CN218655904U - 真空等离子表面处理机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了真空等离子表面处理机。该真空等离子表面处理机包括机架、真空处理箱、用于为所述真空处理箱提供真空环境的抽真空组件、真空电极、用于为所述真空处理箱内通入气体的通气组件、多个电源放电极、多个放电极板和多个用于放置待处理产品的产品放置板，真空处理箱安装在所述机架内，抽真空组件安装在机架内，且抽真空组件的输出端与所述真空处理箱连接，所述真空电极安装在所述真空处理箱一侧，通气组件安装在所述真空处理箱一侧，多个电源放电极安装在所述真空处理箱内，本实用新型的真空等离子表面处理机生产成本低，装置简单，易操作维修，可连续运行，同时，能够稳定且高效低对待处理产品表面进行处理。

Description

真空等离子表面处理机

技术领域

本实用新型涉及真空等离子表面处理机的技术领域，特别是真空等离子表面处理机。

背景技术

真空等离子机表面处理机，一种用于表面处理前处理的一种工艺设备，目的是使产品表面处理的效果更好，更牢固，通过高压电场和射频电源激励氩气，氦气等气体成为等离子态基团，等离子态基团有正离子、负离子、自由基和各种活性基团等，作用到产品表面，能清除表面原有的微量污染物和杂质；此过程也会产生刻蚀作用，能够将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品表面的粗糙比例，提高了固体表面的粘合及浸润性能；

虽然，真空等离子机表面处理机在目前的点胶，喷墨打印，粘接等工艺方面越来越被普及，但仍然面临质量不可靠，不稳定的问题，同时，现有技术中的真空等离子机表面处理机对产品的细小缝隙和深孔处理效果不佳。

因此迫切地需要重新设计一款新的真空等离子表面处理机以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型提供了真空等离子表面处理机，以解决上述背景技术中提出的技术问题。

本实用新型提供了真空等离子表面处理机，该真空等离子表面处理机包括机架、真空处理箱、用于为所述真空处理箱提供真空环境的抽真空组件、真空电极、用于为所述真空处理箱内通入气体的通气组件、多个电源放电极、多个放电极板和多个用于放置待处理产品的产品放置板，所述真空处理箱安装在所述机架内，所述抽真空组件安装在所述机架内，且所述抽真空组件的输出端与所述真空处理箱连接，所述真空电极安装在所述真空处理箱一侧，所述通气组件安装在所述真空处理箱一侧，多个所述电源放电极安装在所述真空处理箱内，且所述真空电极伸入所述真空处理箱内的一端与所述电源放电极连接，所述放电极板依次安装在所述真空处理箱内，且所述放电极板与所述电源放电极抵接，所述产品放置板等间距安装在所述真空处理箱内。

可选地，所述抽真空组件包括真空泵、金属波纹管和抽真空管道阀，所述真空泵安装在所述机架底部，所述抽真空管道阀安装在所述真空处理箱一端，且所述抽真空管道阀与所述真空处理箱连通，所述金属波纹管一端与所述真空泵输出端连接，所述金属波纹管另一端与所述抽真空管道阀连接。

可选地，所述通气组件包括氩气通气电磁阀、氮气通气电磁阀和电磁先导式控制阀，所述氩气通气电磁阀安装在所述真空处理箱一侧，所述氮气通气电磁阀安装在所述氩气通气电磁阀一侧，所述电磁先导式控制阀安装在所述氮气通气电磁阀一侧。

可选地，所述电磁先导式控制阀上安装有用于减弱气流噪音的消音器。

可选地，所述氩气通气电磁阀外侧安装有用于检测所述氩气通气电磁阀内氩气流量的氩气流量控制仪。

可选地，所述真空处理箱侧壁上安装有用于检测所述真空处理箱内真空压力值的皮拉尼真空压力计。

可选地，所述真空处理箱侧壁上安装有用于检测所述真空处理箱内温度的温度感应器。

可选地，所述产品放置板与所述放电极板之间设置有绝缘件。

可选地，所述机架内安装有用于为所述真空电极提供电量的高压RF射频电源。

可选地，所述机架内设置有用于控制所述高压RF射频电源工作状态的控制电箱。

本实用新型的有益效果如下：

该真空等离子表面处理机包括机架、真空处理箱、用于为所述真空处理箱提供真空环境的抽真空组件、真空电极、用于为所述真空处理箱内通入气体的通气组件、多个电源放电极、多个放电极板和多个用于放置待处理产品的产品放置板，所述真空处理箱安装在所述机架内，所述抽真空组件安装在所述机架内，且所述抽真空组件的输出端与所述真空处理箱连接，所述真空电极安装在所述真空处理箱一侧，所述通气组件安装在所述真空处理箱一侧，多个所述电源放电极安装在所述真空处理箱内，且所述真空电极伸入所述真空处理箱内的一端与所述电源放电极连接，所述放电极板依次安装在所述真空处理箱内，且所述放电极板与所述电源放电极抵接，所述产品放置板等间距安装在所述真空处理箱内，其中，本实用新型的真空等离子表面处理机生产成本低，装置简单，易操作维修，可连续运行，同时，能够稳定且高效低对待处理产品表面进行处理。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1是本实用新型提供的真空等离子表面处理机的第一视角的结构示意图；

图2是本实用新型提供的真空等离子表面处理机的第二视角的结构示意图；

图3是本实用新型提供的真空等离子表面处理机的真空处理箱的第一视角的结构示意图；

图4是本实用新型提供的真空等离子表面处理机的真空处理箱的第二视角的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本实用新型的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

请参阅图1至图4，本实用新型的真空等离子表面处理机包括机架100、真空处理箱200、用于为所述真空处理箱200提供真空环境的抽真空组件、真空电极400、用于为所述真空处理箱200内通入气体的通气组件、多个电源放电极600、多个放电极板700和多个用于放置待处理产品的产品放置板800；

所述真空处理箱200安装在所述机架100内，所述抽真空组件安装在所述机架100内，且所述抽真空组件的输出端与所述真空处理箱200连接，所述真空电极400安装在所述真空处理箱200一侧，所述通气组件安装在所述真空处理箱200一侧，多个所述电源放电极600安装在所述真空处理箱200内，且所述真空电极400伸入所述真空处理箱200内的一端与所述电源放电极600连接，所述放电极板700依次安装在所述真空处理箱200内，且所述放电极板700与所述电源放电极600抵接，所述产品放置板800等间距安装在所述真空处理箱200内；

其中，机架100对本实用新型内的各个结构均起到固定支撑的作用，当用户需要使用本实用新型的真空等离子表面处理机对产品表面进行处理时，首先，将待处理产品放置于产品放置板800内，然后，将真空处理箱200关闭，抽真空组件进入工作状态，从而抽真空组件对真空处理箱200内进行抽真空动作，然后，通气组件进入工作状态，通气组件为真空处理箱200内通入稀有气体，然后，真空电极400通高压电，真空电极400使得电源放电极600通电，进而电源放电极600使得放电极板700通电，放电极板700对通入真空处理箱200内的稀有气体进行高压电离，将真空处理箱200内的稀有气体电离成等离子体，通过等离子体的物理和化学特性将产品的表面进行改性；

同时，真空等离子表面处理机相较于传统的化学试剂处理方法，更加环保，适应性强，可处理金属、陶瓷、半导体、大多数高分子材料，成本低，装置简单，易操作维修，可连续运行，处理的产品形状无限制。

在本实施例中，所述抽真空组件包括真空泵310、金属波纹管320和抽真空管道阀330，所述真空泵310安装在所述机架100底部，所述抽真空管道阀330安装在所述真空处理箱200一端，且所述抽真空管道阀330与所述真空处理箱200连通，所述金属波纹管320一端与所述真空泵310输出端连接，所述金属波纹管320另一端与所述抽真空管道阀330连接。

其中，当抽真空组件需要对真空处理箱200进行抽真空动作时，首先，真空泵310进入工作状态，真空泵310进行抽气动作，然后，通过金属波纹管320和抽真空管道阀330对真空处理箱200内进行抽真空动作。

在本实施例中，所述通气组件包括氩气通气电磁阀510、氮气通气电磁阀520和电磁先导式控制阀530，所述氩气通气电磁阀510安装在所述真空处理箱200一侧，所述氮气通气电磁阀520安装在所述氩气通气电磁阀510一侧，所述电磁先导式控制阀530安装在所述氮气通气电磁阀520一侧。

其中，氩气通气电磁阀510与外界通气管道连接用于控制氩气是否进入至真空处理箱200内，氮气通气电磁阀520与外界通气管道连接用于控制氮气是否进入至真空处理箱200内，电磁先导式控制阀530与外界通气管道连接用于控制外界正常空气是否进入至真空处理箱200内；

值得说明的是，氩气通气电磁阀510、氮气通气电磁阀520和电磁先导式控制阀530三者工作节点不同，抽真空组件工作时，限位真空处理箱200内通入氩气，然后，真空电极400进入工作状态，对氩气进行电离，此时真空处理箱200内会发出淡紫红色的微光，当电离时间足够长时，氮气通气电磁阀520为真空处理箱200内通入氮气，通气时间达到预设时间后，电磁先导式控制阀530进入工作状态，使真空处理箱200内进入空气，腔体内压力与大气压力保持平衡，然后打开真空处理箱200，取出产品。

在本实施例中，所述电磁先导式控制阀530上安装有用于减弱气流噪音的消音器531。

其中，消音器531能够减少电磁先导式控制阀530在工作时产生的噪音。

在本实施例中，所述氩气通气电磁阀510外侧安装有用于检测所述氩气通气电磁阀510内氩气流量的氩气流量控制仪511。

其中，氩气流量控制仪511能够实时显示氩气通气电磁阀510内通过的氩气含量，从而实现对通入真空处理箱200内氩气含量的精准控制。

在本实施例中，所述真空处理箱200侧壁上安装有用于检测所述真空处理箱200内真空压力值的皮拉尼真空压力计220。

在本实施例中，所述真空处理箱200侧壁上安装有用于检测所述真空处理箱200内温度的温度感应器210。

在本实施例中，所述产品放置板800与所述放电极板700之间设置有绝缘件810。

其中，绝缘件810能够保证放电极板700的工作安全性，从而放置漏电现象的发生。

在本实施例中，所述机架100内安装有用于为所述真空电极400提供电量的高压RF射频电源110。

在本实施例中，所述机架100内设置有用于控制所述高压RF射频电源110工作状态的控制电箱120。

其中，用户可以通过控制电箱120来实现对高压RF射频电源110工作状态的智能化控制。

该真空等离子表面处理机包括机架100、真空处理箱200、用于为所述真空处理箱200提供真空环境的抽真空组件、真空电极400、用于为所述真空处理箱200内通入气体的通气组件、多个电源放电极600、多个放电极板700和多个用于放置待处理产品的产品放置板800，所述真空处理箱200安装在所述机架100内，所述抽真空组件安装在所述机架100内，且所述抽真空组件的输出端与所述真空处理箱200连接，所述真空电极400安装在所述真空处理箱200一侧，所述通气组件安装在所述真空处理箱200一侧，多个所述电源放电极600安装在所述真空处理箱200内，且所述真空电极400伸入所述真空处理箱200内的一端与所述电源放电极600连接，所述放电极板700依次安装在所述真空处理箱200内，且所述放电极板700与所述电源放电极600抵接，所述产品放置板800等间距安装在所述真空处理箱200内，其中，本实用新型的真空等离子表面处理机生产成本低，装置简单，易操作维修，可连续运行，同时，能够稳定且高效低对待处理产品表面进行处理。

以上所述仅为本实用新型的实施方式，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种真空等离子表面处理机，其特征在于，包括

机架；

真空处理箱，所述真空处理箱安装在所述机架内；

用于为所述真空处理箱提供真空环境的抽真空组件，所述抽真空组件安装在所述机架内，且所述抽真空组件的输出端与所述真空处理箱连接；

真空电极，所述真空电极安装在所述真空处理箱一侧；

用于为所述真空处理箱内通入气体的通气组件，所述通气组件安装在所述真空处理箱一侧；

多个电源放电极，多个所述电源放电极安装在所述真空处理箱内，且所述真空电极伸入所述真空处理箱内的一端与所述电源放电极连接；

多个放电极板，所述放电极板依次安装在所述真空处理箱内，且所述放电极板与所述电源放电极抵接；

多个用于放置待处理产品的产品放置板，所述产品放置板等间距安装在所述真空处理箱内。

2.根据权利要求1所述的真空等离子表面处理机，其特征在于，所述抽真空组件包括真空泵、金属波纹管和抽真空管道阀，所述真空泵安装在所述机架底部，所述抽真空管道阀安装在所述真空处理箱一端，且所述抽真空管道阀与所述真空处理箱连通，所述金属波纹管一端与所述真空泵输出端连接，所述金属波纹管另一端与所述抽真空管道阀连接。

3.根据权利要求1所述的真空等离子表面处理机，其特征在于，所述通气组件包括氩气通气电磁阀、氮气通气电磁阀和电磁先导式控制阀，所述氩气通气电磁阀安装在所述真空处理箱一侧，所述氮气通气电磁阀安装在所述氩气通气电磁阀一侧，所述电磁先导式控制阀安装在所述氮气通气电磁阀一侧。

4.根据权利要求3所述的真空等离子表面处理机，其特征在于，所述电磁先导式控制阀上安装有用于减弱气流噪音的消音器。

5.根据权利要求3所述的真空等离子表面处理机，其特征在于，所述氩气通气电磁阀外侧安装有用于检测所述氩气通气电磁阀内氩气流量的氩气流量控制仪。

6.根据权利要求1所述的真空等离子表面处理机，其特征在于，所述真空处理箱侧壁上安装有用于检测所述真空处理箱内真空压力值的皮拉尼真空压力计。

7.根据权利要求1所述的真空等离子表面处理机，其特征在于，所述真空处理箱侧壁上安装有用于检测所述真空处理箱内温度的温度感应器。

8.根据权利要求1所述的真空等离子表面处理机，其特征在于，所述产品放置板与所述放电极板之间设置有绝缘件。

9.根据权利要求1所述的真空等离子表面处理机，其特征在于，所述机架内安装有用于为所述真空电极提供电量的高压RF射频电源。

10.根据权利要求9所述的真空等离子表面处理机，其特征在于，所述机架内设置有用于控制所述高压RF射频电源工作状态的控制电箱。

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