CN218769468U - 硅片稳定翻转装置 - Google Patents

Abstract

本申请揭示了一种硅片稳定翻转装置，包括：基座，内部设有安置腔，安置腔内部设置有安置条，安置条上设有定位件；翻转机构，包括第一驱动装置、翻转件和第一空窗，翻转件上设置有翻转吸盘；承接机构，包括第二驱动装置、承接件和第二空窗，承接件上设置有承接吸盘，其中，承接件和翻转件错位设置；转移装置。本实用新型提供的硅片稳定翻转装置，通过翻转件的翻转以及承接件的承接将硅片的翻转分解为两个步骤，每个步骤翻转吸盘或承接吸盘均位于硅片下侧对硅片进行承托，将硅片平稳放置，实现对硅片的稳定翻转，硅片不存在掉落的风险，硅片翻转的可靠性、稳定性更高。且仅通过定位件即能对硅片位置进行限定，结构简单，定位准确。

Description

硅片稳定翻转装置

技术领域

本实用新型涉及光伏太阳能电池技术领域，特别涉及一种硅片稳定翻转装置。

背景技术

在晶体硅太阳能电池的加工生产中，随着硅片加工工艺的不断改进，硅片的双面加工技术越来越成熟。目前，部分工艺为对硅片的双面分各个单面逐步进行加工，这就需要将单面完成加工的硅片翻转后再次进行加工。如在镀膜阶段，单面镀膜完成之后需要将硅片翻转，由于不能对硅片进行直接性的接触，所以需要人工使用小吸嘴逐片进行翻转，导致这一加工工序耗时又耗费人力，且有碎片的风险，翻转效率低下，生产成本高。

现有技术中也有利用吸盘对硅片进行翻转的装置，使用吸盘将硅片吸起来，然后由翻转气缸控制其翻转，不仅需要复杂的硅片定位机构，且当硅片重量较大时，硅片经过翻转位于吸盘下侧时，吸盘不能够牢牢的吸住硅片，存在硅片掉落的风险，利用吸盘对硅片进行翻转的装置可靠性、稳定性较低。

实用新型内容

本实用新型的主要目的为提供一种硅片稳定翻转装置，旨在解决当下硅片翻转设备定位机构复杂，且硅片进行翻转时可靠性、稳定性较低的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种硅片稳定翻转装置，包括：

基座，内部设有安置腔，所述安置腔内部设置有安置条，所述安置条设置于所述安置腔长度方向的中部且沿所述安置腔宽度方向延伸，所述安置条上设有定位件；

翻转机构，包括第一驱动装置、翻转件和第一空窗，所述第一驱动装置固定设置在所述基座前端面，所述翻转件铰接于所述安置条，所述翻转件上端面设置有至少一个翻转吸盘；

承接机构，包括第二驱动装置、承接件和第二空窗，所述第二驱动装置固定设置在所述基座后端面，所述承接件铰接于所述安置条，所述承接件上端面设置有至少一个承接吸盘，其中，所述承接件和所述翻转件错位设置，且位于所述安置条在所述安置腔长度方向的两侧；

转移装置，设置于所述基座宽度方向两端。

进一步地，所述转移装置的上表面超出于所述硅片稳定翻转装置的上表面。

进一步地，所述翻转件和所述承接件分别位于硅片宽度方向的两端，且在所述硅片宽度方向上间隔设置。

进一步地，多个所述翻转吸盘的上表面与所述翻转件上表面平齐；多个所述承接吸盘的上表面与所述承接件上表面平齐。

进一步地，所述翻转件上表面和所述承接件上表面设置有缓冲层。

进一步地，所述翻转件和所述承接件的上表面设置有防滑结构。

进一步地，所述基座上设置有与所述翻转吸盘连接的第一气压泵；所述基座上设置有与所述承接吸盘连接的第二气压泵。

进一步地，所述定位件上设置有柔性保护件。

进一步地，所述基座下端面设置有四个长度可调的支撑腿。

进一步地，所述支撑腿的长度采用液压的方式调节。

综上，本实用新型提供的硅片稳定翻转装置，通过翻转件的翻转以及承接件的承接将硅片的翻转分解为两个步骤，每个步骤翻转吸盘或承接吸盘均位于硅片下侧对硅片进行承托，将硅片平稳放置，实现对硅片的稳定翻转，硅片不存在掉落的风险，硅片翻转的可靠性、稳定性更高。且仅通过定位件即能对硅片位置进行限定，结构简单，定位准确。

附图说明

图1是本实用新型一实施例硅片稳定翻转装置的结构示意图；

图2是本实用新型一实施例硅片稳定翻转装置的主视图；

图3是本实用新型一实施例硅片稳定翻转装置的俯视图；

图4是图3中A-A处剖视图；

图5是图4中B处放大示意图；

图6是本实用新型一实施例硅片稳定翻转装置的工作示意图(初始状态)；

图7是本实用新型一实施例硅片稳定翻转装置的工作示意图(中间状态)；

图8是本实用新型一实施例硅片稳定翻转装置的工作示意图(结束状态)。

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”“上述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本实用新型的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件、单元、模块和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、单元、模块、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”或“耦接”到另一元件时，它可以直接连接或耦接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本实用新型所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

参照图1至8，本实用新型一实施例中，一种硅片稳定翻转装置，包括：

基座100，内部设有安置腔101，所述安置腔101内部设置有安置条102，所述安置条102设置于所述安置腔101长度方向的中部且沿所述安置腔101宽度方向延伸，所述安置条102上设有定位件103；

翻转机构200，包括第一驱动装置201、翻转件202和第一空窗203，所述第一驱动装置201固定设置在所述基座100前端面，所述翻转件202铰接于所述安置条102，所述翻转件202上端面设置有至少一个翻转吸盘205；

承接机构300，包括第二驱动装置301、承接件302和第二空窗303，所述第二驱动装置301固定设置在所述基座100后端面，所述承接件302铰接于所述安置条102，所述承接件302上端面设置有至少一个承接吸盘305，其中，所述承接件302和所述翻转件202错位设置，且位于所述安置条102在所述安置腔101长度方向的两侧；

转移装置400，设置于所述基座100宽度方向两端。

在晶体硅太阳能电池的加工生产中，随着硅片加工工艺的不断改进，硅片的双面加工技术越来越成熟。目前，部分工艺为对硅片的双面分各个单面逐步进行加工，这就需要将单面完成加工的硅片翻转后再次进行加工。如在镀膜阶段，单面镀膜完成之后需要将硅片翻转，由于不能对硅片进行直接性的接触，所以需要人工使用小吸嘴逐片进行翻转，导致这一加工工序耗时又耗费人力，且有碎片的风险，翻转效率低下，生产成本高。

现有技术中也有利用吸盘对硅片进行翻转的装置，使用吸盘将硅片吸起来，然后由翻转气缸控制其翻转，不仅需要复杂的硅片定位机构，且当硅片重量较大时，硅片经过翻转位于吸盘下侧时，吸盘不能够牢牢的吸住硅片，存在硅片掉落的风险，利用吸盘对硅片进行翻转的装置可靠性、稳定性较低。

本实用新型所有实施例中，硅片稳定翻转装置长度方向以及宽度方向的限定均参照转移装置400。通过翻转件202的翻转以及承接件302的承接将硅片的翻转分解为两个步骤，每个步骤翻转吸盘205或承接吸盘305均位于硅片下侧对硅片进行承托，将硅片平稳放置，实现对硅片的稳定翻转。具体在使用硅片稳定翻转装置时，硅片平稳的运转到翻转件202以及第一空窗203上，翻转件202处于水平状态时，安置腔101宽度方向上与基座100之间具有第一空窗203；承接件302处于水平状态时，其在安置腔101宽度方向上与基座100之间具有第二空窗303；第一空窗203与第二空窗303的存在降低了硅片表面被接触摩擦的可能。定位件103检测到硅片位于指定工作位置，翻转吸盘205吸附住硅片，第一驱动装置201驱动翻转件202顺时针转动，翻转件202托住硅片进行转动，翻转吸盘205带动硅片进行翻转；同时，第二驱动装置301驱动承接件302逆时针转动，当翻转件202和承接件302转动90度时，硅片夹持在翻转件202和承接件302之间。翻转件202和承接件302停止转动(以上的停止操作可以通过传感器实现或者通过固定步进驱动实现)，翻转吸盘205松开硅片，承接吸盘305吸附住硅片，翻转件202和承接件302反转，回到初始位置，对硅片进行平稳放置并准备进行下一次翻转，硅片在整个翻转过程中，由翻转件202和承接件302对硅片交替支撑，翻转吸盘205和承接吸盘305对硅片交替吸附，硅片不存在掉落的风险，硅片翻转的可靠性、稳定性更高。

需要说明的是，定位件103可以是接触传感器类结构从而能实现对于硅片是否到位的检测，翻转机构200与承接机构300的工作协调于定位件103；或者翻转机构200与承接机构300的工作是通过时间规则来限定的，具体当硅片运转到定位件103位置处以后，其被阻挡，当预设时间条件满足时，翻转机构200与承接机构300开始协调工作。

由于硅片在翻转过程中是间歇性运动的，那么转移装置400需要配合于硅片的翻转过程进行运动。具体的，当转移装置将硅片运载到翻转件202以及第一空窗203上的指定工作位置时，转移装置400停止工作；当承接件302完成硅片的翻转，将硅片平稳的放置在第二空窗303时，转移装置400继续工作，将翻转后的硅片运出并将下一块硅片运载到翻转件202以及第一空窗203上的指定工作位置，实现硅片的取放。

综上，本实用新型提供的硅片稳定翻转装置，通过翻转件202的翻转以及承接件302的承接将硅片的翻转分解为两个步骤，每个步骤翻转吸盘205或承接吸盘305均位于硅片下侧对硅片进行承托，将硅片平稳放置，实现对硅片的稳定翻转，硅片不存在掉落的风险，硅片翻转的可靠性、稳定性更高。且仅通过定位件103即能对硅片位置进行限定，结构简单，定位准确。

在一个实施例中，所述转移装置400的上表面超出于所述硅片稳定翻转装置的上表面。

在本实施例中，转移装置400的上表面超出的距离尺寸为1-5毫米。

在一个实施例中，所述翻转件202和所述承接件302分别位于硅片宽度方向的两端，且在所述硅片宽度方向上间隔设置。

翻转件202和承接件302分别位于硅片宽度方向的两端，不存在位置的重叠，在本实施例中，翻转件202和承接件302同时与硅片进行接触时可能会对硅片发生挤压，导致硅片的碎裂，通过对翻转件202和承接件302的位置进行限定，减少了翻转件202和承接件302同时与硅片进行接触时对硅片发生的挤压，减少了硅片的碎裂率。

在一个实施例中，多个所述翻转吸盘205的上表面与所述翻转件202上表面平齐；多个所述承接吸盘305的上表面与所述承接件302上表面平齐。

在本实施例中，以翻转件202的工作为例，多个翻转吸盘205的表面与翻转件202上表面平齐，使得硅片可以平稳的放置在翻转件202，同时避免硅片发生一端翘起，翻转吸盘205无法很好的对硅片进行吸附。

在一个实施例中，所述翻转件202上表面和所述承接件302上表面设置有缓冲层。

通过缓冲层，硅片放置在翻转件202和所述承接件302上时，硅片受到损伤的概率都会降低，且可以起到防滑的作用。以上缓冲层可以是橡胶等柔软的高分子材料。

在一个实施例中，所述翻转件202和所述承接件302的上表面设置有防滑结构。

翻转件202和承接件302的上表面设置有防滑结构，避免硅片在翻转过程中发生滑动，防滑结构可以是各种造型的防滑纹、防滑凸出等。

在一个实施例中，所述基座100上设置有与所述翻转吸盘205连接的第一气压泵204；所述基座100上设置有与所述承接吸盘305连接的第二气压泵304。

在本实施例中，第一气压泵204的工作适配于翻转件202的翻转，第二气压泵304的工作适配于承接件302。在对硅片进行翻转时，通过第一气压泵204和第二气压泵304的交替工作，实现翻转吸盘205和承接吸盘305对硅片的交替吸附，实现硅片的稳定翻转。避免硅片发生滑动，使得硅片表面受到摩擦从而发生损伤，影响硅片的性能。

在一个实施例中，所述定位件103上设置有柔性保护件。

硅片在进行翻转时，对定位件103会存在一定的抵持，柔性保护件可以对硅片进行一定的保护，柔性保护件可以采用硅胶、海绵以及橡胶等材质。

在一个实施例中，所述基座100下端面设置有四个长度可调的支撑腿104。

通过调整支撑腿104的长度进行调整，可以改变基座100的高度，从而可以匹配不同高度尺寸的转移装置400，实现不同工艺之间的硅片翻转。

在一个实施例中，所述支撑腿104的长度采用液压的方式调节。

通过液压的方式调节支撑腿104的长度，结构简单，调节方便且更加稳定。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种硅片稳定翻转装置，其特征在于，包括：

基座(100)，内部设有安置腔(101)，所述安置腔(101)内部设置有安置条(102)，所述安置条(102)设置于所述安置腔(101)长度方向的中部且沿所述安置腔(101)宽度方向延伸，所述安置条(102)上设有定位件(103)；

翻转机构(200)，包括第一驱动装置(201)、翻转件(202)和第一空窗(203)，所述第一驱动装置(201)固定设置在所述基座(100)前端面，所述翻转件(202)铰接于所述安置条(102)，所述翻转件(202)上端面设置有至少一个翻转吸盘(205)；

承接机构(300)，包括第二驱动装置(301)、承接件(302)和第二空窗(303)，所述第二驱动装置(301)固定设置在所述基座(100)后端面，所述承接件(302)铰接于所述安置条(102)，所述承接件(302)上端面设置有至少一个承接吸盘(305)，其中，所述承接件(302)和所述翻转件(202)错位设置，且位于所述安置条(102)在所述安置腔(101)长度方向的两侧；

转移装置(400)，设置于所述基座(100)宽度方向两端。

2.根据权利要求1所述的硅片稳定翻转装置，其特征在于，所述转移装置(400)的上表面超出于所述硅片稳定翻转装置的上表面。

3.根据权利要求1所述的硅片稳定翻转装置，其特征在于，所述翻转件(202)和所述承接件(302)分别位于硅片宽度方向的两端，且在所述硅片宽度方向上间隔设置。

4.根据权利要求1所述的硅片稳定翻转装置，其特征在于，多个所述翻转吸盘(205)的上表面与所述翻转件(202)上表面平齐；多个所述承接吸盘(305)的上表面与所述承接件(302)上表面平齐。

5.根据权利要求4所述的硅片稳定翻转装置，其特征在于，所述翻转件(202)上表面和所述承接件(302)上表面设置有缓冲层。

6.根据权利要求4所述的硅片稳定翻转装置，其特征在于，所述翻转件(202)和所述承接件(302)的上表面设置有防滑结构。

7.根据权利要求4所述的硅片稳定翻转装置，其特征在于，所述基座(100)上设置有与所述翻转吸盘(205)连接的第一气压泵(204)；所述基座(100)上设置有与所述承接吸盘(305)连接的第二气压泵(304)。

8.根据权利要求1所述的硅片稳定翻转装置，其特征在于，所述定位件(103)上设置有柔性保护件。

9.根据权利要求1所述的硅片稳定翻转装置，其特征在于，所述基座(100)下端面设置有四个长度可调的支撑腿(104)。

10.根据权利要求9所述的硅片稳定翻转装置，其特征在于，所述支撑腿(104)的长度采用液压的方式调节。

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