CN218666237U - 一种箱式真空镀膜机的进出料机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，具体是一种箱式真空镀膜机的进出料机构，包括：箱体，所述箱体上设置有箱门，所述箱体顶部设置有真空设备，用于箱体内的真空处理，所述箱体内还固定安装有镀膜设备，所述镀膜设备一侧设置有靶材，用于镀膜处理；靶材放置组件，所述靶材放置组件设置在箱体内的镀膜设备一侧，用于镀膜时镀膜材料靶材的放置处理；送料组件，所述送料组件设置在靶材放置组件一侧，用于对靶材放置组件内放置的靶材进行输送从而使得靶材达到镀膜设备内进行镀膜；该机构在镀膜机进行镀膜时能够自动的将镀膜靶材传递至镀膜机内进行镀膜，从而提高镀膜工作效率与质量。

Description

一种箱式真空镀膜机的进出料机构

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，具体是一种箱式真空镀膜机的进出料机构。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中。

现有的真空镀膜机在进行基片镀膜时，需要对待镀膜的基片进行供料处理，及将靶材送入镀膜机内的基片上部从而进行基片镀膜处理，现有的靶材送料方式是每次将镀膜机打开，然后将靶材放置在基片上，然后关闭镀膜机并进行抽真空处理，然后进行镀膜，但是该种镀膜方式效率较低，且难以保证基片与靶材相对应。

因此，我们提出一种箱式真空镀膜机的进出料机构用已经解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种箱式真空镀膜机的进出料机构，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种箱式真空镀膜机的进出料机构，包括：箱体，所述箱体上设置有箱门，所述箱体顶部设置有真空设备，用于箱体内的真空处理，所述箱体内还固定安装有镀膜设备，所述镀膜设备一侧设置有靶材，用于镀膜处理；

靶材放置组件，所述靶材放置组件设置在箱体内的镀膜设备一侧，用于镀膜时镀膜材料靶材的放置处理；

送料组件，所述送料组件设置在靶材放置组件一侧，用于对靶材放置组件内放置的靶材进行输送从而使得靶材达到镀膜设备内进行镀膜。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

该镀膜机送料机构在使用时，能够将镀膜机工作时使用的靶材自动输送至镀膜设备内，从而进行镀膜处理，在进行镀膜送料时首先将靶材放置在靶材放置组件内，然后通过送料组件将靶材推动至一侧的镀膜机内，从而可进行镀膜时的自动送料工作。

附图说明

图1为一种箱式真空镀膜机的进出料机构的主视图。

图2为一种箱式真空镀膜机的进出料机构的主剖视图。

图3为一种箱式真空镀膜机的进出料机构的放置框架的俯视图。

图4为一种箱式真空镀膜机的进出料机构放置框架左视图。

图5为一种箱式真空镀膜机的进出料机构的固定槽框的后视图。

图中：1-箱体，2-箱门，3-真空设备，4-镀膜设备，5-放置框架，6-弹簧，7-压板，8-靶材，9-固定槽框，10-滑槽，11-转动板，12-摇板，13-活动槽，14-固定柱，15-滑块，16-推块，17-锁定螺母，18-落料框。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。

下面详细描述本专利的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利，而不能理解为对本专利的限制。

请参阅图1和图2和图3和图4和图5，本实用新型实施例中，一种箱式真空镀膜机的进出料机构，包括：箱体1，所述箱体1上设置有箱门2，所述箱体1顶部设置有真空设备3，用于箱体1内的真空处理，所述箱体1内还固定安装有镀膜设备4，所述镀膜设备4一侧设置有靶材8，用于镀膜处理；

靶材放置组件，所述靶材放置组件设置在箱体1内的镀膜设备一侧，用于镀膜时镀膜材料靶材8的放置处理；

送料组件，所述送料组件设置在靶材放置组件一侧，用于对靶材放置组件内放置的靶材8进行输送从而使得靶材8达到镀膜设备4内进行镀膜。

在本实施例中，工作之前首先将待使用的靶材8依次放入箱体1内的靶材放置组件内，然后关闭箱体1的箱门2，利用真空设备3对箱体1内部进行真空处理，工作时通过送料组件对靶材放置组件上放置的靶材8进行自动送料，从而将靶材8传送至镀膜设备4内进行镀膜处理。

请参阅图2和图3和图4，本实施例中，所述靶材放置组件包括：

放置框架5，所述放置框架5固定在箱体1的内部一侧，所述靶材8依次叠放在放置框架5内；

弹簧6，所述弹簧6一端固定在放置框架5的顶部，所述弹簧6另一端连接有置于放置框架5内侧的压板7，用于压制放置框架5内的靶材8向下运动；

落料框18，所述落料框18固定在放置框架5的底部，用于靶材8的掉落承载并方便由落料框18内推动送料。

在本实施例中，当进行靶材8的放置时，将压板7上移，将靶材8放置在压板7一侧的放置框架5内，当使用时，通过弹簧6对压板7施压从而使得压板7带动靶材8向下运动，利用送料组件推动靶材8运动，然后完成自动送料工作。

请参阅图2和图4和图5，本实施例中，所述送料组件包括：

转动板11，所述转动板11设置在放置框架5一侧的箱体1内部，且所述转动板11一端的板体上固定有固定柱14；

摇板12，所述摇板12转动安装在转动板11一侧的箱体1上且所述摇板12上设置有活动槽13，所述固定柱14设置在活动槽13内；

固定槽框9，所述固定槽框9固定在落料框18一侧且所述固定槽框9上设置有滑槽10，所述滑槽10内滑动安装有滑块15，所述摇板12一端转动安装在滑块15上，且所述滑块15一侧设置有推块16。

请参阅图4和图5，本实施例中，所述推块16与滑块15之间设置有锁定螺母17，所述推块16在滑块15上的安装位置可调节变化，从而使得推块16推动靶材8的距离得以变化。

本实施例中，所述落料框18设置有开口，从而方便推块16随着滑块15运动时在落料框18内推动靶材8。

在本实施例中，当进行靶材8的送料工作时，通过转动板11转动带动其上的固定柱14随之转动，从而使得固定柱14带动摇板12进行摇摆，而摇板12摇摆时带动摇板12另一端的滑块15在固定槽框9内的滑槽10内运动，从而使得滑块15带动另一侧的推块16随之运动，此时推块16由落料框18一侧的开口处推动与放置框架5连接的落料框18内的靶材8前进，从而将靶材8推动至镀膜设备4内进行镀膜处理。

工作原理：工作时，首先将靶材8放置在压板7一侧的放置框架5内，当使用时，通过弹簧6对压板7施压从而使得压板7带动靶材8向下运动，然后关闭箱门2，通过真空设备3进行箱体1内的真空处理，然后进行镀膜工作，镀膜时，通过驱动转动板11转动带动其上的固定柱14随之转动，从而使得固定柱14带动摇板12进行摇摆，而摇板12摇摆时带动摇板12另一端的滑块15在固定槽框9内的滑槽10内运动，从而使得滑块15带动另一侧的推块16随之运动，此时推块16由落料框18一侧的开口处推动与放置框架5连接的落料框18内的靶材8前进，从而将靶材8推动至镀膜设备4内进行镀膜处理。

以上的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些也应该视为本实用新型的保护范围，这些都不会影响本实用新型实施的效果和专利的实用性。

Claims (5)

1.一种箱式真空镀膜机的进出料机构，其特征在于，包括：箱体，所述箱体上设置有箱门，所述箱体顶部设置有真空设备，用于箱体内的真空处理，所述箱体内还固定安装有镀膜设备，所述镀膜设备一侧设置有靶材，用于镀膜处理；

靶材放置组件，所述靶材放置组件设置在箱体内的镀膜设备一侧，用于镀膜时镀膜材料靶材的放置处理；

送料组件，所述送料组件设置在靶材放置组件一侧，用于对靶材放置组件内放置的靶材进行输送从而使得靶材达到镀膜设备内进行镀膜。

2.根据权利要求1所述的一种箱式真空镀膜机的进出料机构，其特征在于，所述靶材放置组件包括：

放置框架，所述放置框架固定在箱体的内部一侧，所述靶材依次叠放在放置框架内；

弹簧，所述弹簧一端固定在放置框架的顶部，所述弹簧另一端连接有置于放置框架内侧的压板，用于压制放置框架内的靶材向下运动；

落料框，所述落料框固定在放置框架的底部，用于靶材的掉落承载并方便由落料框内推动送料。

3.根据权利要求2所述的一种箱式真空镀膜机的进出料机构，其特征在于，所述送料组件包括：

转动板，所述转动板设置在放置框架一侧的箱体内部，且所述转动板一端的板体上固定有固定柱；

摇板，所述摇板转动安装在转动板一侧的箱体上且所述摇板上设置有活动槽，所述固定柱设置在活动槽内；

固定槽框，所述固定槽框固定在落料框一侧且所述固定槽框上设置有滑槽，所述滑槽内滑动安装有滑块，所述摇板一端转动安装在滑块上，且所述滑块一侧设置有推块。

4.根据权利要求3所述的一种箱式真空镀膜机的进出料机构，其特征在于，所述推块与滑块之间设置有锁定螺母，所述推块在滑块上的安装位置可调节变化，从而使得推块推动靶材的距离得以变化。

5.根据权利要求3所述的一种箱式真空镀膜机的进出料机构，其特征在于，所述落料框设置有开口，从而方便推块随着滑块运动时在落料框内推动靶材。

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