CN218810957U - 一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，系统包括：原水箱、常规过滤器、阻垢剂装置、精密过滤器、一级反渗透装置、PH中和装置、二级反渗透装置、EDL装置、氮封水箱、及循环过滤系统。本申请能够高效地制备高质量的去离子纯水，用于专用的超声波清洗设备，解决了玻璃制程物品表面的脏污、水印、白点、麻点等不良现象。

Description

一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统

技术领域

本申请涉及高洁净度超声波清洗纯水制备及表面处理方法，尤其涉及属于玻璃产品的表面处理技术领域。

背景技术

为了保证电子产品中智能穿戴、手机盖板、电子产品面板的玻璃表面需要高洁净度，以满足客户对外观和功能性高要求，玻璃制品生产制程中有CNC外形加工、物理抛光、化学钢化、丝网印刷等加工技术，在这些加工时玻璃制品表面会有大量的油污、表面污渍残留增加了对表面处理的难度。然而，清洗玻璃制品所用的水，对最终玻璃表面洁净度有很大的影响，现有技术中往往由于清洁所用的去离子水的纯度不够，去离子水带入的杂质一方面更加细微而难以清洗，另一方面去离子水带入的杂质会与玻璃制品表面杂质结合，这些因素会成倍增加玻璃制品制程的各工序中对去离子水引入的杂质进行清理的难度。所以如何制备高质量的去离子水，成为影响玻璃制品洁净度的重要问题。

实用新型内容

为解决现有技术中存在的问题，本申请公开一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，所述系统包括：

原水箱、常规过滤器、阻垢剂装置、精密过滤器、一级反渗透装置、PH中和装置、二级反渗透装置、EDL装置、氮封水箱、及循环过滤系统；

其中，所述原水箱用于接受外部自来水注入；所述常规过滤器用于过滤掉5um以上杂质、吸收余氯、及降低水的硬度，通过原水泵将所述原水箱的水注入所述常规过滤器过滤；

所述阻垢剂装置用于溶解固态物，防止固态物因为浓缩而结垢，所述常规过滤器过滤后的水注入所述阻垢剂装置；

所述精密过滤器用于进一步过滤5um以上杂质，所述阻垢剂装置处理后的水注入所述精密过滤器过滤；

所述一级反渗透装置用于过滤掉无机盐及细菌，通过高压水泵将所述精密过滤器过滤后的水注入所述一级反渗透装置；

所述PH中和装置用于中和水中的酸根或酸性气体，所述PH中和装置中和所述一级反渗透装置过滤后的水；

所述二级反渗透装置用于进一步过滤掉无机盐及细菌，高压水泵将所述PH中和装置中和后的水注入所述二级反渗透装置进行过滤；

所述EDL装置用于过滤强离子物质、及弱离子物质，EDL装置过滤，通过增压水泵将过滤后的水注入所述EDL装置进行过滤；

所述氮封水箱存储用于存储经过所述EDL装置处理后的水；

所述循环过滤系统使用所述氮封水箱中的水清洁待清洗物品。

所述原水箱为2吨容量水箱，所述原水箱配置自动补水装置，所述自动补水装置包括液位浮球开关；所述原水泵具有稳定水压或增加水压的作用，为预处理系统设备提供正常流量和正常压力。

所述常规过滤器包括依次设置的介质过滤器、活性炭过滤器、软化过滤器、及保安过滤器：

所述介质过滤器为多介质过滤器，内填无烟煤和石英砂；

所述活性炭过滤器内填活性炭，所述活性炭过滤器中的活性炭比表面积为500-700m2/g；

所述软化过滤器用于降低水中的硬度；

所述保安过滤器内部设置5um过滤网，用于过滤大于5um的颗粒进入反渗透过程。

所述阻垢剂装置内部预先设置阻垢剂，所述阻垢剂装置由计量泵和加药箱组成。

所述精密过滤器内装聚丙烯滤芯，过滤精度为5.0μm，所述精密过滤器外壳为不锈钢结构。

所述一级反渗透装置包括RO膜、及膜壳；

所述一级反渗透装置及所述PH中和装置之间设置蓄水箱，所述蓄水箱设置液位开关，可随时检测、显示和控制所述一级反渗透装置及所述PH中和装置之间蓄水箱的液位，所述一级反渗透装置及所述PH中和装置之间蓄水箱为2吨容量水箱。

所述PH中和装置内部设置碱性试剂，所述PH中和装置还包括PH显示表控制自动中和；

所述二级反渗透装置与所述EDL装置之间设置二级蓄水箱，所述二级蓄水箱为2吨容量水箱，设置液位开关，可随时检测、显示和控制除水箱的液位。

所述EDL装置包括增强迁移区、淡水室、浓水室、及离子交换树脂；所述增强迁移区用于去除强离子物质；所述淡水室的电导率就由所述离子交换树脂来维持；所述离子交换树脂作为加速离子从所述淡水室进到所述浓水室的导体；所述淡水室的出水压力必须大于所述浓水室的浓水出水压力。

所述氮封水箱设置液位开关，可随时检测、显示和控制水箱的液位。

所述循环过滤系统包括清洁剂水槽、纯水槽、超声波发送设备、及横移搬运系统；

通过同样的电流控制形成超声波，且在所述清洁剂水槽、及所述纯水槽的底部和侧部形成超声波，以清洁待清洗物品；

所述横移搬运系统，用于在所述清洁剂水槽、及所述纯水槽中搬运所述待清洗物品。

本申请能够高效地制备高质量的去离子纯水，用于专用的超声波清洗设备，通过高质量的去离子水，极大程度减少了去离子水带入的细微杂质，同时减少了离子水带入的杂质会与清洁前的玻璃制品表面杂质结合的影响，极大缓解了玻璃制品制程的各工序中对去离子水引入的杂质进行清理的难度。

附图说明：

为了更清楚地说明本申请实施例技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。

图1是本申请一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统所用设备示意图。

图2是本申请精密过滤装置示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例的技术方案进行清楚、完整地描述；

本申请方法公开一种达到高洁净度超声波清洗的表面处理技术方法，包含两套系统：高效去离子水制备系统及高质量去离子水循环过滤系统；利用高质量去离子水循环过滤系统，

如图1所示，本申请公开一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，所述系统包括：

原水箱、常规过滤器、阻垢剂装置、精密过滤器、一级反渗透装置、PH中和装置、二级反渗透装置、EDL装置、氮封水箱、及循环过滤系统；

其中，所述原水箱用于接受外部自来水注入；所述常规过滤器用于过滤掉5um以上杂质、吸收余氯、及降低水的硬度，通过原水泵将所述原水箱的水注入所述常规过滤器过滤；

所述阻垢剂装置用于溶解固态物，防止固态物因为浓缩而结垢，所述常规过滤器过滤后的水注入所述阻垢剂装置；

所述精密过滤器用于进一步过滤5um以上杂质，所述阻垢剂装置处理后的水注入所述精密过滤器过滤；

所述一级反渗透装置用于过滤掉无机盐及细菌，通过高压水泵将所述精密过滤器过滤后的水注入所述一级反渗透装置；

所述PH中和装置用于中和水中的酸根或酸性气体，所述PH中和装置中和所述一级反渗透装置过滤后的水；

所述二级反渗透装置用于进一步过滤掉无机盐及细菌，高压水泵将所述PH中和装置中和后的水注入所述二级反渗透装置进行过滤；

所述EDL装置用于过滤强离子物质、及弱离子物质，EDL装置过滤，通过增压水泵将过滤后的水注入所述EDL装置进行过滤；

所述氮封水箱存储用于存储经过所述EDL装置处理后的水；

所述循环过滤系统使用所述氮封水箱中的水清洁待清洗物品。

所述原水箱为2吨容量水箱，所述原水箱配置自动补水装置，所述自动补水装置包括液位浮球开关；所述原水泵具有稳定水压或增加水压的作用，为预处理系统设备提供正常流量和正常压力。

所述常规过滤器包括依次设置的介质过滤器、活性炭过滤器、软化过滤器、及保安过滤器：

所述介质过滤器为多介质过滤器，内填无烟煤和石英砂；

所述活性炭过滤器内填活性炭，所述活性炭过滤器中的活性炭比表面积为500-700m2/g；

所述软化过滤器用于降低水中的硬度；

所述保安过滤器内部设置5um过滤网，用于过滤大于5um的颗粒进入反渗透过程。

所述阻垢剂装置内部预先设置阻垢剂，所述阻垢剂装置由计量泵和加药箱组成。

所述精密过滤器内装聚丙烯滤芯，过滤精度为5.0μm，所述精密过滤器外壳为不锈钢结构。

所述一级反渗透装置包括RO膜、及膜壳；

所述一级反渗透装置及所述PH中和装置之间设置蓄水箱，所述蓄水箱设置液位开关，可随时检测、显示和控制所述一级反渗透装置及所述PH中和装置之间蓄水箱的液位，所述一级反渗透装置及所述PH中和装置之间蓄水箱为2吨容量水箱。

所述PH中和装置内部设置碱性试剂，所述PH中和装置还包括PH显示表控制自动中和；

所述二级反渗透装置与所述EDL装置之间设置二级蓄水箱，所述二级蓄水箱为2吨容量水箱，设置液位开关，可随时检测、显示和控制除水箱的液位。

所述EDL装置包括增强迁移区、淡水室、浓水室、及离子交换树脂；所述增强迁移区用于去除强离子物质；所述淡水室的电导率就由所述离子交换树脂来维持；所述离子交换树脂作为加速离子从所述淡水室进到所述浓水室的导体；所述淡水室的出水压力必须大于所述浓水室的浓水出水压力。

所述氮封水箱设置液位开关，可随时检测、显示和控制水箱的液位。

所述循环过滤系统包括清洁剂水槽、纯水槽、超声波发送设备、及横移搬运系统；

通过同样的电流控制形成超声波，且在所述清洁剂水槽、及所述纯水槽的底部和侧部形成超声波，以清洁所述带清洗物品；

所述横移搬运系统，用于在所述清洁剂水槽、及所述纯水槽中搬运所述待清洗物品。

余氯是指水与氯族消毒剂接触一定时间后，余留在水中的氯。余氯有三种形式：1.总余氯：包括游离性余氯和化合性余氯。2.游离性余氯：包括HOCl及OCl-等。3.化合性余氯：包括NH2Cl、NHCl2、NCl3及其它氯胺类化合物。

如图2所示：精密过滤装置包括聚丙烯滤芯1，不锈钢外壳2，进水口3，杂质排出口4，出水口5；

精密过滤器装置内装聚丙烯滤芯1，过滤精度为5.0μm(公差为5.0μm±0.2)，外壳2为不锈钢结构，杂质通过杂质排出口4排出。

EDL装置：该装置是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合，将电渗析和离子交换技术相结合，利用两端电极高压使水中带电离子移动，并配合离子交换树脂及选择性树脂膜以加速离子移动去除，从而达到水纯化的目的。

氮封水箱，水箱设置液位开关，可随时检测、显示和控制水箱的液位。当氮封水箱到达高液位时，自动关闭DI装置实现DI水箱的自动补水，到低液位时，停止运行

本申请能够高效地制备高质量的去离子纯水，用于专用的超声波清洗设备，解决了玻璃制程物品表面的脏污、水印、白点、麻点等不良现象。

本申请对玻璃面板产品采用高效DI纯水制水装置通过超声波清洗，而超声波清洗工艺是在水槽槽底、槽壁安装超声波发生器来上下抛动超声清洗，水槽添加特殊碱性清洗剂，循环水槽采用特殊的过滤系统，配合特殊的清洗参数和时间，从而得到高洁净度玻璃产品完成精益表面处理。

本技术方案更好的表面处理了玻璃制品洁净度问题，且节约用水、延迟了过滤芯寿命、工艺操作性更简便提升了效率减低成本，从而实现精益化生产管理目的。

Claims (9)

1.一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，其特征在于，所述系统包括：

原水箱、原水泵、常规过滤器、阻垢剂装置、精密过滤器、一级反渗透装置、PH中和装置、二级反渗透装置、EDL装置、氮封水箱、及循环过滤系统；

其中，所述原水泵位于所述原水箱与所述常规过滤器之间，所述原水泵连接所述原水箱与所述常规过滤器；

所述常规过滤器连接所述阻垢剂装置；

所述阻垢剂装置连接所述精密过滤器过滤；

高压水泵连接所述精密过滤器与所述一级反渗透装置；

所述PH中和装置连接所述一级反渗透装置；

高压水泵连接所述PH中和装置与所述二级反渗透装置；

所述EDL装置连接增压水泵与所述氮封水箱；

所述氮封水箱连接所述循环过滤系统。

2.根据权利要求1所述的一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，其特征在于，所述原水箱为2吨容量水箱，所述原水箱配置自动补水装置，所述自动补水装置包括液位浮球开关；所述原水泵具有稳定水压或增加水压的作用，为预处理系统设备提供正常流量和正常压力。

3.根据权利要求2所述的一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，其特征在于，所述常规过滤器包括依次设置的介质过滤器、活性炭过滤器、软化过滤器、及保安过滤器：

所述介质过滤器为多介质过滤器；

所述活性炭过滤器内填活性炭，所述活性炭过滤器中的活性炭比表面积为500-700m2/g；

所述保安过滤器内部设置5um过滤网，用于过滤大于5um的颗粒进入反渗透过程。

4.根据权利要求3所述的一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，其特征在于，所述阻垢剂装置内部预先设置阻垢剂，所述阻垢剂装置由计量泵和加药箱组成。

5.根据权利要求4所述的一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，其特征在于，所述精密过滤器内装聚丙烯滤芯，过滤精度为5.0μm，所述精密过滤器外壳为不锈钢结构。

6.根据权利要求5所述的一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，其特征在于，所述一级反渗透装置包括RO膜、及膜壳；

所述一级反渗透装置及所述PH中和装置之间设置蓄水箱，所述蓄水箱设置液位开关，可随时检测、显示和控制所述一级反渗透装置及所述PH中和装置之间蓄水箱的液位，所述一级反渗透装置及所述PH中和装置之间蓄水箱为2吨容量水箱。

7.根据权利要求6所述的一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，其特征在于，所述PH中和装置内部设置碱性试剂，所述PH中和装置还包括PH显示表控制自动中和；

所述二级反渗透装置与所述EDL装置之间设置二级蓄水箱，所述二级蓄水箱为2吨容量水箱，设置液位开关，可随时检测、显示和控制除水箱的液位。

8.根据权利要求7所述的一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，其特征在于，所述EDL装置包括增强迁移区、淡水室、浓水室、及离子交换树脂。

9.根据权利要求8所述的一种用于高洁净度超声波清洗纯水制备系统，其特征在于，所述氮封水箱设置液位开关，可随时检测、显示和控制水箱的液位。

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