CN218675679U - 一种显影喷嘴装置及涂胶显影机 - Google Patents
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- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 title description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 51
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 36
- 238000003892 spreading Methods 0.000 claims description 14
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 9
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 8
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 8
- 238000010073 coating (rubber) Methods 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 14
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001410 Microfiber Polymers 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000003658 microfiber Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
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- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
本公开提供了显影喷嘴装置及涂胶显影机，显影喷嘴装置包括容置槽、喷嘴以及驱动组件，驱动组件与喷嘴连接，以使喷嘴用于沿指定路径移动，喷嘴具有出液部，指定路径上至少具有第一位置和第二位置，第一位置位于所述容置槽内，第二位置上设置有吸附件，吸附件在喷嘴移动至第二位置时，用于与出液部接触以吸附挂于出液部上的液滴。本公开的显影喷嘴装置用于吸附挂于出液部上的液滴，有效避免了在进行EBR流程之前喷嘴出液部上形成挂滴，进而避免了对已喷涂完成的光刻胶造成影响。
Description
技术领域
本公开涉及半导体制备技术领域，尤其涉及一种显影喷嘴装置及涂胶显影机。
背景技术
近年来，随着半导体产业迅速发展，对于晶圆的光刻显影的质量要求也不断提升。在光刻显影制程中，需要将光刻胶旋涂在晶圆表面上，其中，光刻胶的成分一般包括感光树脂、增感剂和溶剂。在旋涂时，光刻胶由于旋转离心力容易从晶圆中心分散至晶圆边缘，光刻胶分散至晶圆边缘时大分部的溶剂已经蒸发，且晶圆边缘的相对气流较大，使溶剂在晶圆边缘蒸发的速度较晶圆中心更快。因此，当溶剂减少后光刻胶的粘性变大，进而造成晶圆边缘发生光刻胶堆积的现象。由于光刻胶堆积会在后续的制程中发生接触碰撞等原因产生颗粒，污染晶圆及设备，所以为了去除晶圆边缘处堆积的光刻胶，通常设置冲洗管道并连通喷嘴，向晶圆边缘处喷涂清洗剂，该过程称为晶圆边缘抗蚀剂去除(Wafer Edge ResistRemove，简称EBR)。
然而，由于冲洗管道内使用的清洗剂通常为黏稠程度较低的稀释剂，冲洗管道的内外压差容易导致冲洗喷嘴在空闲状态时，稀释剂会从冲洗喷嘴溢出，缓慢形成挂滴现象，进而导致在进行EBR流程时，喷涂稀释剂会发生溅射现象，造成不规则的稀释剂喷淋到晶圆非边缘区域的光刻胶上，最终破坏晶圆非边缘区域已喷涂完成的光刻胶。
实用新型内容
本公开提供了一种显影喷嘴装置及涂胶显影机，以至少解决现有技术中存在的部分技术问题。
根据本公开的第一方面，提供了一种显影喷嘴装置，包括容置槽、喷嘴以及驱动组件，所述驱动组件与所述喷嘴连接，以使所述喷嘴用于沿指定路径移动，所述喷嘴具有出液部，所述指定路径上至少具有第一位置和第二位置，所述第一位置位于所述容置槽内，所述第二位置上设置有吸附件，所述吸附件在所述喷嘴移动至所述第二位置时，用于与所述出液部接触以吸附挂于所述出液部上的液滴。
在一可实施方式中，所述第二位置位于所述容置槽内，或所述第二位置位于所述容置槽外。
在一可实施方式中，所述容置槽内设置有吸附槽，所述吸附件设置在所述吸附槽内。
在一可实施方式中，所述吸附槽具有与所述容置槽相连通的第一排出部。
在一可实施方式中，所述吸附槽的槽口与所述容置槽的槽口处于同一水平面上。
在一可实施方式中，所述吸附槽将所述容置槽分隔为第一空间和第二空间，所述第一位置位于所述第一空间内，所述第二位置位于所述第二空间内。
在一可实施方式中，所述吸附件堆叠设置于所述吸附槽的底部。
在一可实施方式中，所述容置槽的底部开设有第二排出部，所述第二排出部与所述第一排出部相通。
在一可实施方式中，所述指定路径上还具有第三位置和第四位置，所述第三位置位于所述第一位置正上方、与所述第一位置之间形成第一路径，所述第四位置位于所述第二位置正上方，所述第三位置与所述第四位置之间形成第二路径，所述第四位置与所述第二位置之间形成第三路径；其中，所述第一路径和所述第三路径分别与所述第二路径满足垂直条件。
根据本公开的第二方面，提供了一种涂胶显影机，包括涂胶腔体，还包括有如上述任意一项可实施方式中所述的显影喷嘴装置，所述显影喷嘴装置设置于所述涂胶腔体的旁侧，所述指定路径上还具有喷洒位置，在所述喷嘴移动至所述喷洒位置时，所述出液部位于所述涂胶腔体内。
本公开中，由于显影喷嘴装置的喷嘴在指定路径上具有第二位置，且第二位置处设置有吸附件，当喷嘴移动至第二位置时，喷嘴的出液部用于与吸附件接触，从而吸附挂于出液部上的液滴，有效避免了在进行EBR流程之前喷嘴出液部上形成挂滴，进而避免了对已喷涂完成的光刻胶造成影响。
应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本公开的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
通过参考附图阅读下文的详细描述，本公开示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本公开的若干实施方式，其中：
在附图中，相同或对应的标号表示相同或对应的部分。
图1示出了本公开一个示例性实施例显影喷嘴装置的整体结构示意图(出液部处于第一位置)；
图2示出了本公开一个示例性实施例显影喷嘴装置的整体结构示意图(出液部处于第二位置)；
图3示出了本公开一个示例性实施例显影喷嘴装置的整体结构示意图(第二位置位于容置槽外)；
图4示出了本公开另一个示例性实施例涂胶显影机的整体结构示意图。
图中标号说明：1、容置槽；2、喷嘴；3、吸附件；4、第一排出部；5、第二排出部；6、涂胶腔体；10、吸附槽；11、第一空间；12、第二空间；21、出液部。
具体实施方式
为使本公开的目的、特征、优点用于更加的明显和易懂，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而非全部实施例。基于本公开中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
下面将结合附图详细地说明本公开的实施例。
参照图1和图2所示，本公开一个示例性实施例的显影喷嘴装置，包括容置槽1、喷嘴2以及驱动组件(图中未示出)，驱动组件与喷嘴2连接，以使喷嘴2用于沿指定路径移动，根据实际生产需要，驱动组件可以为包括但不限于油缸、气缸和电机等，以驱动喷嘴2移动。喷嘴2具有出液部21，指定路径上至少具有第一位置和第二位置，其中，第一位置位于容置槽1内，第二位置上设置有吸附件3，吸附件3在喷嘴2移动至第二位置时，用于与出液部21接触以吸附挂于出液部21上的液滴。
在本实施方式中，喷嘴2指定路径上的第一位置为喷嘴2在空闲状态时的初始位置。当喷嘴2处于第一位置时，由于与喷嘴2连接的冲洗管道(图中未示出)存在内外压差，容易导致稀释剂从喷嘴2的出液部21溢出，缓慢形成挂于出液部21上的液滴；当驱动组件驱动喷嘴2移动至第二位置时，由于第二位置处设置有吸附件3，喷嘴2的出液部21用于与吸附件3接触，从而吸附挂于出液部21上的液滴，有效避免了在进行EBR流程之前喷嘴2出液部21上形成挂滴，进而避免了对已喷涂完成的光刻胶造成影响。具体的，吸附件3采用包括但不限于超细纤维无尘布，此类超细纤维无尘布不仅有更好的吸附微小颗粒的能力，而且具有使用寿命长，吸水力强，且使用时不会造成出液部21表面磨损。在实际使用过程中，应根据需要定期对吸附件3进行更换，如，每两周更换一次吸附件3。
在一可实施方式中，指定路径上的第二位置位于容置槽1内，或第二位置位于容置槽1外(参照图3所示)。
在本实施方式中，当第二位置位于容置槽1内时，可在容置槽1内的第二位置处直接堆叠设置吸附件3，若要吸附挂于出液部21上的液滴，可在驱动组件的驱动下，使喷嘴2由第一位置沿水平方向直接移动至第二位置处。当第二位置位于容置槽1外时，则需单独设置吸附件3的容置空间，并且若要吸附挂于出液部21上的液滴，可在驱动组件的驱动下，使喷嘴2由第一位置先移出至容置槽1外，再伸入至单独设置的容置空间内，即第二位置处。
在一可实施方式中，容置槽1内设置有吸附槽10，吸附件3设置于吸附槽10内。
在本实施方式中，参照图1中示出的显影喷嘴装置，由于在容置槽1内设置了吸附槽10，容置槽1在图中长度方向上相较于现有容置槽1，应增加3.0cm～8.0cm(应当理解的是，此处的3.0cm和8.0cm并非绝对的3.0cm和8.0cm，可以在公差允许范围内稍有偏差)。此外，吸附槽10还可以设置于容置槽1外，此时，吸附件3仍设置于吸附槽10内，容置槽1和吸附槽10的整体长度相较于现有容置槽1，增加了3.0cm～8.0cm(应当理解的是，此处的3.0cm和8.0cm并非绝对的3.0cm和8.0cm，可以在公差允许范围内稍有偏差)。
进一步地，在一可实施方式中，吸附槽10具有与容置槽1相连通的第一排出部4。
在本实施方式中，通过设置第一排出部4，使吸附槽10与容置槽1连通，以保证吸附槽10内吸附的溶剂通过第一排出部4排出至容置槽1外部。
更进一步地，吸附槽10的槽口与容置槽1的槽口处于同一水平面上，便于喷嘴2的移动。在驱动组件驱动喷嘴2移动时，首先使喷嘴2由第一位置沿竖直方向移出至容置槽1外，再沿水平方向移动至吸附槽10上方，继而再次沿竖直方向移动，伸入至吸附槽10内的第二位置处。
可以理解的是，吸附槽10将容置槽1分隔为第一空间11和第二空间12，第一位置位于第一空间11内，第二位置位于第二空间12内。其中，第一空间11位于容置槽1内，用于容置未进行出液部21上液滴吸附的喷嘴2。
在一可实施方式中，吸附件3堆叠设置于吸附槽10的底部。在本实施方式中，吸附件3具体采用包括但不限于超细纤维无尘布，此类超细纤维无尘布不仅有更好的吸附微小颗粒的能力，而且具有使用寿命长，吸水力强，且使用时不会造成出液部21表面磨损。吸附件3堆叠设置于吸附槽10底部，以吸附挂于出液部21上的液滴。在实际使用过程中，应根据需要定期对吸附件3进行更换，如，每两周更换一次吸附件3。
在一可实施方式中，容置槽1的底部开设有第二排出部5，第二排出部5与第一排出部4相通。
在本实施方式中，第二排出部5连通厂务端有机溶剂下排口，以便排出吸附槽10内吸附的溶剂以及容置槽1内的溶剂。
在一可实施方式中，喷嘴2移动的指定路径上还具有第三位置和第四位置，第三位置位于第一位置正上方、与第一位置之间形成第一路径，第四位置位于第二位置正上方，第三位置与第四位置之间形成第二路径，第四位置与第二位置之间形成第三路径。其中，第一路径和第三路径分别与第二路径满足垂直条件。
在本实施方式中，第一路径位于竖直方向上，第二路径位于水平方向上，第一路径和第三路径满足平行条件。在实际生产过程中，喷嘴2首先沿第一路径由第一位置移动至第三位置，再沿第二路径由第三位置移动至第四位置，最后由第四位置沿第三路径移动至第二位置，从而接触吸附件3。
参照图4所示，本公开还提供了一种涂胶显影机，包括涂胶腔体6，还包括有如上述任意一项可实施方式中的显影喷嘴装置，显影喷嘴装置设置于涂胶腔体6的旁侧，喷嘴2的指定路径上还具有喷洒位置，在喷嘴2移动至喷洒位置时，出液部21位于涂胶腔体6内。
在本实施方式中，喷洒位置位于容置槽1外部，在实际生产中，首先在驱动组件的驱动下，喷嘴2由第一位置移动至第二位置，完成对挂于出液部21上的液滴的吸附，吸附完成后，再驱动喷嘴2由第二位置移动至喷洒位置，从而进行后续进程。本公开中通过对涂胶显影机设置显影喷嘴装置，以吸附挂于出液部21上的液滴，有效避免了在进行EBR流程之前喷嘴2出液部21上形成挂滴，进而避免了对已喷涂完成的光刻胶造成影响。
本公开的描述中，需要理解的是，方位词所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本公开和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开保护范围的限制；方位词“内”、“外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。
为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述图中所示的一个或多个部件或特征与其他部件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语不但包含部件在图中所描述的方位，还包括使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的部件被整体倒置，则部件“在其他部件或特征上方”或“在其他部件或特征之上”的将包括部件“在其他部件或构造下方”或“在其他部件或构造之下”的情况。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。此外，这些部件或特征也可以其他不同角度来定0位(例如旋转90度或其他角度)，本文意在包含所有这些情况。
需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本公开的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组合。
需要说明的是，本公开的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本公开的实施方式用于以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。
本公开已经通过上述实施例进行了说明，但应当理解的是，上述实施例只是用于举例和说明的目的，而非意在将本公开限制于所描述的实施例范围内。此外本领域技术人员可以理解的是，本公开并不局限于上述实施例，根据本公开的教导还可以做出更多种的变型和修改，这些变型和修改均落在本公开所要求保护的范围以内。本公开的保护范围由附属的权利要求书及其等效范围所界定。
Claims (10)
1.一种显影喷嘴装置，其特征在于，包括容置槽(1)、喷嘴(2)以及驱动组件，所述驱动组件与所述喷嘴(2)连接，以使所述喷嘴(2)用于沿指定路径移动，所述喷嘴(2)具有出液部(21)，所述指定路径上至少具有第一位置和第二位置，所述第一位置位于所述容置槽(1)内，所述第二位置上设置有吸附件(3)，所述吸附件(3)在所述喷嘴(2)移动至所述第二位置时，用于与所述出液部(21)接触以吸附挂于所述出液部(21)上的液滴。
2.根据权利要求1所述的显影喷嘴装置，其特征在于，所述第二位置位于所述容置槽(1)内，或所述第二位置位于所述容置槽(1)外。
3.根据权利要求1所述的显影喷嘴装置，其特征在于，所述容置槽(1)内设置有吸附槽(10)，所述吸附件(3)设置在所述吸附槽(10)内。
4.根据权利要求3所述的显影喷嘴装置，其特征在于，所述吸附槽(10)具有与所述容置槽(1)相连通的第一排出部(4)。
5.根据权利要求3所述的显影喷嘴装置，其特征在于，所述吸附槽(10)的槽口与所述容置槽(1)的槽口处于同一水平面上。
6.根据权利要求3所述的显影喷嘴装置，其特征在于，所述吸附槽(10)将所述容置槽(1)分隔为第一空间(11)和第二空间(12)，所述第一位置位于所述第一空间(11)内，所述第二位置位于所述第二空间(12)内。
7.根据权利要求3所述的显影喷嘴装置，其特征在于，所述吸附件(3)堆叠设置于所述吸附槽(10)的底部。
8.根据权利要求4所述的显影喷嘴装置，其特征在于，所述容置槽(1)的底部开设有第二排出部(5)，所述第二排出部(5)与所述第一排出部(4)相通。
9.根据权利要求1-8中任意一项所述的显影喷嘴装置，其特征在于，所述指定路径上还具有第三位置和第四位置，所述第三位置位于所述第一位置正上方、与所述第一位置之间形成第一路径，所述第四位置位于所述第二位置正上方，所述第三位置与所述第四位置之间形成第二路径，所述第四位置与所述第二位置之间形成第三路径；其中，所述第一路径和所述第三路径分别与所述第二路径满足垂直条件。
10.一种涂胶显影机，包括涂胶腔体(6)，其特征在于，还包括有如权利要求1-9中任意一项所述的显影喷嘴装置，所述显影喷嘴装置设置于所述涂胶腔体(6)的旁侧，所述指定路径上还具有喷洒位置，在所述喷嘴(2)移动至所述喷洒位置时，所述出液部(21)位于所述涂胶腔体(6)内。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202223161967.7U CN218675679U (zh) | 2022-11-25 | 2022-11-25 | 一种显影喷嘴装置及涂胶显影机 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202223161967.7U CN218675679U (zh) | 2022-11-25 | 2022-11-25 | 一种显影喷嘴装置及涂胶显影机 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN218675679U true CN218675679U (zh) | 2023-03-21 |
Family
ID=85540768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202223161967.7U Active CN218675679U (zh) | 2022-11-25 | 2022-11-25 | 一种显影喷嘴装置及涂胶显影机 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN218675679U (zh) |
-
2022
- 2022-11-25 CN CN202223161967.7U patent/CN218675679U/zh active Active
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|
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