CN218485582U - 气体处理装置和基片处理装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型提供能够减少溶解液的使用量的气体处理装置和基片处理装置。气体处理装置包括管道、分隔板和液供给部。管道在内部具有供气体通过的流路。分隔板是将流路分隔为多个空间的分隔板，由能够透过气体且能够保持液体的多孔材料形成。液供给部对分隔板供给能够溶解气体中包含的对象成分的溶解液。并且，气体处理装置使通过流路的气体与被保持在分隔板中的溶解液接触。

Description

气体处理装置和基片处理装置
技术领域
本实用新型涉及气体处理装置和基片处理装置。
背景技术
从对半导体晶片等基片进行处理的基片处理装置排出的排出气体中，有时含有在基片的处理中使用的药品的成分，例如酸成分、碱成分、有机成分。
含有药品成分的排出气体由于被释放到大气中而有可能对环境、人体造成影响。因此，有时在基片处理装置中的排出气体的排气管路设置有从排出气体中除去药品成分的被称为排出气体处理器(scrubber)的除去装置。
专利文献1中公开了一种排出气体处理器，其具有在内部设置有将溶解排出气体中包含的药品成分的溶解液喷出的喷嘴的壳体，通过使从喷嘴喷出的溶解液与被导入到壳体的内部的排出气体接触，而从排出气体中除去药品成分。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2010-114307号公报
实用新型内容
实用新型要解决的技术问题
本实用新型提供一种能够减少溶解液的使用量的技术。
用于解决技术问题的技术方案
本实用新型的一个方式的气体处理装置包括管道、分隔板和液供给部。管道在内部具有供气体通过的流路。分隔板是将流路分隔为多个空间的分隔板，由能够透过气体且能够保持液体的多孔材料形成。液供给部对分隔板供给能够溶解气体中包含的对象成分的溶解液。并且，气体处理装置使通过流路的气体与被保持在分隔板中的溶解液接触。
实用新型效果
依照本实用新型，起到能够减少溶解液的使用量的效果。
附图说明
图1是表示本实施方式的基片处理系统的概略结构的图。
图2是表示第一实施方式的处理单元的结构的图。
图3是表示第一实施方式的处理单元的排气管路的结构的图。
图4是表示第一实施方式的气体处理装置的结构的图。
图5是表示第二实施方式的气体处理装置的结构的图。
图6是表示第二实施方式的流量调节处理中的各部的动作的一个例子的时序图。
图7是表示第三实施方式的气体处理装置的结构的图。
图8是表示第三实施方式的流量调节处理的流程的一个例子的流程图。
附图标记说明
1 基片处理系统
16 处理单元
18、18A、18B 控制部
19、19A 存储部
55 集合排气管
100、100A、100B 气体处理装置
110 第一管道
120 第二管道
130 分隔板
140 液供给部
141 第一液供给部
142 第二液供给部
150 气体导入部
151 第一浓度检测部
160 气体排出部
161 第二浓度检测部
170 贮存槽
171 液量检测部
180 液排出部
191 方案信息
F1 第一流路
F2 第二流路
S 空间。
具体实施方式
以下，参照附图，对本实用新型公开的气体处理装置和基片处理装置的实施方式进行详细说明。此外，公开的技术并由以下所示的实施方式限定。
(第一实施方式)
首先，参照图1，对第一实施方式的基片处理系统的结构进行说明。
图1是表示本实施方式的基片处理系统的概略结构的图。以下，为了明确位置关系，规定彼此正交的X轴、Y轴和Z轴，将Z轴正方向设为铅垂向上方向。
如图1所示，基片处理系统1包括送入送出站2和处理站3。送入送出站2与处理站3相邻地设置。
送入送出站2包括承载器载置部11和输送部12。在承载器载置部11上载置有将多各个基片——本实施方式中为半导体晶片(以下称为晶片W)——以水平状态收纳的多个承载器C。
输送部12与承载器载置部11相邻地设置，在内部设有基片输送装置13和交接部14。基片输送装置13包括保持晶片W的晶片保持机构。此外，基片输送装置13能够在水平方向和铅垂方向上移动并且以铅垂轴为中心旋转，使用晶片保持机构在承载器C与交接部14之间进行晶片W的输送。
处理站3与输送部12相邻地设置。处理站3包括输送部15和多个处理单元16。多个处理单元16排列地设置在输送部15的两侧。
输送部15在内部设有基片输送装置17。基片输送装置17具有保持晶片W的晶片保持机构。此外，基片输送装置17能够在水平方向和铅垂方向移动并且以铅垂轴为中心旋转，使用晶片保持机构在交接部14与处理单元16之间进行晶片W的输送。
处理单元16对由基片输送装置17输送的晶片W进行规定的基片处理。
另外，基片处理系统1包括控制装置4。控制装置4例如是计算机，包括控制部18和存储部19。在存储部19中存储有对在基片处理系统1中执行的各种处理进行控制的程序。控制部18通过读出并执行存储于存储部19的程序来控制基片处理系统1的动作。
另外，该程序也可以被记录在计算机可读取的存储介质中，从该存储介质被安装到控制装置4的存储部19中。作为计算机可读取的存储介质，例如有硬盘(HD)、软盘(FD)、光盘(CD)、磁光盘(MO)、存储卡等。
在如上述那样构成的基片处理系统1中，首先，送入送出站2的基片输送装置13从载置于承载器载置部11的承载器C取出晶片W，将取出的晶片W载置在交接部14。载置于交接部14的晶片W被处理站3的基片输送装置17从交接部14取出，并向处理单元16送入。
被送入处理单元16的晶片W在由处理单元16处理后，被基片输送装置17从处理单元16送出并载置在交接部14。然后，载置于交接部14的已处理的晶片W被基片输送装置13送回承载器载置部11的承载器C。
接着，参照图2和图3，对处理单元16和处理单元16的排气管路的结构进行说明。图2是表示第一实施方式的处理单元16的结构的图。
如图2所示，处理单元16包括腔室20、基片保持机构30、处理流体供给部40和回收杯状体50。
腔室20收纳基片保持机构30、处理流体供给部40和回收杯状体50。在腔室20的顶部设置有FFU(Fan Filter Unit：风机过滤单元)21。FFU21经由供气管22与气体供给源23连接。FFU21将从气体供给源23经由供气管22供给的气体从腔室20内的上方向下方供给，由此在腔室20内形成下降流(downflow)。
基片保持机构30包括保持部31、支柱部32和驱动部33。保持部31将晶片W水平地保持。支柱部32是沿铅垂方向延伸的部件，根端部以可旋转的方式由驱动部33支承，在前端部将保持部31水平地支承。驱动部33使支柱部32绕铅垂轴旋转。该基片保持机构30使用驱动部33使支柱部32旋转，由此使支承于支柱部32的保持部31旋转，由此，使保持于保持部31的晶片W旋转。
处理流体供给部40对晶片W供给处理流体。处理流体供给部40与处理流体供给源70连接。
回收杯状体50以包围保持部31的方式配置，收集因保持部31的旋转而从晶片W飞散的处理液。在回收杯状体50的底部形成有排液口51。排液管52与排液口51连接，由回收杯状体50收集的处理液从排液口51通过排液管52向处理单元16的外部被排出。
另外，在回收杯状体50的底部形成有将从FFU21供给的气体向处理单元16的外部排出的排气口53。排气口53与排气管54连接，从FFU21供给到处理单元16的气体从排气口53通过排气管54向处理单元16的外部被排出。
此处，从处理单元16排出的气体(以下记载为“排出气体”)有时包含从处理流体供给部40供给的处理流体的成分。例如，在处理流体为酸类、碱类或有机类的药品的情况下，有可能分别在排出气体中包含酸成分、碱成分、有机成分。
另外，作为酸类的药品，例如有DHF(稀氢氟酸)、BHF(氢氟酸和氟化铵的混合液)等。此外，作为碱类的药品，例如有SC1(氨、过氧化氢水和水的混合液)。此外，作为有机类的药品，例如有IPA(异丙醇)。药品不限于液体，有时也可以是气体。
含有上述成分的排出气体有可能因被释放到大气中而对环境、人体造成影响。因此，第一实施方式的基片处理系统1包括气体处理装置100，其从从处理单元16排出的排出气体中除去包含酸成分、碱成分、有机成分中的至少任一者的对象成分(参照图3)。气体处理装置100设置于基片处理系统1具有的排气管路。
图3是表示第一实施方式的处理单元16的排气管路的结构的图。如图3所示，第一实施方式的基片处理系统1包括多个排气管54。多个排气管54的一端与多个处理单元16的排气口53连接，另一端与集合排气管55连接。
如图3所示，气体处理装置100设置于集合排气管55。集合排气管55构成基片处理系统1具有的排气管路的一部分，设置于基片处理系统1的内部。而且，气体处理装置100也设置于基片处理系统1的内部。被气体处理装置100除去了对象成分的排出气体通过集合排气管55从基片处理系统1被排出。此外，在集合排气管55延伸到基片处理系统1的外部的情况下，气体处理装置100也可以设置于基片处理系统1的外部。此外，在分别设置于多个基片处理系统1的多个集合排气管55连接到一个合流排气管的情况下，气体处理装置100也可以设置于该合流排气管。
接着，参照图4，对气体处理装置100的结构进行说明。图4是表示第一实施方式的气体处理装置100的结构的图。此外，在图4中，用虚线箭头表示排出气体的流动，用实线箭头表示溶解液的流动。
如图4所示，气体处理装置100包括第一管道110、第二管道120、分隔板130、液供给部140、气体导入部150、气体排出部160、贮存槽170和液排出部180。
第一管道110在内部具有第一流路F1，第二管道120在内部具有第二流路F2。第一管道110和第二管道120以在上下方向(Z轴方向)上延伸的方式配置。第一管道110和第二管道120的形状例如可以是圆筒形状、方筒形状等任意的形状。
气体导入部150将集合排气管55中的位于比气体处理装置100靠上游侧处的上游侧集合排气管55a(参照图3)与第一管道110连接，将在上游侧集合排气管55a中流动的排出气体导入第一流路F1。此外，气体排出部160将集合排气管55中的位于比气体处理装置100靠下游侧处的下游侧集合排气管55b(参照图3)与第二管道120连接，将通过了第二流路F2的排出气体从第二管道120排出并向下游侧集合排气管55b输送。第一管道110的下端侧即第一流路F1的下部与第二管道120的下端侧即第二流路F2的下部经由贮存槽170连接。
具体而言，气体导入部150与第一管道110的上端侧连接，将排出气体从第一管道110的上端侧(即，第一流路F1的上部)导入第一流路F1。此外，气体排出部160与第二管道120的上端侧连接，将排出气体从第二管道120的上端侧(即，第二流路F2的上部)排出到下游侧集合排气管55b。因此，在第一流路F1中形成有从上方去往下方的排出气体的流动，在贮存槽170中形成有从第一流路F1的下部去往第二流路F2的下部的排出气体的流动，在第二流路F2中形成有从下方去往上方的排出气体的流动。
在第一管道110的第一流路F1和第二管道120的第二流路F2分别配置有分隔板130。分隔板130将第一流路F1和第二流路F2各自分隔为在上下方向上相邻的多个空间S。
分隔板130是由能够使排出气体透过且能够保持液体的多孔材料形成的多孔部件。作为形成分隔板130的多孔材料，例如使用多孔陶瓷。多孔陶瓷是至少含有硅(Si)和碳化硅(SiC)的陶瓷。多孔陶瓷是利用碳化硅(SiC)加强由硅(Si)构成的3维骨架而形成的。多孔陶瓷还可以含有氮化铝或氮化硅。
分隔板130可拆装地安装于能够调整第一流路F1和第二流路F2各自的多个空间S的尺寸的多个安装位置。例如，在第一流路F1和第二流路F2，在上下方向上等间隔地形成有多个在水平方向上延伸的导轨，分隔板130可拆装地安装于第一流路F1和第二流路F2的多个导轨中的所希望的导轨。通过对第一流路F1和第二流路F2的全部导轨安装分隔板130，多个空间S的尺寸相同。通过从全部导轨中的一部分导轨卸下分隔板130，能够使一部分空间S的尺寸增大。多个空间S的尺寸在第一管道110与第二管道120之间可以相同，也可以不同。此外，多个空间S的尺寸在第一管道110或第二管道120中可以相同，也可以不同。
液供给部140在各空间S至少配置一个。具体而言，液供给部140在各空间S中配置在分隔板130的上方。液供给部140向下方的分隔板130供给溶解液。
液供给部140具有第一液供给部141和第二液供给部142。
第一液供给部141经由供给管141a与溶解液供给源141b连接。在供给管141a，与各空间S的第一液供给部141对应地设置有供给设备组141c。溶解液供给源141b供给例如纯水或自来水作为使排出气体所含有的对象成分溶解的溶解液。此外，从溶解液供给源141b供给的溶解液并不限定于纯水和市水，能够根据排出气体所含有的对象成分的种类来适当选择。供给设备组141c例如包括开闭供给管141a的开闭阀、质量流量控制器和能够调节溶解液的温度的温度调节器等。此外，在图4中，为了便于说明，仅示出第一管道110侧的溶解液的供给系统(供给管141a、溶解液供给源141b和供给设备组141c)，但第二管道120侧的溶解液的供给系统也与第一管道110侧的溶解液的供给系统相同。
第一液供给部141将从溶解液供给源141b供给的溶解液供给到下方的分隔板130。供给到分隔板130的溶解液从分隔板130的上表面渗入分隔板130内部的多孔结构而暂时由分隔板130保持。
第二液供给部142与循环液管142a连接。在循环液管142a设置有泵142b。此外，在循环液管142a，与各空间S的第二液供给部142对应地设置有供给设备组142c。循环液管142a与贮存于贮存槽170的使用过的溶解液，即含有从排出气体中被除去的对象成分的溶解液接触。泵142b经由循环液管142a将溶解液从贮存槽170汲取并向第二液供给部142加压输送。由此，贮存于贮存槽170的溶解液经由由循环液管142a和泵142b构成的循环管路循环。供给设备组141c例如包括开闭循环液管142a的开闭阀、质量流量控制器和能够调节循环液的温度的温度调节器等。此外，在图4中，为了便于说明，仅示出第一管道110侧的循环液的供给系统(循环液管142a和泵142b)，但第二管道120侧的循环液的供给系统也与第一管道110侧的循环液的供给系统相同。
第二液供给部142将贮存于贮存槽170的溶解液经由循环管路循环而得到的循环液供给到下方的分隔板130。供给到分隔板130的循环液从分隔板130的上表面渗入分隔板130内部的多孔结构而暂时由分隔板130保持。以下，有时将从第二液供给部142供给的循环液和从第一液供给部141供给的溶解液适当地统称为“溶解液”。
液供给部140在第一管道110的内部从第一流路F1的上游侧向下方的分隔板130供给溶解液，在第二管道120的内部从第二流路F2的下游侧向下方的分隔板130供给溶解液。在第一管道110的内部供给的溶解液和在第二管道120的内部供给的溶解液是相同种类的液。
贮存槽170将第一管道110的第一流路F1的下游侧与第二管道120的第二流路F2的上游侧连接，贮存从分隔板130落下的溶解液。
液排出部180将贮存于贮存槽170的溶解液从贮存槽170排出。在液排出部180连接有排液管181，在排液管181设置有阀182。
另外，气体处理装置100包括液量检测部171。液量检测部171设置于贮存槽170，检测贮存于贮存槽170的溶解液的液量。
液量检测部171的检测结果被输出至控制部18。此外，供给设备组141c、142c、泵142b和阀182由控制部18控制。
控制部18基于液量检测部171的检测结果，判断是否执行从第二液供给部142的循环液的供给。在判断为液量检测部171的检测液量，即贮存于贮存槽170的溶解液的液量超过预先设定的上限值的情况下，控制部18判断为执行从第二液供给部142的循环液的供给。然后，控制部18控制供给设备组142c和泵142b，开始从第二液供给部142供给循环液。
另外，控制部18通过控制供给设备组141c、142c，按每个空间S调节从第一液供给部141和第二液供给部142供给到分隔板130的溶解液和循环液的流量和温度。
另外，控制部18基于液量检测部171的检测结果，判断是否执行从液排出部180的溶解液的排出。在判断为液量检测部171的检测液量，即贮存于贮存槽170的溶解液的液量超过预先设定的上限值的情况下，控制部18判断为执行从液排出部180的溶解液的排出。然后，控制部18使阀132开放。由此，利用液排出部180将溶解液从贮存槽170排出，从贮存槽170排出的溶解液通过排液管181被排出到外部。
另外，此处，基于液量检测部171的检测结果来判断是否执行循环液的供给、溶解液的排出，但控制部18也可以基于其他检测部的检测结果来判断是否执行循环液的供给、溶解液的排出。例如，控制部18也可以基于对贮存于贮存槽170的溶解液中包含的对象成分的浓度进行检测的浓度检测部(未图示)的检测结果，来判断是否执行从第二液供给部142的循环液的供给。此外，例如，控制部18也可以基于对贮存于贮存槽170的溶解液中包含的对象成分的浓度进行检测的浓度检测部(未图示)的检测结果，来判断是否执行从液排出部180的溶解液的排出。此外，控制部18也可以基于液量检测部171、浓度检测部(未图示)的检测结果，调节从第二液供给部142供给到分隔板130的循环液的流量、从液排出部180排出的溶解液的流量。
气体处理装置100如上述那样构成，从气体导入部150被导入到第一管道110的第一流路F1的排出气体一边透过分隔板130一边从上方向下方通过第一流路F1。
通过了第一流路F1的排出气体在经由贮存槽170的内部被导入到第二管道120的第二流路F2之后，一边透过分隔板130一边从下方向上方通过第二流路F2。
在分隔板130保持有溶解液。因此，排出气体在一边透过分隔板130一边从上方向下方通过第一流路F1的期间，或者一边在透过分隔板130一边从下方向上方通过第二流路F2的期间，与被保持在分隔板130中的溶解液接触。
通过使排出气体与被保持在分隔板130中的溶解液接触，排出气体所含有的对象成分溶解于溶解液中。由此，从排出气体中除去对象成分。除去了对象成分的排出气体被气体排出部160从第二管道120的第二流路F2排出到下游侧集合排气管55b(参照图3)。此外，包含从排出气体中除去的对象成分的溶解液在从分隔板130落下而贮存在贮留槽170中之后，被液排出部180从贮留槽170排出。
像这样，气体处理装置100利用由能够透过排出气体且能够保持液体的多孔材料形成的分隔板130保持溶解液，使排出气体与被保持在分隔板130中的溶解液接触，由此将对象成分从排出气体中除去。
由于被保持在分隔板130中的溶解液要暂时停留在该场所，因此与不断喷出溶解液的排出气体处理器相比，能够将溶解液更长的时间地预先保留在第一管道110和第二管道120中。因此，与排出气体处理器相比，气体处理装置100能够减少溶解液的使用量。
如上所述，第一实施方式的气体处理装置(例如，气体处理装置100)包括管道(例如，第一管道110、第二管道120)、分隔板(例如，分隔板130)和液供给部(例如，液供给部140)。管道具有供气体(例如，排出气体)通过的流路(例如，第一流路F1、第二流路F2)。分隔板是将流路分隔为多个空间(例如空间S)的分隔板，由能够透过气体且能够保持液体的多孔材料形成。液供给部对分隔板供给能够溶解气体所含有的对象成分的溶解液。并且，气体处理装置使通过流路的气体与被保持在分隔板中的溶解液接触。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，能够减少溶解液的使用量。
另外，第一实施方式的分隔板可拆装地安装于能够调节流路的多个空间的尺寸的多个安装位置。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，能够自由地调节多个空间的尺寸。
另外，第一实施方式的气体处理装置包括多个管道。多个管道包括在内部具有供气体从上方向下方通过的第一流路(例如第一流路F1)的第一管道(例如，第一管道110)和在内部具有供气体从下方向上方通过的第二流路(例如，第二流路F2)的第二管道(例如，第二管道120)。分隔板分别配置于第一流路和第二流路，将第一流路和第二流路各自分隔为多个空间。并且，气体处理装置还包括贮存槽(例如贮存槽170)，该贮存槽将第一流路的下游侧与第二流路的上游侧连接，并贮存从分隔板落下的溶解液。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，能够对贮存在贮存槽中的使用过的溶解液、即含有从排出气体中除去的对象成分的溶解液进行再利用。
另外，第一实施方式的液供给部在各空间至少配置一个。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，在各空间中，能够使通过流路的气体与被保持在分隔板中的溶解液接触，因此能够提高溶解液溶解对象成分的溶解效率。
另外，第一实施方式的液供给部在第一管道的内部从第一流路的上游侧向分隔板供给溶解液，在第二管道的内部从第二流路的下游侧向分隔板供给溶解液。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，能够提高透过分隔板的排出气体与从液供给部供给的溶解液接触的可能性，因此能够提高溶解液溶解对象成分的溶解效率。
另外，在第一实施方式的第一管道的内部供给的溶解液与在第二管道的内部供给的溶解液是相同种类的液。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，能够使用在第一管道和第二管道中共用的相同种类的溶解液，从排出气体中去除包含酸成分、碱成分、有机成分中的至少任一者的对象成分。
另外，第一实施方式的液供给部具有第一液供给部(例如，第一液供给部141)和第二液供给部(例如，第二液供给部142)。第一液供给部将从溶解液供给源(例如，溶解液供给源141b)供给的溶解液供给到分隔板。第二液供给部将贮存在贮存槽中的溶解液经由循环管路(例如，循环液管142a和泵142b)循环而得到的循环液供给到分隔板。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，能够减少从溶解液供给源供给的新鲜的溶解液的使用量。
另外，从第一实施方式的第一液供给部和第二液供给部供给到分隔板的溶解液和循环液的流量和温度按每个空间进行被调节。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，能够将供给到分隔板的溶解液和循环液的流量和温度按每个空间调节为适于除去对象成分的流量和温度。
另外，第一实施方式的气体处理装置还包括液量检测部(例如，液量检测部171)和控制部(例如，控制部18)。液量检测部检测贮存在贮存槽中的溶解液的液量。控制部基于液量检测部的检测结果，判断是否执行从第二液供给部的循环液的供给。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，能够在贮存在贮存槽中的溶解液的液量达到适当的液量之前使循环液的供给待机，因此能够抑制循环液的过量使用。
另外，第一实施方式的气体处理装置还包括将贮存在贮存槽中的溶解液从贮存槽排出的液排出部。控制部基于液量检测部的检测结果，判断是否执行从液排出部的溶解液的排出。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，能够在贮存在贮存槽中的溶解液的液量达到适当的液量之前使溶解液的排出待机，因此能够确保要再利用的溶解液的液量。
另外，第一实施方式的基片处理装置(例如，基片处理系统1)包括多个处理部(例如，处理单元16)、排气管路(例如集合排气管55)和气体处理装置(例如，气体处理装置100)。多个处理部使用药品(例如，处理流体)对基片(例如，晶片W)进行处理。排气管路供从多个处理部排出的气体(例如，排出气体)流通。气体处理装置100设置于排气管路，将在排气管路中流通的气体所含有的对象成分从气体中除去。由此，依照第一实施方式的基片处理装置，能够将除去了对象成分的清洁的排出气体向基片处理装置的外部排出。
另外，第一实施方式的气体处理装置(例如，气体处理装置100)包括管道(例如，第一管道110、第二管道120)、多孔部件(例如，分隔板130)和液供给部(例如，液供给部140)。管道具有供气体(例如，排出气体)通过的流路(例如，第一流路F1、第二流路F2)。多孔部件配置于流路，由能够透过气体且能够保持液体的多孔材料形成。液供给部对多孔部件供给能够溶解气体所含有的对象成分的溶解液。形成多孔部件的多孔材料是多孔陶瓷。并且，气体处理装置使通过流路的气体与被保持在多孔部件中的溶解液接触。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，能够提高多孔部件的耐久性并且减少溶解液的使用量。
另外，第一实施方式的多孔陶瓷是至少含有硅(Si)和碳化硅(SiC)的陶瓷。由此，依照第一实施方式的气体处理装置，即使在多孔部件形成得较薄的情况下，也能够保证多孔部件的强度，因此能够进一步提高多孔部件的耐久性。
(第二实施方式)
在基片处理系统1中，多个处理单元16的运转状况时刻变化。例如，运转的处理单元16的数量、即进行使用处理流体的基片处理的处理单元16的数量在每个时间段有所增减。
假设在从液供给部140供给到分隔板130的溶解液的流量与运转的处理单元16的数量无关而一定的情况下，例如在运转的处理单元16的数量减少的时间段中，存在溶解液消耗高于所需的可能性。
因此，第二实施方式的基片处理系统1根据表示多个处理单元16的运转状况的运转信息，进行调节从液供给部140(第一液供给部141和第二液供给部142)供给到分隔板130的溶解液的流量的流量调节处理。
图5是表示第二实施方式的气体处理装置100A的结构的图。此外，在图5中，与图4同样地，用虚线箭头表示排出气体的流动，用实线箭头表示清洗液的流动。此外，在图5中，对与图4相同的部分标注相同的附图标记。
第二实施方式的基片处理系统1的多个处理单元16和气体处理装置100A由控制部18A控制。此外，上述的流量调节处理例如根据存储在存储部19A中的方案信息191来执行。
方案信息191是表示多个处理单元16的运转状况的运转信息的一个例子，是包含每个时间段要运转的处理单元16的数量的信息。
控制部18A根据方案信息191中包含的处理单元16的数量，进行流量调节处理。即，控制部18A基于方案信息191中包含的处理单元16的数量，对从第一液供给部141供给到分隔板130的溶解液的流量和从第二液供给部142供给到分隔板130的循环液的流量进行调节。
接着，参照图6，对控制部18A的溶解液的流量调节处理进行说明。图6是表示第二实施方式的流量调节处理中的各部的动作的一个例子的时序图。在图6中，“溶解液流量”表示从第一液供给部141供给到分隔板130的溶解液的流量的动态变化，“循环液流量”表示从第二液供给部142供给到分隔板130的循环液的流量的动态变化。此外，在图6中，“贮存液量”表示液量检测部171的检测液量、即贮存于贮存槽170的溶解液的液量的动态变化。此外，在图6中，“单元运转数”表示方案信息191中包含的处理单元16的数量。
在图6的例子中，依次实施准备处理、流量调节处理和待机处理。首先，控制部18A从时间T0开始使供给设备组141c动作，开始从第一液供给部141对分隔板130以最大的流量供给溶解液的准备处理。该准备处理是指在开始执行流量调节处理之前，在贮存槽170中贮存要再利用的溶解液的处理。
接着，贮存于贮存槽170的溶解液的液量达到规定的液量，在准备处理结束的时间T1，控制部18A对多个处理单元16中的最先运转的处理单元16发送使处理流体的供给开始的信号。由此，多个处理单元16开始使用处理流体的晶片W的处理。
另外，控制部18A从时间T1开始流量调节处理。具体而言，控制部18A从时间T1起使供给设备组141c、142c和泵142b动作，开始从液供给部140(第一液供给部141和第二液供给部142)供给溶解液。
在流量调节处理中，控制部18A首先以从时间T1起方案信息191中包含的处理单元16的数量(单元运转数)增加的程度，使从第一液供给部141供给的溶解液的流量和从第二液供给部142供给的循环液的流量增加。
以随着方案信息191中包含的处理单元16的数量即运转中的处理单元16的数量的增加而使对分隔板130的溶解液和循环液的供给流量增加的程度，被保持在分隔板130中的溶解液的液量增加。由此，能够提高透过分隔板130的排出气体与被保持在分隔板130中的溶解液接触的可能性，因此能够提高溶解液溶解对象成分的溶解效率。
接着，从单元运转数达到最大值的时间T2起，从第一液供给部141对分隔板130以最大的流量供给溶解液，并且从第二液供给部142对分隔板130以最大的流量供给循环液。
接着，从自时间T2起经过了规定的时间的时间T3起，控制部18A以单元运转数减少的程度，使从第一液供给部141供给的溶解液的流量和从第二液供给部142供给的循环液的流量减少。
在方案信息191中包含的处理单元16的数量即运转中的处理单元16的数量减少的时间段内，排出气体中包含的处理流体的成分没有那么多。在这样的情况下，能够减少对分隔板130供给溶解液和循环液的供给流量，而使溶解液溶解对象成分的溶解效率较大。由此，能够抑制溶解液的过量使用，因此能够减少溶解液的使用量。
接着，控制部18A在从全部处理单元16接收到表示晶片W的处理已结束的信号的时间T4使供给设备组141c、142c和泵142b停止，停止从液供给部140供给溶解液。然后，控制部18A从时间T4起开始执行待机处理。该待机处理是在多个处理单元16开始执行下一个基片处理的期间待机的处理。
在该待机处理中，持续停止从液供给部140供给溶解液的状态。由此，能够减少溶解液的使用量。
另外，在此，以方案信息191为包含每个时间段要运转的处理单元16的数量的信息的情况为例进行了说明，但方案信息191的内容并不限定于此。方案信息191只要是表示多个处理单元16的工作状况的信息即可，可以是任意的信息。例如，方案信息191也可以是包含每个时间段从多个处理单元16排出的排出气体中包含的对象成分的量或浓度的信息。在该情况下，控制部18A基于方案信息191中包含的对象成分的量或浓度，对从液供给部140供给到分隔板130的溶解液的流量进行调节。
另外，方案信息191除了对象成分的量或浓度以外，还可以包含对象成分的种类。在该情况下，控制部18A也可以基于方案信息191中包含的对象成分的种类，改变从液供给部140供给到分隔板130的溶解液的种类。由此，能够根据对象成分的种类适当改变溶解液的种类。此外，控制部18A也可以基于方案信息191中包含的对象成分的种类，控制供给设备组141c、142c，调节从液供给部140供给到分隔板130的溶解液的温度。由此，能够将溶解液的温度调节为适于对象成分的种类的温度。
如上所述，第二实施方式的基片处理装置(例如，基片处理系统1)包括多个处理部(例如，处理单元16)、排气管路(例如集合排气管55)、气体处理装置(例如，气体处理装置100A)和控制部(例如，控制部18A)。多个处理部使用药品(例如，处理流体)对基片(例如晶片W)进行处理。排气管路供从多个处理部排出的气体(例如，排出气体)流通。气体处理装置100设置于排气管路，将在排气管路中流通的气体所含有的对象成分从气体中除去。控制部18A控制多个处理部和气体处理装置。气体处理装置包括管道(例如，第一管道110、第二管道120)、分隔板(例如，分隔板130)和液供给部(例如，液供给部140)。管道具有供气体(例如，排出气体)通过的流路(例如，第一流路F1、第二流路F2)。分隔板是将流路分隔为多个空间(例如空间S)的分隔板，由能够透过气体且能够保持液体的多孔材料形成。液供给部对分隔板供给能够溶解气体所含有的对象成分的溶解液。并且，控制部根据表示多个处理部的运转状况的运转信息，调节从液供给部供给到分隔板的溶解液的流量。由此，依照第二实施方式的基片处理装置，能够减少溶解液的使用量。
另外，第二实施方式的控制部在对多个处理部中的最先运转的处理部发送使药品的供给开始的信号的时刻(例如，时间T1)，开始从液供给部供给溶解液。由此，依照第二实施方式的基片处理装置，能够与处理部中的药品的供给同步地使气体处理装置中的溶解液的供给开始。
另外，第二实施方式的控制部在从全部处理部接收到表示基片的处理结束的信号的时刻(例如，时间T4)，停止从液供给部供给溶解液。由此，依照第二实施方式的基片处理装置，能够与使用处理部中的药品的基片处理的完成同步地使气体处理装置中的溶解液的供给停止。
另外，第二实施方式的液供给部具有第一液供给部(例如，第一液供给部141)和第二液供给部(例如，第二液供给部142)。第一液供给部将从溶解液供给源(例如，溶解液供给源141b)供给的溶解液供给到分隔板。第二液供给部将贮存在贮存槽中的溶解液经由循环管路(例如，循环液管142a和泵142b)循环而得到的循环液供给到分隔板。控制部根据运转信息，调节从第一液供给部供给到分隔板的溶解液的流量和从第二液供给部供给到分隔板的循环液的流量。
具体而言，第二实施方式的运转信息是包含每个时间段要运转的处理部的数量的方案信息(例如，方案信息191)。控制部基于方案信息中包含的处理部的数量，调节从第一液供给部供给到分隔板的溶解液的流量和从第二液供给部供给到分隔板的循环液的流量。由此，依照第二实施方式的基片处理装置，能够抑制溶解液的过量使用，因此能够减少溶解液的使用量。
另外，第二实施方式的运转信息也可以是包含每个时间段从所述多个处理部分别排出的气体所含有的对象成分的量或浓度的方案信息。在该情况下，控制部也可以基于方案信息中包含的对象成分的量或浓度，对从液供给部供给到分隔板的溶解液的流量进行调节。由此，依照第二实施方式的基片处理装置，能够抑制溶解液的过量使用，因此能够减少溶解液的使用量。
另外，第二实施方式的方案信息还可以包含对象成分的种类。在该情况下，控制部也可以基于方案信息中包含的对象成分的种类，改变从液供给部供给到分隔板的溶解液的种类。由此，依照第二实施方式的基片处理装置，能够根据对象成分的种类适当地改变溶解液的种类。
另外，第二实施方式的控制部也可以基于方案信息中包含的对象成分的种类来调节从液供给部供给到分隔板的溶解液的温度。由此，依照第二实施方式的基片处理装置，能够将溶解液的温度调节为适于对象成分的种类的温度。
(第三实施方式)
第三实施方式的基片处理系统1与上述第二实施方式的基片处理系统1的不同之处在于，基于检测排出气体所含有的对象成分的浓度的浓度检测部的检测结果，进行流量调节处理。
图7是表示第三实施方式的气体处理装置100B的结构的图。此外，在图7中，与图5同样地，用虚线箭头表示排出气体的流动，用实线箭头表示清洗液的流动。此外，在图7中，对与图5相同的部分标注相同的附图标记。
第三实施方式的基片处理系统1的多个处理单元16和气体处理装置100B由控制部18B控制。
第三实施方式的气体处理装置100B包括第一浓度检测部151和第二浓度检测部161。第一浓度检测部151设置于气体导入部150，检测由气体导入部150导入到第一管道110的第一流路F1的排出气体中包含的对象成分的浓度。此外，第二浓度检测部161设置于气体排出部160，检测由气体排出部160从第二管道120的第二流路F2排出的排出气体中包含的对象成分的浓度。
第一浓度检测部151和第二浓度检测部161的检测结果被输出到控制部18B。
控制部18B将第一浓度检测部151和第二浓度检测部161的检测结果作为表示多个处理单元16的运转状况的运转信息进行监视，基于第一浓度检测部151和第二浓度检测部161的检测结果，进行流量调节处理。即，控制部18B基于第一浓度检测部151和第二浓度检测部161的检测结果，调节从第一液供给部141供给到分隔板130的溶解液的流量和从第二液供给部142供给到分隔板130的循环液的流量。
接着，参照图8，对控制部18B的溶解液的流量调节处理进行说明。图8是表示第三实施方式的流量调节处理的流程的一个例子的流程图。
如图8所示，控制部18B判断第二浓度检测部161的检测浓度，即在气体排出部160中流动的排出气体所含有的对象成分的浓度是否超过预先设定的上限值(步骤S101)。在判断为第二浓度检测部161的检测浓度超过预先设定的上限值的情况下(步骤S101；是)，控制部18B进行以下的处理。即，控制部18B控制供给设备组141c、142c，使从第一液供给部141供给到分隔板130的溶解液的流量和从第二液供给部142供给到分隔板130的循环液的流量增加(步骤S102)。
以使对分隔板130供给的溶解液和循环液的供给流量增加的程度，被保持在分隔板130中的溶解液的液量增加。由此，能够提高透过分隔板130的排出气体与被保持在分隔板130中的溶解液接触的可能性，因此能够提高溶解液溶解对象成分的溶解效率。其结果是，能够降低从气体排出部160排出的排出气体中包含的对象成分的浓度。
另一方面，在第二浓度检测部161的检测浓度没有超过预先设定的上限值的情况下(步骤S101；否)，控制部18B判断第二浓度检测部161的检测浓度是否低于预定的下限值(步骤S103)。在判断为第二浓度检测部161的检测浓度低于预先设定的下限值的情况下(步骤S103；是)，控制部18B进行以下的处理。即，控制部18B控制供给设备组141c、142c，使从第一液供给部141供给到分隔板130的溶解液的流量和从第二液供给部142供给到分隔板130的循环液的流量减少(步骤S104)。
在结束了步骤S102、S104的处理时，或者在步骤S103中第二浓度检测部161的检测浓度不低于预先设定的下限值的情况下(步骤S103；否)，控制部18B使处理返回到步骤S101。由此，反复进行步骤S101～S104的处理。
在第二浓度检测部161的检测浓度低于预先设定的下限值的情况下，从排出气体中多于所需地(过多地)除去了的对象成分。在这样的情况下，也可以使溶解液的流量和循环液的流量减少，使溶解液溶解对象成分的溶解效率降低。由此，能够抑制溶解液的过量使用。
另外，在此，基于第二浓度检测部161的检测结果进行流量调节，但控制部18B也可以基于第一浓度检测部151的检测结果进行步骤S101～S104的流量调节处理。此外，控制部18B也可以基于对通过第一管道110的第一流路F1或第二管道120的第二流路F2的排出气体所含有的对象成分的浓度进行检测的第三浓度检测部(未图示)的检测浓度，进行步骤S101～S104的流量调节处理。
另外，控制部18B也可以判断第一浓度检测部151或第二浓度检测部161的检测浓度是否超过比预先设定的上限值大的阈值。而且，控制部18B也可以在判断为第一浓度检测部151或第二浓度检测部161的检测浓度超过该阈值的情况下，进行使从多个处理单元16排出的排出气体的流量减少的控制。作为该控制，例如可举出对运转的处理单元16即进行使用处理流体的基片处理的处理单元16进行限制的控制。此外，例如可举出使从承载器C取出包含在处理单元16中处理中的晶片W在内的批次的下一批次所对应的晶片W的处理停止的控制。通过进行使从多个处理单元16排出的排出气体的流量减少的控制，能够降低从气体导入部150导入的排出气体中包含的对象成分的浓度。
如上所述，第三实施方式的基片处理装置(例如，基片处理系统1)的气体处理装置(例如，气体处理装置100B)包括浓度检测部(例如，第一浓度检测部151、第二浓度检测部161)。浓度检测部对气体(例如，排出气体)中包含的对象成分的浓度进行检测。并且，第三实施方式的控制部(例如，控制部18B)将浓度检测部的检测结果作为运转信息进行监视。控制部基于浓度检测部的检测结果，对从第一液供给部(例如，第一液供给部141)供给到分隔板(例如，分隔板130)的溶解液的流量和从第二液供给部(例如，第二液供给部142)供给到分隔板的循环液的流量进行调节。由此，依照第三实施方式的基片处理装置，能够抑制溶解液的过量使用，因此能够减少溶解液的使用量。
(其他)
另外，在上述各实施方式中，第一管道110和第二管道120以在上下方向(Z轴方向)上延伸的方式配置，但第一管道110和第二管道120的配置方式不限于此。例如，也可以为第一管道110和第二管道120以相对于上下方向(Z轴方向)倾斜的方式配置。
另外，在上述各实施方式中，以贮存槽170贮存从在第一管道110的第一流路F1和第二管道120的第二流路F2分别配置的分隔板130落下的溶解液的情况为例进行了说明，但也可以按每个管道划分贮存槽170。例如，贮存槽170也可以由分隔壁划分为与第一管道110对应的第一贮存部和与第二管道120对应的第二贮存部。在该情况下，第一贮存部贮存从在第一管道110的第一流路F1配置的分隔板130落下的溶解液，第二贮存部贮存从第二管道120的第二流路F2落下的溶解液。此外，在贮存槽170被分隔壁划分为第一贮存部和第二贮存部的情况下，也可以从液供给部140对第一管道110的内部和第二管道120的内部供给不同种类的溶解液。
另外，在上述第二实施方式和上述第三实施方式中，根据运转信息进行溶解液的流量调节处理，但也可以根据运转信息增减多个液供给部140中的对分隔板130供给溶解液的液供给部140的数量。例如，控制部18A也可以控制供给设备组141c、142c，以方案信息191中包含的处理单元16即运转中的处理单元16的数量减少的程度，使对分隔板130供给溶解液的液供给部140的数量越减少。由此，能够减少溶解液的使用量。
另外，在上述第二实施方式和上述第三实施方式中，也可以根据确定包含在处理单元16中要处理的晶片W在内的批次的批次确定信息，增减多个液供给部140中的对分隔板130供给溶解液的液供给部140的数量。例如，控制部18A也可以在不从承载器C取出由批次确定信息确定的批次中包含的晶片W的期间，控制供给设备组141c、142c，减少对分隔板130供给溶解液的液供给部140的数量。由此，能够减少溶解液的使用量。
本次公开的实施方式在所有方面都是例示而不应该认为是限制性的。实际上，上述的实施方式能够以多种方式实现。此外，上述的实施方式可以在不脱离所附的权利要求书及其主旨的情况下以各种方式进行省略、替换、改变。

Claims (14)

1.一种气体处理装置，其特征在于，包括：
管道，其在内部具有供气体通过的流路；
分隔板，其将所述流路分隔为多个空间，由能够透过所述气体且能够保持液体的多孔材料形成；和
液供给部，其对所述分隔板供给能够溶解所述气体中包含的对象成分的溶解液，
使通过所述流路的气体与被保持在所述分隔板中的溶解液接触。
2.如权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于：
所述分隔板可拆装地安装于能够调节所述流路的所述多个空间的尺寸的多个安装位置。
3.如权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于：
包括多个所述管道，
多个所述管道包括：
第一管道，其在内部具有供所述气体从上方向下方通过的第一流路；和
第二管道，其在内部具有供所述气体从下方向上方通过的第二流路，
所述分隔板分别配置于所述第一流路和所述第二流路，将所述第一流路和所述第二流路各自分隔为多个空间，
所述气体处理装置还包括贮存槽，所述贮存槽将所述第一流路的下游侧与所述第二流路的上游侧连接，并贮存从所述分隔板落下的所述溶解液。
4.如权利要求3所述的气体处理装置，其特征在于：
所述液供给部在各所述空间至少配置一个。
5.如权利要求4所述的气体处理装置，其特征在于：
所述液供给部在所述第一管道的内部从所述第一流路的上游侧向所述分隔板供给所述溶解液，在所述第二管道的内部从所述第二流路的下游侧向所述分隔板供给所述溶解液。
6.如权利要求5所述的气体处理装置，其特征在于：
在所述第一管道的内部供给的所述溶解液与在所述第二管道的内部供给的所述溶解液为相同种类的液。
7.如权利要求3至6中任一项所述的气体处理装置，其特征在于：
所述液供给部包括：
第一液供给部，其将从溶解液供给源供给的所述溶解液供给到所述分隔板；和
第二液供给部，其将贮存于所述贮存槽的所述溶解液经由循环管路循环而得到的循环液供给到所述分隔板。
8.如权利要求7所述的气体处理装置，其特征在于：
从所述第一液供给部和所述第二液供给部供给到所述分隔板的所述溶解液和所述循环液的流量和温度能够按每个所述空间被调节。
9.如权利要求7所述的气体处理装置，其特征在于，还包括：
液量检测部，其检测贮存于所述贮存槽的所述溶解液的液量；和
控制部，其基于所述液量检测部的检测结果，判断是否执行从所述第二液供给部的所述循环液的供给。
10.如权利要求9所述的气体处理装置，其特征在于：
还包括液排出部，其将贮存于所述贮存槽的所述溶解液从所述贮存槽排出，
所述控制部基于所述液量检测部的检测结果，判断是否执行从所述液排出部的所述溶解液的排出。
11.如权利要求7所述的气体处理装置，其特征在于，还包括：
浓度检测部，其检测贮存于所述贮存槽的所述溶解液中包含的所述对象成分的浓度；和
控制部，其基于所述浓度检测部的检测结果，判断是否执行从所述第二液供给部的所述循环液的供给。
12.如权利要求11所述的气体处理装置，其特征在于，还包括：
液排出部，其将贮存于所述贮存槽的所述溶解液从所述贮存槽排出，
所述控制部基于所述浓度检测部的检测结果，判断是否执行从所述液排出部的所述溶解液的排出。
13.一种基片处理装置，其特征在于，包括：
使用药品对基片进行处理的多个处理部；
排气管路，其供从所述多个处理部排出的气体流通；和
气体处理装置，其设置于所述排气管路，将在所述排气管路中流通的所述气体中包含的对象成分从所述气体除去，
所述气体处理装置包括：
管道，其在内部具有供所述气体通过的流路；
分隔板，其将所述流路分隔为多个空间，由能够透过所述气体且能够保持液体的多孔材料形成；和
液供给部，其对所述分隔板供给能够溶解所述气体中包含的对象成分的溶解液，
使通过所述流路的气体与被保持在所述分隔板中的溶解液接触。
14.一种气体处理装置，其特征在于，包括：
管道，其在内部具有供气体通过的流路；
多孔部件，其配置于所述流路，由能够透过所述气体且能够保持液体的多孔材料形成；和
液供给部，其对所述多孔部件供给能够溶解所述气体中包含的对象成分的溶解液，
形成所述多孔部件的多孔材料为多孔陶瓷，
使通过所述流路的气体与被保持在所述多孔部件中的溶解液接触。
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