杆的作用下，转杆转动，带动凸块转动，当凸块打击滑块时，使得滑块移动，从而带动抵杆移动，抵杆会抵触摆杆，使得摆杆摆动，从而摆杆会抵触摆动板，使得摆动板摆动，此时会对硅体打击，使得硅震动，从而可以疏通。

Description

一种拉晶设备用真空机构

技术领域

本实用新型涉及拉晶设备技术领域，具体为一种拉晶设备用真空机构。

背景技术

半导体行业市场规模较大，产业链较长，技术门槛较高且应用广泛，是现代电子信息产业的基础。半导体行业的产业链主要包括上游半导体材料、中游半导体元件以及下游应用领域。上游材料半导体材料是一类具有半导体性能(导电能力介于导体与绝缘体之间)、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。

在现有的设备中，在放置固体硅进入设备时，如果一次倒太多，会导致进料口堵塞，使得人员疏通不方便，增加员工的工作量，且会降低工作效率。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种拉晶设备用真空机构，解决了上述背景技术中提出的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种拉晶设备用真空机构，包括拉晶真空装置本体，所述拉晶真空装置本体设置有单晶炉，所述单晶炉设置有真空发生装置，所述单晶炉右侧设置有输送管，所述输送管右端设置有装料体，所述装料体内部设置有隔热层，通过隔热层的设置，使得在加热固体硅时，避免加热装置对晶体的污染，所述装料体内壁设置有加热板，所述隔热层内部设置有反应炉，所述装料体设置有进料口，所述进料口开设有空腔，所述进料口设置有连动组件与疏通组件，所述连动组件包括：连接板、斜板、滑板、转杆、短杆、第一弹簧，所述斜板设置有凹槽，所述斜板开设有空腔，所述疏通组件包括：

滑块，所述滑块滑动连接在斜板的空腔内壁上，滑块移动时可以带动抵杆移动，抵杆移动时会抵触摆杆，使得摆杆摆动，从而可以使摆杆抵触摆动板，当摆动板摆动时，可以疏通堵住的固定硅；

稳定板，所述稳定板固定在斜板的空腔内壁上，稳定板主要稳定第二弹簧与抵杆；

第二弹簧，所述第二弹簧一端与滑块固定连接，所述第二弹簧远离滑块的一端与稳定板固定连接；

抵杆，所述抵杆一端与滑块固定连接，所述抵杆远离滑块的一端贯穿稳定板，且抵杆与稳定板滑动连接；

摆杆，所述摆杆贯穿斜板且摆杆与斜板铰接，支撑杆主要起到稳定摆动板的作用；

第一扭簧，所述第一扭簧一端与摆杆固定连接，所述第一扭簧远离摆杆的一端与斜板固定连接；

凸块，所述凸块固定在转杆的表面；

支撑杆，所述支撑杆一端与斜板凹槽内壁固定连接；

摆动板，所述摆动板铰接在支撑杆远离斜板的一端，摆动板摆动时，可以疏通堵住的固体硅；

第二扭簧，所述第二扭簧一端与摆动板固定连接，所述第二扭簧远离摆动板的一端与支撑杆固定连接；

限位块，所述限位块一端与支撑杆固定连接，所述限位块远离支撑杆的一端与摆动板贴合，限位块配合第二扭簧使得摆动板只能朝一个方向翻转，使得不会因为固体硅过多导致压动摆动板产生偏移。

优选的，所述连动组件设置有连接板，连接板配合斜板可以稳定固体硅的正常进料，所述连接板开设有空腔，所述连接板的空腔内壁滑动连接有滑板，滑板移动时可以带动转杆移动，所述滑板顶部固定有第一弹簧，所述第一弹簧顶部与连接板的空腔内壁顶部固定连接，所述滑板底部转动连接有转杆，转杆在斜板移动时移动，当转杆移动时通过短杆的配合，可以使得转杆转动，从而可以带动凸块转动，使得凸块可以打击滑块，使得滑块移动。

优选的，所述连动组件与疏通组件均设置有两组，且两组连动组件与疏通组件均以进料口的中心线为对称轴对称设置。

优选的，所述装料体底部固定有支撑腿。

优选的，所述转杆与表面开设有弧形滑槽，所述连接板空腔内壁固定有短杆。

优选的，所述短杆滑动连接在转杆的弧形滑槽内，所述转杆底部贯穿有斜板且转杆与斜板的空腔内壁转动连接。

(三)有益效果

本实用新型提供了一种拉晶设备用真空机构。具备以下有益效果：

(1)、该拉晶设备用真空机构设置有疏通组件，当固定硅进料堵住时，由于重力的推挤，会使得斜板下移，从而带动转杆移动，此时在短杆的作用下，转杆转动，带动凸块转动，当凸块打击滑块时，使得滑块移动，从而带动抵杆移动，抵杆会抵触摆杆，使得摆杆摆动，从而摆杆会抵触摆动板，使得摆动板摆动，此时会对硅体打击，使得硅震动，从而可以疏通。

(2)、该拉晶设备用真空机构设置有连动组件，当硅体推积过多时，会使得斜板下移，从而会带动转杆移动，转杆移动时，在短杆的作用下，会使得转杆转动，从动带动凸块转动，使得凸块可以打击滑块，从而可以疏通硅体。

附图说明

图1为本实用新型正视结构示意图；

图2为本实用新型正视剖视结构示意图；

图3为本实用新型图2中A放大结构示意图；

图4为本实用新型图3中B放大结构示意图；

图5为本实用新型图3中C放大结构示意图；

图6为本实用新型图3中D放大结构示意图。

图中：1、拉晶真空装置本体；2、单晶炉；3、真空发生装置；4、输送管；5、装料体；6、加热板；7、隔热层；8、反应炉；9、支撑腿；10、进料口；11、连动组件；110、连接板；111、斜板；112、滑板；113、转杆；114、短杆；115、第一弹簧；12、疏通组件；120、摆动板；121、滑块；122、第二弹簧；123、稳定板；124、抵杆；125、摆杆；126、第一扭簧；127、第二扭簧；128、限位块；129、凸块；1200、支撑杆。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-6，本实用新型提供一种技术方案：一种拉晶设备用真空机构，包括拉晶真空装置本体1，拉晶真空装置本体1设置有单晶炉2，单晶炉2设置有真空发生装置3，单晶炉2右侧设置有输送管4，输送管4右端设置有装料体5，装料体5内部设置有隔热层7，通过隔热层7的设置，使得在加热固体硅时，避免加热装置对晶体的污染，装料体5内壁设置有加热板6，隔热层7内部设置有反应炉8，装料体5设置有进料口10，进料口10开设有空腔，进料口10设置有连动组件11与疏通组件12，连动组件11包括：连接板110、斜板111、滑板112、转杆113、短杆114、第一弹簧115，斜板111设置有凹槽，斜板111开设有空腔，疏通组件12包括滑块121，滑块121滑动连接在斜板111的空腔内壁上，滑块121移动时可以带动抵杆124移动，抵杆124移动时会抵触摆杆125，使得摆杆125摆动，从而可以使摆杆125抵触摆动板120，当摆动板120摆动时，可以疏通堵住的固定硅，稳定板123固定在斜板111的空腔内壁上，稳定板123主要稳定第二弹簧122与抵杆124，第二弹簧122一端与滑块121固定连接，第二弹簧122远离滑块121的一端与稳定板123固定连接，抵杆124一端与滑块121固定连接，抵杆124远离滑块121的一端贯穿稳定板123，且抵杆124与稳定板123滑动连接，摆杆125贯穿斜板111且摆杆125与斜板111铰接，第一扭簧126一端与摆杆125固定连接，第一扭簧126远离摆杆125的一端与斜板111固定连接，凸块129固定在转杆113的表面，支撑杆1200一端与斜板111凹槽内壁固定连接，支撑杆1200主要起到稳定摆动板120的作用，摆动板120铰接在支撑杆1200远离斜板111的一端，摆动板120摆动时，可以疏通堵住的固体硅，第二扭簧127一端与摆动板120固定连接，第二扭簧127远离摆动板120的一端与支撑杆1200固定连接，限位块128一端与支撑杆1200固定连接，限位块128远离支撑杆1200的一端与摆动板120贴合，限位块128配合第二扭簧127使得摆动板120只能朝一个方向翻转，使得不会因为固体硅过多导致压动摆动板120产生偏移；

连动组件11设置有连接板110，连接板110配合斜板111可以稳定固体硅的正常进料，连接板110开设有空腔，连接板110的空腔内壁滑动连接有滑板112，滑板112移动时可以带动转杆113移动，滑板112顶部固定有第一弹簧115，第一弹簧115顶部与连接板110的空腔内壁顶部固定连接，滑板112底部转动连接有转杆113，转杆113在斜板111移动时移动，当转杆113移动时通过短杆114的配合，可以使得转杆113转动，从而可以带动凸块129转动，使得凸块129可以打击滑块121，使得滑块121移动；

连动组件11与疏通组件12均设置有两组，且两组连动组件11与疏通组件12均以进料口10的中心线为对称轴对称设置；装料体5底部固定有支撑腿9；转杆113与表面开设有弧形滑槽，连接板110空腔内壁固定有短杆114；短杆114滑动连接在转杆113的弧形滑槽内，转杆113底部贯穿有斜板111且转杆113与斜板111的空腔内壁转动连接。

工作时(或使用时)，当需要提炼晶体时，将固定硅倒入进料口10，使得固定硅进入反应炉8，从而通过加热板6的作用将材料升华，从而可以通过输送管4进入单晶炉2中最后经过冷凝成核而长成晶体，当在硅体硅倒入过多导致进料口10堵住时，此时在固体硅的重量作用下，会使得斜板111下降，从而会带动转杆113移动，转杆113移动时，在短杆114的作用下，会使得转杆113转动，从动带动凸块129转动，当凸块129转动时，会抵触滑块121，此时滑块121会移动，带动抵杆124移动，抵杆124移动时会抵触摆杆125，使得摆杆125摆动，从而可以使摆杆125抵触摆动板120，当摆动板120摆动时，可以疏通堵住的固定硅，使得设备可以正常运转，当疏通完成后，在第一弹簧115的作用下，拉动转杆113归位，从而可以使斜板111归位。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种拉晶设备用真空机构，包括拉晶真空装置本体(1)，其特征在于：所述拉晶真空装置本体(1)设置有单晶炉(2)，所述单晶炉(2)设置有真空发生装置(3)，所述单晶炉(2)右侧设置有输送管(4)，所述输送管(4)右端设置有装料体(5)，所述装料体(5)内部设置有隔热层(7)，所述装料体(5)内壁设置有加热板(6)，所述隔热层(7)内部设置有反应炉(8)，所述装料体(5)设置有进料口(10)，所述进料口(10)开设有空腔，所述进料口(10)设置有连动组件(11)与疏通组件(12)，所述连动组件(11)包括：连接板(110)、斜板(111)、滑板(112)、转杆(113)、短杆(114)、第一弹簧(115)，所述斜板(111)设置有凹槽，所述斜板(111)开设有空腔，所述疏通组件(12)包括：

滑块(121)，所述滑块(121)滑动连接在斜板(111)的空腔内壁上；

稳定板(123)，所述稳定板(123)固定在斜板(111)的空腔内壁上；

第二弹簧(122)，所述第二弹簧(122)一端与滑块(121)固定连接，所述第二弹簧(122)远离滑块(121)的一端与稳定板(123)固定连接；

抵杆(124)，所述抵杆(124)一端与滑块(121)固定连接，所述抵杆(124)远离滑块(121)的一端贯穿稳定板(123)，且抵杆(124)与稳定板(123)滑动连接；

摆杆(125)，所述摆杆(125)贯穿斜板(111)且摆杆(125)与斜板(111)铰接；

第一扭簧(126)，所述第一扭簧(126)一端与摆杆(125)固定连接，所述第一扭簧(126)远离摆杆(125)的一端与斜板(111)固定连接；

凸块(129)，所述凸块(129)固定在转杆(113)的表面；

支撑杆(1200)，所述支撑杆(1200)一端与斜板(111)凹槽内壁固定连接；

摆动板(120)，所述摆动板(120)铰接在支撑杆(1200)远离斜板(111)的一端；

第二扭簧(127)，所述第二扭簧(127)一端与摆动板(120)固定连接，所述第二扭簧(127)远离摆动板(120)的一端与支撑杆(1200)固定连接；

限位块(128)，所述限位块(128)一端与支撑杆(1200)固定连接，所述限位块(128)远离支撑杆(1200)的一端与摆动板(120)贴合。

2.根据权利要求1所述的一种拉晶设备用真空机构，其特征在于：所述连动组件(11)设置有连接板(110)，所述连接板(110)开设有空腔，所述连接板(110)的空腔内壁滑动连接有滑板(112)，所述滑板(112)顶部固定有第一弹簧(115)，所述第一弹簧(115)顶部与连接板(110)的空腔内壁顶部固定连接，所述滑板(112)底部转动连接有转杆(113)。

3.根据权利要求1所述的一种拉晶设备用真空机构，其特征在于：所述连动组件(11)与疏通组件(12)均设置有两组，且两组连动组件(11)与疏通组件(12)均以进料口(10)的中心线为对称轴对称设置。

4.根据权利要求1所述的一种拉晶设备用真空机构，其特征在于：所述装料体(5)底部固定有支撑腿(9)。

5.根据权利要求1所述的一种拉晶设备用真空机构，其特征在于：所述转杆(113)与表面开设有弧形滑槽，所述连接板(110)空腔内壁固定有短杆(114)。

6.根据权利要求1所述的一种拉晶设备用真空机构，其特征在于：所述短杆(114)滑动连接在转杆(113)的弧形滑槽内，所述转杆(113)底部贯穿有斜板(111)且转杆(113)与斜板(111)的空腔内壁转动连接。

Images