CN218157585U - 一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统，用于检测待检区域的晶硅电池片的隐裂缺陷，包括：固定机架、正透隐裂缺陷检测装置、斜透隐裂缺陷检测装置、红外光源。所述正透隐裂缺陷检测装置包括：第一连接横梁、第一红外相机。所述斜透隐裂缺陷检测装置包括：第二连接横梁、第二红外相机。本实用新型的有益效果在于：能够实现正透隐裂缺陷检测及斜透隐裂缺陷检测。

Description

一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统

技术领域

本实用新型涉及晶硅电池片检测领域，特别地是，一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统。

背景技术

晶硅电池片的质量直接决定光伏能源的光电转换效率。因此，检测晶硅电池片的质量是非常必要的。晶硅电池片在生产过程中容易产生隐裂缺陷。所述生产过程包括但不限于：硅棒在经过金刚线切割成原硅片的过程、原硅片由硅料企业运往电池片企业的过程，原硅片在制程电池片的过程。

中国实用新型专利CN207502443U公告的“太阳能光伏组件电池片缺陷检测仪”，包括：输送机、辊轴，输送机包括一辊轴室；辊轴室一面的两侧均固定有两个限位柱；辊轴室两侧均布开设有一通孔；辊轴两端均固定有一转轴；转轴与通孔转动配合；辊轴室两侧固定有一立柱；一立柱通过一横杆与另一立柱固定；横杆上固定有一电动推杆；电动推杆的输出端固定有一检测装置；检测装置结构为一箱体；箱体内固定有一红外相机。上述技术方案的缺点在于，所述红外相机的数量仅为一个且拍摄方向向下且垂直于晶硅电池片，即所述检测仪仅能够实现正透隐裂检测而无法实现斜透隐裂检测。

实用新型内容

本实用新型是要解决现有技术中晶硅电池片仅能够实现正透隐裂检测的问题，提供一种新型的晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统。

为了实现这一目的，本实用新型的技术方案如下：一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统，用于检测待检区域的晶硅电池片的隐裂缺陷，包括：固定机架、正透隐裂缺陷检测装置、斜透隐裂缺陷检测装置、红外光源；所述固定机架包括：机架左立柱、机架右立柱、左立柱后横梁、右立柱后横梁，所述机架左立柱与所述左立柱后横梁相固定连接，所述机架右立柱与所述右立柱后横梁相固定连接；所述正透隐裂缺陷检测装置包括：第一连接横梁、第一红外相机，所述第一连接横梁固定连接在所述机架左立柱与所述机架右立柱间，所述第一红外相机固定连接在所述第一连接横梁且位于所述待检区域正上方，所述第一红外相机的拍摄方向系竖向向下，使得所述第一红外相机的视场能够覆盖所述待检区域；所述斜透隐裂缺陷检测装置包括：第二连接横梁、第二红外相机，所述第二连接横梁固定连接在所述左立柱后横梁与所述右立柱后横梁间，所述第二红外相机固定连接在所述第二连接横梁且位于所述待检区域后上方，所述第二红外相机的拍摄方向系向前下方，使得所述第二红外相机的视场能够覆盖所述待检区域；所述红外光源位于所述待检区域正下方，所述红外光源的光源方向系竖向向上，使得所述红外光源能够覆盖所述待检区域。

作为一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统的优选方案，所述斜透隐裂缺陷检测装置还包括：拍摄背景板，所述拍摄背景板位于所述待检区域前下方，所述拍摄背景板相对于所述第二红外相机。

作为一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统的优选方案，所述左立柱后横梁垂直于所述机架左立柱且向后方向延伸，所述右立柱后横梁垂直于所述机架右立柱且向后方向延伸，所述左立柱后横梁与所述右立柱后横梁处于同一水平平面。

作为一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统的优选方案，所述红外光源是条形光源，所述红外光源固定连接在所述机架左立柱与所述机架右立柱间。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果至少在于：1.晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统包括正透隐裂缺陷检测装置及斜透隐裂缺陷检测装置，能够实现正透隐裂缺陷检测及斜透隐裂缺陷检测；2.固定机架整体结构简单，巧妙地将正透隐裂缺陷检测装置与斜透隐裂缺陷检测装置固定安装。

除了上面所描述的本实用新型解决的技术问题、构成技术方案的技术特征以及由这些技术方案的技术特征所带来的有益效果之外，本实用新型所能解决的其他技术问题、技术方案中包含的其他技术特征以及这些技术特征带来的有益效果，将连接附图作出进一步详细的说明。

附图说明

图1为本实用新型一实施例的结构示意图（主视方向）。

图2为本实用新型一实施例的结构示意图（侧视方向）。

图3为本实用新型一实施例的结构示意图（俯视方向）。

具体实施方式

下面通过具体的实施方式结合附图对本实用新型作进一步详细说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本实用新型，但不构成对本实用新型的限定。此外，下面所描述的本实用新型各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。

请参见图1至3，图中示出的是一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统。

所述晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统用于检测待检区域的晶硅电池片的隐裂缺陷。

所述晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统包括：固定机架1、正透隐裂缺陷检测装置2、斜透隐裂缺陷检测装置3、红外光源4。

所述固定机架1包括：机架左立柱11、机架右立柱12、机架顶横梁13、左立柱后横梁14、右立柱后横梁15。所述机架顶横梁13固定连接在所述机架左立柱11与所述机架右立柱12间，使得三者形成门形框架结构。所述机架左立柱11与所述左立柱后横梁14相固定连接。所述左立柱后横梁14垂直于所述机架左立柱11且向后方向延伸。所述机架右立柱12与所述右立柱后横梁15相固定连接。所述右立柱后横梁15垂直于所述机架右立柱12且向后方向延伸。所述左立柱后横梁14与所述右立柱后横梁15处于同一水平平面且所述水平平面位于所述机架顶横梁13下方。

所述正透隐裂缺陷检测装置2包括：第一连接横梁21、第一红外相机22。所述第一连接横梁21固定连接在所述机架左立柱11与所述机架右立柱12间且位于所述机架顶横梁13下方。所述第一红外相机22固定连接在所述第一连接横梁21且位于所述待检区域正上方。所述第一红外相机22的拍摄方向系竖向向下，使得所述第一红外相机22的视场能够覆盖所述待检区域。较佳地，所述第一红外相机22与所述待检区域的距离小于15mm。

所述斜透隐裂缺陷检测装置3包括：第二连接横梁31、第二红外相机32。所述第二连接横梁31固定连接在所述左立柱后横梁14与所述右立柱后横梁15间且位于所述机架顶横梁13下方。所述第二红外相机32固定连接在所述第二连接横梁31且位于所述待检区域后上方。所述第二红外相机32的拍摄方向系向前下方，使得所述第二红外相机32的视场能够覆盖所述待检区域。较佳地，所述第二红外相机32与所述待检区域的距离小于15mm。

所述红外光源4位于所述待检区域正下方。所述红外光源4为条形光源。所述红外光源4固定连接在所述机架左立柱11与所述机架右立柱12间。所述红外光源4的光源方向系竖向向上，使得所述红外光源4能够覆盖所述待检区域。较佳地，所述红外光源4利用其灯珠的位置排布及发光角度，实现多角度光强，以更好地适配正透隐裂缺陷检测任务及斜透隐裂缺陷检测检测任务。

较佳地，所述斜透隐裂缺陷检测装置3还包括：拍摄背景板33。所述拍摄背景板33位于所述待检区域前下方。所述拍摄背景板33固定连接在所述红外光源4。所述拍摄背景板33相对于所述第二红外相机32。设置所述拍摄背景板33，能够提高所述第二红外相机32的拍摄质量。

所述晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统的工作模式包括：仅所述正透隐裂缺陷检测装置2执行检测正透隐裂缺陷检测任务、仅所述斜透隐裂缺陷检测装置3执行检测斜透隐裂缺陷检测任务、所述正透隐裂缺陷检测装置2与所述斜透隐裂缺陷检测装置3分别执行正透隐裂缺陷检测任务及斜透隐裂缺陷检测检测任务。

所述正透隐裂缺陷检测装置2执行检测正透隐裂缺陷检测任务的过程：启用所述第一红外相机22，所述第一红外相机22拍摄所述待检区域的所述晶硅电池片，得到关于所述晶硅电池片的拍摄图像。所述拍摄图像的参数可设置如下：背景灰度值255，图形灰度值100-150。隐裂缺陷会清晰地显示在图形中，通过对比即能完成识别检测。

所述斜透隐裂缺陷检测装置3执行检测斜透隐裂缺陷检测任务的过程：启用所述第二红外相机32，所述第二红外相机32拍摄所述待检区域的所述晶硅电池片，得到关于所述晶硅电池片的拍摄图像。所述拍摄图像的参数可设置如下：背景灰度值小于30，图形灰度值100-150，隐裂缺陷会清晰地显示在图形中，通过对比即能完成识别检测。

所述晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统可同时实现正透隐裂缺陷检测及斜透隐裂缺陷检测，能够有效地提高检测精度。

以上仅表达了本实用新型的实施方式，其描述较为具体和详细，但且不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的后提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (4)

1.一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统，用于检测待检区域的晶硅电池片的隐裂缺陷，其特征在于，包括：固定机架、正透隐裂缺陷检测装置、斜透隐裂缺陷检测装置、红外光源；所述固定机架包括：机架左立柱、机架右立柱、左立柱后横梁、右立柱后横梁，所述机架左立柱与所述左立柱后横梁相固定连接，所述机架右立柱与所述右立柱后横梁相固定连接；所述正透隐裂缺陷检测装置包括：第一连接横梁、第一红外相机，所述第一连接横梁固定连接在所述机架左立柱与所述机架右立柱间，所述第一红外相机固定连接在所述第一连接横梁且位于所述待检区域正上方，所述第一红外相机的拍摄方向系竖向向下，使得所述第一红外相机的视场能够覆盖所述待检区域；所述斜透隐裂缺陷检测装置包括：第二连接横梁、第二红外相机，所述第二连接横梁固定连接在所述左立柱后横梁与所述右立柱后横梁间，所述第二红外相机固定连接在所述第二连接横梁且位于所述待检区域后上方，所述第二红外相机的拍摄方向系向前下方，使得所述第二红外相机的视场能够覆盖所述待检区域；所述红外光源位于所述待检区域正下方，所述红外光源的光源方向系竖向向上，使得所述红外光源能够覆盖所述待检区域。

2.根据权利要求1所述的一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统，其特征在于，所述斜透隐裂缺陷检测装置还包括：拍摄背景板，所述拍摄背景板位于所述待检区域前下方，所述拍摄背景板相对于所述第二红外相机。

3.根据权利要求1或2所述的一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统，其特征在于，所述左立柱后横梁垂直于所述机架左立柱且向后方向延伸，所述右立柱后横梁垂直于所述机架右立柱且向后方向延伸，所述左立柱后横梁与所述右立柱后横梁处于同一水平平面。

4.根据权利要求1或2所述的一种晶硅电池片透射式隐裂缺陷检测系统，其特征在于，所述红外光源是条形光源，所述红外光源固定连接在所述机架左立柱与所述机架右立柱间。

Images