CN218938762U - 一种适用性广的菲涅尔抗光幕布 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，包括基材层、光学微结构层和反射层，基材层为无规共聚聚丙烯透明薄膜，基材层上与光学微结构层接触的一面为电晕面，光学微结构层上与反射层接触的一面设有凸起的菲涅尔纹路，且反射层由反射油墨喷涂于光学微结构层表面形成。本实用新型采用无规共聚聚丙烯透明薄膜，重量轻、挠曲性能好，抗光幕布经历多次弯曲无形变、无断裂，满足软幕布的使用需求，因此能够适用多种应用场景；无规共聚聚丙烯透明薄膜作为基材层，其与光学微结构层接触的一面作电晕处理，提高基材层的附着力，使得抗光幕布结构的层级之间连接更加牢固，提升产品的结构强度；本实用新型仅有三层物理结构，产品轻薄，结构简洁。

Description

一种适用性广的菲涅尔抗光幕布

技术领域

本实用新型涉及抗光幕布领域，具体的说，是涉及一种适用性广的菲涅尔抗光幕布。

背景技术

随着菲涅尔抗光幕布在投影配件行业内的使用逐渐增加，消费者对菲涅尔纹路的抗光效果逐渐认同，对菲涅尔抗光幕布的应用场景也提出了更多的要求。

现阶段菲涅尔抗光幕布可以选用PET、PVC、PP等材料制成，但是各种材料具有不同的缺陷：

（1）中国专利号CN112099303提出了一种菲涅尔抗光投影幕及其制造方法，由于PET材料成型后材质脆而硬，导致多次弯曲后易产生形变、断裂等不良现象，因此菲涅尔膜材大多贴合在硬质基板（如铝基泡沫板或镀铬泡沫板）上，以加强其结构强度，但是会导致菲涅尔抗光幕布无法弯曲；即使贴合在部分软基材上也不能实现多次弯曲无变化。因此，采用PET材料作为基材层的菲涅尔抗光幕布大多作为硬幕使用，使用场景受限。

（2）PVC（聚氯乙烯）材料的弯曲模量较大，使用PVC薄膜制成抗光幕后，再应用制作卷幕时需尺寸较大的卷轴，成品的外观、尺寸都有很大限制，且成本也会相应增加。

（3）PP（聚丙烯）材料具有相对较好的挠曲性能（即耐弯曲疲劳的能力），但是PP材料的附着力不好，需要做一定处理后才能生产。因此采用PP材料作为基材层，得到的幕布结构强度较小，产品易损坏，并且PP材料的基材层制成幕布时的工艺较为复杂。

因此现在需要一种既能简化抗光幕布的产品结构，又能增加基材层附着力、增加产品结构强度，并且能够具有优异挠曲性能的抗光幕布。

实用新型内容

为了解决现有菲涅尔抗光幕布因挠曲性能不佳而导致使用场景受限、生产成本高，以及由于基材层的附着力较差而导致产品结构强度低的问题，本实用新型提供一种适用性广的菲涅尔抗光幕布。

本实用新型技术方案如下所述：

一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，包括依次接触连接的基材层、光学微结构层和反射层，所述基材层为无规共聚聚丙烯透明薄膜，与所述光学微结构层接触的所述基材层的一面为电晕面，与所述反射层接触的所述光学微结构层的一面设有凸起的菲涅尔纹路，且所述反射层由反射油墨喷涂于所述光学微结构层表面形成。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述基材层的入射面的粗糙度不大于基材层与所述光学微结构层接触的一面的粗糙度。

进一步的，所述基材层的入射面的粗糙度为0.4微米～3微米。

进一步的，所述基材层与所述光学微结构层接触的一面的粗糙度为1.5微米～5微米。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，与所述光学微结构层接触的所述基材层的电晕面的达因值不低于38mN/M。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的透光率大于89%。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为150微米～550微米。

进一步的，当抗光幕布的尺寸小于100寸时，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为150微米～350微米。

进一步的，当抗光幕布的尺寸大于等于100寸且小于120寸时，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为350微米～450微米。

进一步的，当抗光幕布的尺寸大于等于120寸时，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为450微米～550微米。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述光学微结构层的材质为UV胶，所述光学微结构层的厚度范围为30微米～100微米。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，菲涅尔纹路中内部的单个微结构宽幅为80微米～150微米。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述反射层的厚度范围为40微米～150微米。

根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述基材层的入射面也为电晕面。

根据上述方案的本实用新型，其有益效果在于：

本实用新型的基材层采用无规共聚聚丙烯透明薄膜，材质重量轻、挠曲性能好，实现成品抗光幕布经历多次弯曲而无形变、无断裂，可满足软幕布的使用需求，因此能够适用多种应用场景；

由于无规共聚聚丙烯透明薄膜的弯曲模量小，相比于PVC材质，能够避免制作卷幕时采用较大的卷轴，利于减小成品外观尺寸，也可降低生产成本；

无规共聚聚丙烯透明薄膜作为基材层，其与光学微结构层接触的一面作电晕处理，提高基材层的附着力，使得抗光幕布结构的层级之间连接更加牢固，提升产品的结构强度；

本实用新型仅有三层物理结构——无规共聚聚丙烯透明薄膜、光学微结构层和在光学微结构层上直接喷涂反射油墨形成的反射层，抗光幕布产品轻薄，结构简洁。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的应用示意图。

在图中，1、基材层；101、电晕面；2、光学微结构层；201、单个微结构；3、反射层；4、投影灯光；5、环境灯光；6、观影者。

具体实施方式

为了更好地理解本实用新型的目的、技术方案以及技术效果，以下结合附图和实施例对本实用新型进行进一步的讲解说明。同时声明，以下所描述的实施例仅用于解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图1和图2所示，一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，包括依次接触连接的基材层1、光学微结构层2和反射层3，基材层1为无规共聚聚丙烯透明薄膜，与光学微结构层2接触的基材层1的一面为电晕面，与反射层3接触的光学微结构层2的一面设有凸起的菲涅尔纹路，反射层3由反射油墨喷涂于光学微结构层2表面形成。

基材层1为无规共聚聚丙烯透明薄膜，相比于PET，挠曲性能好，能够解决基材层较硬的缺陷，成品抗光幕布经历多次弯曲而无形变、无断裂，可满足软幕布的使用需求，进而实现本产品既可以做硬幕，也可以做软幕，能够适用多种应用场景。无规共聚聚丙烯（PP-R）是现有工程塑料中比重最低的材料之一，市场用量大，价格便宜；由于无规共聚聚丙烯透明薄膜的弯曲模量小，相比于PVC材质，能够避免制作卷幕时采用较大的卷轴，利于减小成品外观尺寸，也可降低生产成本。因此，采用无规共聚聚丙烯透明薄膜，能够有效降低整体成本。

无规共聚聚丙烯是一种改性的聚丙烯，无规共聚聚丙烯透明薄膜作为基材层1，其与UV胶层接触的一面作电晕处理，电晕面101的达因值（即表面张力系数）不低于38mN/M，能够解决聚丙烯材料附着力不好的缺陷，提高层级之间的连接强度，确保抗光幕布产品的结构强度及品质。在其他可选实施例中，无规共聚聚丙烯透明薄膜可作双面电晕处理，即基材层1的入射面也可为电晕面。

光学微结构层2上与反射层3接触的一面设有凸起的菲涅尔纹路，反射层3由反射油墨喷涂于光学微结构层2表面形成。反射层3的材质为有反射性质的油墨，此类油墨内部的不溶颗粒物有银粉（或铁镍合金粉末）、色粉等，银粉颗粒物直径介于5～50微米。

光学微结构层2上凸起的菲涅尔纹路，配合喷涂的反射油墨，实现抗光幕布抗环境杂散光的功能：一方面反射投影灯光4的入射光，确保投影画面传达到观影者6，另一方面从侧边反射环境灯光5或杂散光，或者透过部分杂散光，减少对投影光线的干扰，提升投影画质。

因此，本实用新型仅有三层物理结构——无规共聚聚丙烯透明薄膜、光学微结构层和在光学微结构层上直接喷涂反射油墨形成的反射层，抗光幕布产品轻薄，结构简洁。

为了保证投影画面的要求，无规共聚聚丙烯透明薄膜的透光率大于89%。而无规共聚聚丙烯透明薄膜作为单层基材，其厚度范围应满足150微米～550微米。为了保证抗光幕布的使用场景、性能和使用寿命，无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度与幕布尺寸之间具有严格要求：

当抗光幕布的尺寸小于等于100寸时，无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为150微米～350微米；

当抗光幕布的尺寸大于100寸且小于等于120寸时，无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为350微米～450微米；

当抗光幕布的尺寸大于120寸时，无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为450微米～550微米。

在一个具体实施例中，抗光幕布的尺寸为80寸，无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度为250微米。

在一个具体实施例中，抗光幕布的尺寸为100寸，无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度为250微米。

在一个具体实施例中，抗光幕布的尺寸为120寸，无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度为400微米。

在一个具体实施例中，抗光幕布的尺寸为150寸，无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度为500微米。

作为基材层1的无规共聚聚丙烯透明薄膜，两面都有一定的砂度要求，基材层1的入射面的粗糙度不大于基材层1与光学微结构层2接触的一面的粗糙度；基材层1的入射面的粗糙度范围为0.4微米～3微米，其相对面（即与光学微结构层2接触的一面）的粗糙度范围为1.5微米～5微米。在该设定下，能够满足“鬼影”现象可接受的程度下，提升成品抗光幕布的光增益。

需要说明的是，粗糙度在业内也称砂度，砂度大时，“鬼影”现象弱，观看视角会增大，但光增益会有下降；砂度小时，“鬼影”现象较强，观看视角会减小，但光增益有提升。其中，“鬼影”现象指投影光线在入射面上形成反射，反射后该光线在其他成像介质上形成的不规则影像。

在本实用新型中，光学微结构层2，是由UV胶转印固化在基材层1的表面上形成，其厚度范围为30微米～100微米。UV胶转印固化时，采用菲涅尔微结构模具在UV胶层的表面印制出菲涅尔纹路，形成反射功能的基础结构，具有多个变化的微结构，如图1所示，单个微结构201宽幅d为80微米～150微米，菲涅尔微结构中的微结构采用该尺寸范围，具有较好的光学性能。最后在UV胶层带纹路的一面直接喷涂反射油墨形成反射层3，反射层3的厚度范围为40微米～150微米。其整体光增益大于1.5，对比度大约1000：1，最终实现较好的抗光功能。

在菲涅尔纹路的设计中，通过改变菲涅尔同心圆的圆心位置，配合改变单个纹路（即单个微结构）的倾角，可以针对不同投射比的投影调整整体抗光效果。本方案中采用的菲涅尔纹路可针对超短焦（投射比0.21±0.02）和中长焦（投射比1.3±0.2）的投影实现完美的抗光效果。

使用时，观影者6位于抗光幕布的投影入射面一侧，投影灯光透过基材层1，到达光学微结构层2的菲涅尔纹路处，反射出基材层1并到观影者的位置；其他方向的环境杂散光则通过光学微结构层2及反射层3处理后，部分被吸收，部分反射回去，不干扰观看的投影光线。

本产品的制作步骤：

（1）无规共聚聚丙烯透明薄膜上卷并电晕；

（2）在无规共聚聚丙烯透明薄膜的其中一面涂布UV胶；

（3）采用光学微结构模具在UV胶的表面转印固化；

（4）切割；

（5）喷涂反射油墨形成反射层；

（6）烘烤。

在上述过程中，使用风枪除尘。

可见，由于本实用新型结构简单，利于简化量产工艺，生产速度快、效率高。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，包括依次接触连接的基材层、光学微结构层和反射层，所述基材层为无规共聚聚丙烯透明薄膜，与所述光学微结构层接触的所述基材层的一面为电晕面，与所述反射层接触的所述光学微结构层的一面设有凸起的菲涅尔纹路，且所述反射层由反射油墨喷涂于所述光学微结构层表面形成。

2.根据权利要求1所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，所述基材层的入射面的粗糙度不大于基材层与所述光学微结构层接触的一面的粗糙度。

3.根据权利要求2所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，所述基材层的入射面的粗糙度为0.4微米～3微米。

4.根据权利要求2所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，所述基材层与所述光学微结构层接触的一面的粗糙度为1.5微米～5微米。

5.根据权利要求1所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为150微米～550微米。

6.根据权利要求5所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，当抗光幕布的尺寸小于100寸时，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为150微米～350微米。

7.根据权利要求5所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，当抗光幕布的尺寸大于等于100寸且小于120寸时，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为350微米～450微米。

8.根据权利要求5所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，当抗光幕布的尺寸大于等于120寸时，所述无规共聚聚丙烯透明薄膜的厚度范围为450微米～550微米。

9.根据权利要求1所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，所述光学微结构层的材质为UV胶，所述光学微结构层的厚度范围为30微米～100微米。

10.根据权利要求1所述的一种适用性广的菲涅尔抗光幕布，其特征在于，所述反射层的厚度范围为40微米～150微米。

Images