CN218539802U - 一种便于清洗的蒸镀机转盘 - Google Patents
一种便于清洗的蒸镀机转盘 Download PDFInfo
- Publication number
- CN218539802U CN218539802U CN202223082421.2U CN202223082421U CN218539802U CN 218539802 U CN218539802 U CN 218539802U CN 202223082421 U CN202223082421 U CN 202223082421U CN 218539802 U CN218539802 U CN 218539802U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- wall
- convenient
- clean
- cell body
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
一种便于清洗的蒸镀机转盘,包括转盘本体、阵列开设在所述转盘本体上的槽体,还包括和所述槽体内壁接触的防着套、沿所述防着套顶部环形设置且和所述槽体顶部接触的闭合环圈,所述防着套包括散热部以及耐热部,所述散热部的外壁和所述槽体内壁接触,所述散热部的内壁和所述耐热部固定连接。本实用新型通过设置防着套,可避免金属蒸发物沉着在槽体内部,便于清洁;通过设置闭合环圈,使得闭合环圈与槽体上表面进行抵持以形成闭合,防止金属蒸发物粘结在槽体内壁上;通过在闭合环圈的外端面上设置夹持口,便于对防着套进行更换。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体生产设备技术领域,特别是一种便于清洗的蒸镀机转盘。
背景技术
金属蒸发台(蒸镀机)是半导体芯片制造行业常用的真空镀膜设备,真空镀膜真空蒸镀是在4.00E-5Pa的压力下,采用电子束加热的方式使镀膜材料蒸发,并成为具有一定能量的气态粒子(原子、分子或原子团),蒸发的气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式传输到基底,然后在基底上凝聚成金属薄膜。然而在蒸发中由于Hearth内壁采用直接接触的方式,使蒸发物直接附着在内壁上,清洁时采用刀片刮擦的方式不但费时费力,而且容易污染腔室,影响生产效率和良率,经过长时间的清理而且会给Hearth转盘造成不可逆的损伤,这给生产和设备工程人员造成严重的困扰。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种便于清洗的蒸镀机转盘,以解决背景技术中提出的问题。
本实用新型的技术解决方案是:一种便于清洗的蒸镀机转盘,包括转盘本体、阵列开设在所述转盘本体上的槽体,还包括和所述槽体内壁接触的防着套、沿所述防着套顶部环形设置且和所述槽体顶部接触的闭合环圈,所述防着套包括散热部以及耐热部,所述散热部的外壁和所述槽体内壁接触,所述散热部的内壁和所述耐热部固定连接。
进一步的,所述闭合环圈的外表面具有外端面,所述外端面为弧形。
进一步的,所述外端面上对称开设有夹持口,夹持口的存在便于对防着套进行更换。
进一步的,所述散热部由铜箔制成。
进一步的,所述耐热部为热解石墨镀层,热解石墨镀层可避免裂缝的产生。
进一步的,所述防着套的底部环形设有抵持边,所述抵持边为弧形,且和所述槽体内壁底部相接触,抵持边的存在使得防着套可获得更多的摩擦力,从而进一步避免镀膜作业时发生移动。
本实用新型有益效果是:
与现有技术相比,本实用新型通过设置防着套,可避免金属蒸发物沉着在槽体内部,便于清洁;通过设置闭合环圈,使得闭合环圈与槽体上表面进行抵持以形成闭合,防止金属蒸发物粘结在槽体内壁上;通过在闭合环圈的外端面上设置夹持口,便于对防着套进行更换。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为防着套示意图;
图3为防着套剖视图;
具体实施方式
下面结合附图以实施例对本实用新型作进一步说明。
本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释,其并不是对本实用新型的限制,本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改,但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。
实施例,如图1-3所示,一种便于清洗的蒸镀机转盘,包括转盘本体1、阵列开设在转盘本体1上的槽体101,还包括和槽体101内壁接触的防着套2、沿防着套2顶部环形设置且和槽体101顶部接触的闭合环圈3,防着套2包括散热部201以及耐热部202,散热部201的外壁和槽体101内壁接触,散热部201的内壁和耐热部202固定连接,本实用新型通过设置防着套2,可避免金属蒸发物沉着在槽体101内部,便于清洁;通过设置闭合环圈3,使得闭合环圈3与槽体101上表面进行抵持以形成闭合,防止金属蒸发物粘结在槽体101内壁上。
在本实用新型的一个可选的实施方式中,闭合环圈3的外表面具有外端面301,外端面301为弧形,外端面301上对称开设有夹持口302,夹持口302的存在用于在镀膜作业完毕后方便工作人员进行夹持,便于对防着套2进行更换。
在本实用新型的一个可选的实施方式中,散热部201由铜箔制成,耐热部202为热解石墨镀层,根据转盘本体1(纯铜材料)的特性,材料选择方面选择了镀一层热解石墨的铜箔作为材料(外侧靠近槽体101内壁为铜箔,内侧为热解石墨涂层),内侧由于靠近坩埚,在高温高压下普通材料很容易变形产生裂缝,而采用石墨材料很好的解决了这一点,它的耐热性在真空下其熔点高达3000℃、热膨胀系数、散热性以及化学稳定性都很好,从而避免裂缝的产生。
在本实用新型的一个可选的实施方式中,防着套2的底部环形设有抵持边4,抵持边4为弧形,且和槽体101内壁底部相接触,抵持边4的存在使得防着套2可获得更多的摩擦力,从而进一步避免镀膜作业时发生移动,且抵持边4与槽体101的底部相抵触的面积更大,在镀膜作业结束后槽体101底部会进行散热处理,进而可加快转盘本体1的散热。
Claims (6)
1.一种便于清洗的蒸镀机转盘,包括转盘本体(1)、阵列开设在所述转盘本体(1)上的槽体(101),其特征在于:还包括和所述槽体(101)内壁接触的防着套(2)、沿所述防着套(2)顶部环形设置且和所述槽体(101)顶部接触的闭合环圈(3),所述防着套(2)包括散热部(201)以及耐热部(202),所述散热部(201)的外壁和所述槽体(101)内壁接触,所述散热部(201)的内壁和所述耐热部(202)固定连接。
2.根据权利要求1所述的一种便于清洗的蒸镀机转盘,其特征在于:所述闭合环圈(3)的外表面具有外端面(301),所述外端面(301)为弧形。
3.根据权利要求2所述的一种便于清洗的蒸镀机转盘,其特征在于:所述外端面(301)上对称开设有夹持口(302)。
4.根据权利要求1所述的一种便于清洗的蒸镀机转盘,其特征在于:所述散热部(201)由铜箔制成。
5.根据权利要求1所述的一种便于清洗的蒸镀机转盘,其特征在于:所述耐热部(202)为热解石墨镀层。
6.根据权利要求1所述的一种便于清洗的蒸镀机转盘,其特征在于:所述防着套(2)的底部环形设有抵持边(4),所述抵持边(4)为弧形,且和所述槽体(101)内壁底部相接触。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202223082421.2U CN218539802U (zh) | 2022-11-21 | 2022-11-21 | 一种便于清洗的蒸镀机转盘 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202223082421.2U CN218539802U (zh) | 2022-11-21 | 2022-11-21 | 一种便于清洗的蒸镀机转盘 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN218539802U true CN218539802U (zh) | 2023-02-28 |
Family
ID=85263185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202223082421.2U Active CN218539802U (zh) | 2022-11-21 | 2022-11-21 | 一种便于清洗的蒸镀机转盘 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN218539802U (zh) |
-
2022
- 2022-11-21 CN CN202223082421.2U patent/CN218539802U/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI491750B (zh) | 圓筒形濺鍍靶材及其製造方法 | |
EP2863426B1 (en) | Thermal interface sheet, preparation method therefor and cooling system therefor | |
CN103521916A (zh) | 靶材组件的焊接方法 | |
JP2013123062A (ja) | ハブを有するウエハキャリア | |
CN102500908A (zh) | 钨靶材组件的焊接方法 | |
TWI725549B (zh) | 靜電卡盤及反應腔室 | |
CN209243159U (zh) | 一种用于蒸发镀膜的装置 | |
US4367556A (en) | Rotary-anode X-ray tube | |
CN218539802U (zh) | 一种便于清洗的蒸镀机转盘 | |
CN108060406A (zh) | 遮挡压盘组件、半导体加工装置和方法 | |
CN101811209A (zh) | 靶材组件的制作方法 | |
CN105479007A (zh) | 一种铸造Ti3Al系合金盘件缺陷激光焊补修复方法 | |
JPH05217532A (ja) | X線管陽極の焦点トラック構造とその製造法 | |
CN111719141A (zh) | 旋转承载盘结构及承载盘 | |
CN208923079U (zh) | 静电卡盘及反应腔室 | |
KR20130010557A (ko) | 반도체 제조장비용 핫플레이트 | |
CN202530153U (zh) | 一种用于电子束蒸发镀膜的新结构蒸发材料 | |
CN201437549U (zh) | 蒸镀装置 | |
JPS634702B2 (zh) | ||
CN114921631A (zh) | 一种防粘黏效果好的热处理炉载盘 | |
CN216445453U (zh) | 减少蒸镀过程中热量损耗的坩埚 | |
CN212152428U (zh) | 一种半导体镀膜用晶片防护装置 | |
CN100516284C (zh) | 蒸镀装置 | |
JP2009084680A (ja) | 蒸着方法及び蒸着装置 | |
CN111218672A (zh) | Mocvd加热器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |