CN218333709U - 一种等离子体反应腔室进气结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种等离子体反应腔室进气结构，包含反应箱、设置在反应箱内的真空反应腔室、竖直设置在反应箱顶部且伸入真空反应腔室内的连接件、用于连接进气管和连接件的气体管路接头、设置在真空反应腔室顶部且与连接件连接的导流罩；所述连接件内设置有气道；所述导流罩的表面设置有多圈均匀间隔放置的气孔，使气体均匀流入真空反应腔室内；本实用新型通过一个形似淋浴头的进气结构，能使气体能均匀进入腔体并且不产生湍流，使气体进入腔体后分布均匀性有所提高，提高晶圆加工质量。

Description

一种等离子体反应腔室进气结构

技术领域

本实用新型涉及半导体晶圆制造加工设备领域，特指一种等离子体反应腔室进气结构。

背景技术

在半导体干法刻蚀工艺里，常采用给真空反应腔室通反应气体(O2、H2/N2或CF4等其他气体)，通过RF射频电源使气体启辉产生等离子体，然后控制等离子体去刻蚀掉晶圆上需要去掉的结构。

现有干法蚀刻设备大多直接通过连接头使进气管与真空反应腔室连接，虽然能将气体送入真空反应腔室的内部，但无法使气体在真空反应腔室内部均匀流动，导致等离子反应不能产生很好的效果。

实用新型内容

本实用新型目的是为了克服现有技术的不足而提供一种等离子体反应腔室进气结构。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种等离子体反应腔室进气结构，包含反应箱、设置在反应箱内的真空反应腔室、竖直设置在反应箱顶部且伸入真空反应腔室内的连接件、用于连接进气管和连接件的气体管路接头、设置在真空反应腔室顶部且与连接件连接的导流罩；所述连接件内设置有气道；所述导流罩的表面设置有多圈均匀间隔放置的气孔，使气体均匀流入真空反应腔室内。

优选的，所述连接件呈十字形结构，包括竖直伸入真空反应腔室内的连接部、设置在反应箱外且与连接部垂直放置的限位部；所述导流罩的中部设置有凸起部；所述连接部与凸起部采用螺纹连接。

优选的，所述限位部与反应箱之间设置有密封圈。

优选的，所述限位部的底部设置有深度小于密封圈厚度的第一环形槽；所述密封圈设置在第一环形槽内。

优选的，所述真空反应腔室的顶部设置有第二环形凹槽；所述导流罩的顶部呈开口结构，且边缘位于第二环形凹槽内。

优选的，所述气道包括与连接部同轴放置的进气流道、多个与进气道垂直放置且位于导流罩内的出气流道。

由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：

本实用新型通过一个形似淋浴头的进气结构，能使气体能均匀进入腔体并且不产生湍流，使气体进入腔体后分布均匀性有所提高，提高晶圆加工质量。

附图说明

下面结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明：

附图1为本实用新型所述的等离子体反应腔室进气结构的剖视图；

附图2为图1中A处放大图。

其中：1、反应箱；11、第二环形凹槽；2、真空反应腔室；3、连接件；31、连接部；32、限位部；33、第一环形槽；34、进气流道；35、出气流道；4、气体管路接头；5、导流罩；51、气孔；52、凸起部；6、密封圈。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明。

附图1-2为本实用新型所述的等离子体反应腔室进气结构，包含反应箱1、设置在反应箱1内的真空反应腔室2、竖直设置在反应箱1顶部且伸入真空反应腔室2内的连接件3、用于连接进气管和连接件3的气体管路接头4、设置在真空反应腔室2顶部且与连接件3连接的导流罩5；所述连接件3内设置有气道；所述导流罩5的表面设置有多圈均匀间隔放置的气孔51，使气体均匀流入真空反应腔室2内；工作时：气体通过进气管进入气道内，再通过气道进入导流罩5内，由于导流罩5的表面设置有多圈均匀间隔放置的气孔51，能使气体能均匀进入腔体并且不产生湍流，使气体进入腔体后分布均匀性有所提高，提高晶圆加工质量。

进一步，所述连接件3呈十字形结构，包括竖直伸入真空反应腔室2内的连接部31、设置在反应箱1外且与连接部31垂直放置的限位部32；所述导流罩5的中部设置有凸起部52；所述连接部31与凸起部52采用螺纹连接；安装时：将连接部31竖直伸入真空反应腔室2内，与导流罩5上的凸起部52螺纹连接，并通过限位部32进行限位，能实现快速安装。

进一步，所述限位部32与反应箱1之间设置有密封圈6，提高密封效果，保证真空腔室的真空度。

进一步，所述限位部32的底部设置有深度小于密封圈6厚度的第一环形槽33；所述密封圈6设置在第一环形槽33内；本实用新型通过在限位部32的底部设置第一环形槽33，能对密封圈6起到定位作用。

进一步，所述真空反应腔室2的顶部设置有第二环形凹槽11；所述导流罩5的顶部呈开口结构，且边缘位于第二环形凹槽11内；本实用新型通过在真空反应腔室2的顶部设置第二环形槽，能对导流罩5顶部的边沿起到定位作用。

进一步，所述气道包括与连接部31同轴放置的进气流道34、多个与进气道垂直放置且位于导流罩5内的出气流道35；本实用新型通过使竖直方向的进气转变为水平方向的出气，能进一步使气体均匀流入真空反应腔室2内。

以上仅是本实用新型的具体应用范例，对本实用新型的保护范围不构成任何限制。凡采用等同变换或者等效替换而形成的技术方案，均落在本实用新型权利保护范围之内。

Claims (6)

1.一种等离子体反应腔室进气结构，其特征在于：包含反应箱、设置在反应箱内的真空反应腔室、竖直设置在反应箱顶部且伸入真空反应腔室内的连接件、用于连接进气管和连接件的气体管路接头、设置在真空反应腔室顶部且与连接件连接的导流罩；所述连接件内设置有气道；所述导流罩的表面设置有多圈均匀间隔放置的气孔，使气体均匀流入真空反应腔室内。

2.根据权利要求1所述的等离子体反应腔室进气结构，其特征在于：所述连接件呈十字形结构，包括竖直伸入真空反应腔室内的连接部、设置在反应箱外且与连接部垂直放置的限位部；所述导流罩的中部设置有凸起部；所述连接部与凸起部采用螺纹连接。

3.根据权利要求2所述的等离子体反应腔室进气结构，其特征在于：所述限位部与反应箱之间设置有密封圈。

4.根据权利要求3所述的等离子体反应腔室进气结构，其特征在于：所述限位部的底部设置有深度小于密封圈厚度的第一环形槽；所述密封圈设置在第一环形槽内。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的等离子体反应腔室进气结构，其特征在于：所述真空反应腔室的顶部设置有第二环形凹槽；所述导流罩的顶部呈开口结构，且边缘位于第二环形凹槽内。

6.根据权利要求5所述的等离子体反应腔室进气结构，其特征在于：所述气道包括与连接部同轴放置的进气流道、多个与进气道垂直放置且位于导流罩内的出气流道。

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