CN2185178Y - 球加工研磨盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及球加工研球机中研磨盘的改进
——球加工研磨盘是由上盘和下盘组成,其特征是上
盘是固定盘,下盘是转动盘,在下盘面上有1~10条
轨迹为椭圆形的研球沟槽,是V形槽,研磨盘采用金
属、陶瓷、大理石材料制成。本实用新型大大简化了
球加工工艺使粗磨、细磨、精磨一次完成,采用椭圆形
轨迹研球槽可保证球磨削机率的一致性,高效率加工
高等级精度的球。
Description
本实用新型专利涉及对各类圆球,如:金属球、陶瓷球、轴承球、阀球等球加工专用设备研球机中研磨盘的改进。
目前,国内外对研球加工用研磨盘,其结构是上、下两盘,盘面上的研球槽轨迹为圆形,研球沟槽呈V形槽。近年来为提高球加工精度又采用两种新式研磨盘,一种为偏V形研球沟槽式研磨盘;另一种为锥面上盘研磨盘。这两种研磨盘的研球轨迹都是圆形的,仅限于精研用,使用一段时间后偏V形槽和锥所产生的研磨效果就不十分明显了。
本实用新型球加工研磨盘目的是为研球机提供一种新式的,能高质量、高效率加工圆球的研磨盘,使加工工艺简单,可加工出精度高、一致性好、等级高的圆球。
本实用新型球加工研磨盘内容简述:
本实用新型球加工研磨盘是由上盘和下盘组成的,其特征在于:上盘为固定盘,盘面是平面;下盘为转动盘,在盘面上加工有1~10条轨迹为椭圆形的研球沟槽,椭圆长短轴比值在0.98~0.1之间,椭圆的中心与下盘转动中心之间的距离与椭圆长轴比值在0~0.95之间,研球沟槽形状呈V形槽,V形槽的角度为80~90度、上、下盘可采用金属、陶瓷、大理石等材料制成。
本实用新型球加工研磨盘采用椭圆形轨迹的研球沟槽,在研球过程中由于束服轨迹形状的改变,使球进行空间转动的力不论在数量和方向上都大大增加,使球的运动状态得以改善,能更好的进行空间360度的转动,保证了加工球面上各点的磨削机率的一致性,从而能高效率地加工出高等级的圆球,使加工后的球可提高1~3个等级精度。在此研磨盘上可以粗磨、细磨、精磨一次完成,大大简化了球加工工艺也扩大了上盘的有效使用面积,减少了修盘次数,延长了研磨盘的使用寿命。
实施例:
图1为球加工研磨盘结构示意图
图2为球加工研磨盘下盘俯视图
图中:1为上盘,上盘是固定盘,盘面呈平面状;2为下盘,下盘是转动盘,在盘面上加工有1~10条轨迹为椭圆形的研球沟槽3椭圆长短轴的比值在0.98~0.1之间,椭圆的中心与下盘转动中心之间的距离与椭圆长轴比值在0~0.95之间,上、下盘可采用金属、陶瓷、大理石等材料制成。当进行球加工时,球在研球沟槽内在沿椭圆形轨迹进行空间360度的转动,同时球面各点与研球沟槽、上盘、磨粒之间进行等机率磨削,保证了球精度的一致性,可高效率、高成品率、大批量生产高等级球。
Claims (1)
1、一种球加工研磨盘,是由上盘和下盘组成的,其特征在于:上盘为固定盘,盘面是平面;下盘为转动盘,在盘面上加工有1~10条轨迹为椭圆形的研球沟槽,椭圆长短轴比值在0.98~0.1之间,椭圆的中心与下盘转动中心之间的距离与椭圆长轴比值在0~0.95之间,研球沟槽形状呈V形槽,V形槽的角度为80~90度,上、下盘可采用金属、陶瓷、大理石材料制成。
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CN 94225112 CN2185178Y (zh) | 1994-01-18 | 1994-01-18 | 球加工研磨盘 |
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CN2185178Y true CN2185178Y (zh) | 1994-12-14 |
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ID=33838373
Family Applications (1)
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CN 94225112 Expired - Fee Related CN2185178Y (zh) | 1994-01-18 | 1994-01-18 | 球加工研磨盘 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1994
- 1994-01-18 CN CN 94225112 patent/CN2185178Y/zh not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C19 | Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |