CN218491836U - 一种板材表面处理靶台结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种板材表面处理靶台结构，包括：腔体，所述腔体具有适于容置板材的空间，且所述腔体的侧壁上设有离子源接口；轨道，所述轨道设于所述腔体内；夹持机构，所述夹持机构与所述轨道滑动连接，且适于夹持所述板材。本实用新型的方案可以实现板材的表面处理，实现离子束清洗和镀膜的一体化处理，在不破坏原有真空条件的情况下，完成板材的离子束清洗和镀膜，从而有效提高板材镀膜的处理质量和效率。

Description

一种板材表面处理靶台结构

技术领域

本实用新型涉及装置结构设计技术领域，特别是指一种板材表面处理靶台结构。

背景技术

离子束溅射镀膜是真空镀膜的一种方式，属于材料表面处理技术。离子束溅射镀膜技术于20世纪70年代被发现，随后得到了空前的发展，通过离子束溅射镀膜形成的薄膜，具有均匀性好，结合强度高等特点；

为了保证薄膜的结合强度，需要在离子束溅射镀膜前，进行板材表面预处理，离子束清洗作为材料表面预处理的一种方式，能有效将板材表面的污染物清理干净，获得良好的膜基结合界面，在原有的处理工艺中，板材的清洗和镀膜均需在真空条件下进行，每交替进行一次清洗和镀膜工艺，都需要破坏真空后安装好靶材和镀膜板材，并重新获取真空条件，这会让经过离子束清洗后的板材表面重新遭到氧化和污染，从而导致离子束镀膜质量变差，使得离子束清洗和离子束镀膜的工艺冗长，处理效率低。

实用新型内容

本实用新型提供一种板材表面处理靶台结构，可以解决在交替进行板材的清洗和镀膜工艺时，对真空条件造成破坏，导致板材表面遭到氧化和污染的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案如下：

一种板材表面处理靶台结构，包括：

腔体，所述腔体具有适于容置板材的空间，且所述腔体的侧壁上设有离子源接口；

轨道，所述轨道设于所述腔体内；

夹持机构，所述夹持机构与所述轨道滑动连接，且适于夹持所述板材。

可选的，所述腔体的底部设有真空管道连接口。

可选的，所述轨道上设有至少两个固定孔，所述轨道通过所述固定孔与所述腔体内部的上壁固定连接。

可选的，所述夹持机构包括：

连接部，所述连接部与所述轨道滑动连接；

夹持部，所述夹持部与所述连接部连接，适于夹持所述板材。

可选的，所述连接部呈T字形，所述轨道具有滑槽；所述连接部的T字形顶部嵌入所述滑槽内，T字形底部向所述滑槽外延伸，适于使所述连接部与所述轨道滑动连接。

可选的，所述夹持部的底部设有固定槽，所述固定槽适于夹持所述板材。

可选的，所述板材表面处理靶台结构，还包括：收集板；所述夹持机构为多个，至少一个所述夹持机构夹持所述收集板。

可选的，所述板材表面处理靶台结构，还包括：靶材，所述夹持机构为多个，至少一个所述夹持机构夹持所述靶材。

可选的，所述固定槽呈T字形。

可选的，所述轨道呈工字形。

本实用新型的上述方案至少包括以下有益效果：

本实用新型所述的板材表面处理靶台结构，包括：腔体，轨道，夹持机构；所述腔体具有适于容置板材的空间，且所述腔体的侧壁上设有离子源接口；所述轨道设于所述腔体内；所述夹持机构与所述轨道滑动连接，且适于夹持所述板材。能够实现板材的表面处理，实现离子束清洗和镀膜的一体化处理，在不破坏原有真空条件的情况下，完成板材的离子束清洗和镀膜，从而有效提高板材镀膜的处理质量和效率。

附图说明

图1是本实用新型的板材表面处理靶台结构的透视图；

图2是本实用新型的轨道和夹持机构的剖面结构示意图。

附图标记说明：1、腔体；11、离子源接口；12、真空管道连接口；2、轨道；21、固定孔；3、夹持机构；31、连接部；32、夹持部；33、控制部；321、固定槽；4、板材；41、收集板；42、靶材。

具体实施方式

下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。

如图1所示，本实用新型的实施例提出一种板材表面处理靶台结构，包括：腔体1，轨道2，夹持机构3；所述腔体1具有适于容置板材4的空间，且所述腔体1的侧壁上设有离子源接口11；所述轨道2设于所述腔体1内；所述夹持机构3与所述轨道2滑动连接，且适于夹持所述板材4。

需要说明的是，所述离子源接口11适于连接离子源系统，所述离子源系统适于向所述腔体1内放射离子束；所述离子源系统可以是多个设备的组合，包括但不限于：离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机；所述离子源系统可以为现有技术中的设备，只要能够实现放射离子束或者辅助放射离子束即可。

本实用新型的该实施例中，通过所述板材表面处理靶台结构，由所述离子源接口11向所述腔体1内释放离子束，进而可以实现对板材的表面处理，在所述腔体1内可以完成离子束对板材4的清洗和镀膜，实现离子束清洗和镀膜的一体化处理，在不破坏原有真空条件的情况下，完成板材的离子束清洗和镀膜，从而有效提高板材镀膜的处理质量和效率。

另外，所述腔体1上可以设有送料门，所述送料门适于送料或取料。

如图1所示，本实用新型一可选的实施例中，所述腔体1的底部设有真空管道连接口12。

本实施例中，所述真空管道接口12可以连接真空管道，所述真空管道可以连接真空系统，所述真空系统适于为所述腔体1内部制造真空条件，即：将所述腔体1内部的空气抽至所述壳体外部，使得所述腔体1内部处于真空状态；所述真空系统可以是多个设备的组合，包括但不限于：机械泵、分子泵；所述真空系统可以为现有技术中的设备，只要能够将所述腔体1内部的空气抽至所述腔体1外部即可。

如图1或图2所示，本实用新型又一可选的实施例中，所述轨道2上设有至少两个固定孔21，所述轨道2通过所述固定孔21与所述腔体1内部的上壁固定连接。

其中，所述轨道2呈工字形，工字形轨道可以为3条，每条轨道内至少可以嵌入一个所述夹持机构3。这样能够满足所述夹持机构3的移动需求，便于所述板材4位置的移动和更换。

本实施例中，可以采用但不限于螺接的方式，使得所述轨道2通过所述固定孔21与所述腔体1的内部上壁固定连接。这样的连接方式结实牢固，这样的连接位置便于所述板材4的清洗和镀膜。

如图2所示，本实用新型又一可选的实施例中，所述夹持机构3包括：连接部31，夹持部32；所述连接部31与所述轨道2滑动连接；所述夹持部32与所述连接部31连接，适于夹持所述板材4。

本实施例中，通过所述夹持机构3可以实现对所述板材4的夹持，将所述板材4平稳的悬挂于所述腔体1内部进行实验，同时实现所述板材4位置的移动，从而在对所述板材4进行离子束清洗后，移动所述板材4的位置，再进行所述板材4的离子束镀膜；这样能够在不破坏原有真空条件的情况下，完成所述板材4的离子束清洗和镀膜，有效提高板材镀膜的处理质量和效率。

需要说明的是，所述夹持机构3还可以包括：控制部33，所述控制部33可以设于所述连接部31和所述夹持部32之间，适于控制所述连接部31在所述轨道2上滑动，或者控制所述夹持部32实现360度旋转；

所述控制部33内部可以集成电机、传感器等装置，可以通过设于所述腔体1外部侧壁上的控制面板，或者与所述腔体1连接的控制柜，实现对所述夹持部32的旋转控制，以及对所述连接部31在所述轨道2上的滑动控制。

如图2所示，本实用新型又一可选的实施例中，所述连接部31呈T字形，所述轨道2具有滑槽；所述连接部31的T字形顶部嵌入所述滑槽内，T字形底部向所述滑槽外延伸，适于使所述连接部31与所述轨道2滑动连接。

本实施例中，所述连接部31的T字形顶部嵌入所述滑槽内，所述连接部31的T字形顶部可以在所述滑槽内来回移动；T字形底部向所述滑槽外延伸，并与所述夹持部32连接，所述夹持部32适于夹持所述板材4。这样可以在不破坏原有真空条件的情况下，实现所述板材4的离子束清洗和镀膜，有效提高板材镀膜的处理质量和效率。

如图2所示，本实用新型又一可选的实施例中，所述夹持部32的底部设有固定槽321，所述固定槽321适于夹持所述板材4。

其中，所述固定槽321呈T字形，适于夹持所述板材4的边框。

本实施例中，T字形的所述固定槽321，可以实现对所述板材4的平稳悬挂，便于实验。

如图1和图2所示，本实用新型又一可选的实施例中，所述板材表面处理靶台结构，还可以包括：收集板41；所述夹持机构3为多个，至少一个所述夹持机构3夹持所述收集板41。

本实施例中，所述收集板41可以在对所述板材4进行清洗时，通过吸附等方式，将所述板材4上脱落的污染物收集起来。这样能够防止污染物再次粘附到所述板材4上，影响清洗效果，同时，能够保持所述腔体1内部的洁净，从而有效提升镀膜效果。具体而言，可以调整所述收集板41在所述轨道2的位置，使所述收集板41的位置处于所述板材4的一侧，所述板材4位于所述离子源接口11与所述收集板41之间，且所述板材4与所述离子源接口11之间的连线、所述板材4与所述收集板41之间的连线呈小于180度的夹角。由所述离子源接口11输入的离子束打在所述板材4上时，所述收集板41位于能够捕捉所述板材4上脱落的污染物的位置上。

如图1所示，本实用新型又一可选的实施例中，所述板材表面处理靶台结构，还可以包括：靶材42，所述夹持机构3为多个，至少一个所述夹持机构3夹持所述靶材42。

本实施例中，所述靶材42的材料可以包括但限于：铝、铜、不锈钢、钛、镍，所述靶材42的材料可以根据所述板材4的镀膜需要进行确定。这样能够通过离子束溅射，将所述靶材42的材料镀膜至所述板材4上，从而实现离子束镀膜。具体而言，可以调整所述靶材42在所述轨道2的位置，使所述靶材42的位置处于所述板材4的一侧，所述靶材42位于所述离子源接口11与所述收集板41之间，且所述靶材42与所述离子源接口11之间的连线、所述靶材42与所述板材4之间的连线呈小于180度的夹角。由所述离子源接口11输入的离子束打在所述靶材42上时，所述板材4位于能够捕捉所述靶材42上脱落的镀膜物的位置上。

本实用新型所述的板材表面处理靶台结构的使用方法如下：

操作者首先检查各系统状态，确认各系统具备实验条件后，打开所述腔体1上的送样门，将所述板材4、所述收集板41和所述靶材42夹持在其各自对应的所述夹持机构3的夹持部32的固定槽321上；

通过所述腔体1外部侧壁上设置的控制面板或者连接的控制柜，控制所述板材4、所述收集板41和所述靶材42对应的所述夹持机构3沿所述轨道2移动至各自的第一目标位置，关闭送样门；

打开真空系统，通过所述真空管道连接口12连接的管道将所述腔体1内部的空气全部抽至所述腔体1外部，使得所述腔体1内部处于真空状态；

打开离子源系统放射离子束，离子束通过所述离子源接口溅射至所述板材4上，对所述板材4进行离子束清洗，离子束折射至所述收集板41上，所述板材4表面脱落的污染物被所述收集板41收集，经过预设时间后，完成离子束清洗；

关闭所述离子源系统，此时所述腔体1内部仍保持真空状态，并控制所述板材4、所述收集板41和所述靶材42对应的所述夹持机构3沿所述轨道2移动至各自的第二目标位置；

打开所述离子源系统放射离子束，离子束通过所述离子源接口溅射至所述靶材42上，并折射到所述板材4上，对所述板材4进行镀膜，经过预设时间后，完成离子束镀膜；

操作者关闭所述离子源系统，待所述腔体1内部完全冷却后，打开送样门，将所述所述板材4、所述收集板41和所述靶材42取下并拿出。

本实用新型的上述实施例中，通过所述板材表面处理靶台结构，可以将所述板材4进行离子束清洗后，在不破坏原有真空的条件下，移动至目标位置，实现板材的离子束镀膜，有效地将对所述板材4的离子束清洗处理和离子束镀膜处理一体化，从而提高了处理效率和镀膜质量，操作简单、且易于控制。

以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种板材表面处理靶台结构，其特征在于，包括：

腔体(1)，所述腔体(1)具有适于容置板材(4)的空间，且所述腔体(1)的侧壁上设有离子源接口(11)；

轨道(2)，所述轨道(2)设于所述腔体(1)内；

夹持机构(3)，所述夹持机构(3)与所述轨道(2)滑动连接，且适于夹持所述板材(4)。

2.根据权利要求1所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，所述腔体(1)的底部设有真空管道连接口(12)。

3.根据权利要求1所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，所述轨道(2)上设有至少两个固定孔(21)，所述轨道(2)通过所述固定孔(21)与所述腔体(1)内部的上壁固定连接。

4.根据权利要求3所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，所述夹持机构(3)包括：

连接部(31)，所述连接部(31)与所述轨道(2)滑动连接；

夹持部(32)，所述夹持部(32)与所述连接部(31)连接，适于夹持所述板材(4)。

5.根据权利要求4所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，所述连接部(31)呈T字形，所述轨道(2)具有滑槽；所述连接部(31)的T字形顶部嵌入所述滑槽内，T字形底部向所述滑槽外延伸，适于使所述连接部(31)与所述轨道(2)滑动连接。

6.根据权利要求4所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，所述夹持部(32)的底部设有固定槽(321)，所述固定槽(321)适于夹持所述板材(4)。

7.根据权利要求1所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，还包括：收集板(41)；所述夹持机构(3)为多个，至少一个所述夹持机构(3)夹持所述收集板(41)。

8.根据权利要求1所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，还包括：靶材(42)，所述夹持机构(3)为多个，至少一个所述夹持机构(3)夹持所述靶材(42)。

9.根据权利要求6所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，所述固定槽(321)呈T字形。

10.根据权利要求1所述的板材表面处理靶台结构，其特征在于，所述轨道(2)呈工字形。

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