CN218101198U - 一种晶圆清洗用甩干装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种晶圆清洗用甩干装置，包括安装底座，所述安装底座顶端安装有甩干平台，所述甩干平台上端转动连接有用于放置晶圆的旋转平台，所述旋转平台上端至少设置有两组夹持组件，所述夹持组件包括若干个夹持滑块，若干个所述夹持滑块位于旋转平台上端周向分布，所述甩干平台顶端开有用于供夹持滑块滑动的滑槽，所述夹持滑块顶端固定连接有夹持板，所述夹持板内壁为弧形，多个所述夹持板内壁弧形面位于一个虚拟圆柱体外壁上，所述旋转平台内部设置有两组驱动组件。本实用新型其解决了晶圆在甩干过程当中晶圆边缘部分与夹持组件之间水分残留过多的问题。

Description

一种晶圆清洗用甩干装置

技术领域

本实用新型涉及晶圆生产技术领域，尤其涉及一种晶圆清洗用甩干装置。

背景技术

晶圆在生产的过程当中需要经过数次的湿法水洗过程，利用水洗去除晶圆表面的残留物质，其中晶圆在水洗结束后需要将晶圆表面的水分去除，保持晶圆表面的干燥，便于后续生产，其中将晶圆通过甩干的方式能够有效地去除表面的水分；但是传统的晶圆甩干设备在对晶圆甩干时，通过专用的夹具对晶圆进行夹紧固定，避免晶圆在甩干的过程当中位置发生偏差导致晶圆产生损坏，上述晶圆专用夹具在对晶圆夹紧的过程当中与晶圆抵紧位置固定，晶圆在甩干的过程当中晶圆表面的水分在力的作用下朝着晶圆外侧移动，晶圆外侧边缘部分与夹紧抵紧处，水分难以通过甩干的方式进行去除，导致了晶圆与夹紧接触部分存在残留水渍，无法实现对晶圆的深度干燥。

国内已经有相关的研究，目的就是为了减少晶圆与夹紧接触位置的清洗液残留，其专利文献公开号为：CN114496896A，公开了一种湿法工艺的晶圆清洗平台，其内的夹持组件为专用的尖锐凸起，能够减少清洗液在夹持组件与晶圆片之间的结晶堆积；但是通过上述技术方案依然无法有效避免晶圆与夹持组件之间的水分残留，夹持组件无法脱离晶圆，在二者接触位置始终存在水渍的残留；并且接触面积的减小对导致晶圆在甩干的过程当中单点的力的作用增大，容易造成晶圆边缘部分折损的问题，造成直接的经济损失。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种晶圆清洗用甩干装置，其解决了晶圆在甩干过程当中晶圆边缘部分与夹持组件之间水分残留过多的问题。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种晶圆清洗用甩干装置，包括安装底座，所述安装底座顶端安装有甩干平台，所述甩干平台上端转动连接有用于放置晶圆的旋转平台，所述旋转平台上端至少设置有两组夹持组件，所述夹持组件包括若干个夹持滑块，若干个所述夹持滑块位于旋转平台上端周向分布，所述甩干平台顶端开有用于供夹持滑块滑动的滑槽，所述夹持滑块顶端固定连接有夹持板，所述夹持板内壁为弧形，多个所述夹持板内壁弧形面位于一个虚拟圆柱体外壁上，所述旋转平台内部设置有两组驱动组件，两组所述驱动组件分别与两组夹持组件对应，其中通过驱动组件控制对应的夹持滑块同步移动完成对晶圆的交替夹持限位。

优选地，所述夹持滑块上端固定连接有两组夹持板，两组所述夹持板按照滑块移动方向对称分布。

优选地，所述夹持板内壁表面开有若干个透气条纹，若干个所述透气条纹竖直方向布置并且朝着旋转平台方向延伸，所述夹持板顶端开有透气开口，所述透气开口与透气条纹连通。

优选地，所述甩干平台上方设置有环形的风干组件，所述风干组件下端开有环形风干口，所述风干组件通过连接管道外接风干设备。

优选地，所述驱动组件包括驱动盘，所述旋转平台内壁开有容纳腔室，所述驱动盘与容纳腔室内壁转动连接，所述驱动盘侧壁边缘部分转动连接有驱动杆，所述驱动杆末端与夹持滑块转动连接，所述驱动盘外壁固定连接有齿圈，所述容纳腔室内壁转动连接有与齿圈啮合的齿轮，所述旋转平台内部设置有驱动齿轮旋转的电控设备。

优选地，所述驱动组件包括液压伸缩杆，所述液压伸缩杆位于旋转平台内部，所述液压伸缩杆的伸缩末端与夹持滑块侧壁固定连接，所述液压伸缩杆外接液压控制设备。

本实用新型与现有技术相比，其有益效果为：

与现有技术相比较，在晶圆甩干的过程当中通过设置至少两组夹持组件交替地晶圆进行夹持限位，避免了定点持续夹持造成液体残留的现象，能够让晶圆甩干后的清洁干燥程度更佳，保证了产品的质量；并且设置夹持板为弧形朝着两侧分布，其能够对晶圆进行稳定地夹持，保证晶圆在甩干过程当中的稳定性；并且夹持板表面设置有透气开口以及透气条纹，在风干组件的作用下，能够对展开状态的夹持板内壁进行快速风干，去除残留水渍，使得其后续夹持时处于干燥状态。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种晶圆清洗用甩干装置的立体结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种晶圆清洗用甩干装置的俯视结构示意图；

图3为本实用新型提出的一种晶圆清洗用甩干装置的正视结构示意图；

图4为本实用新型提出的一种晶圆清洗用甩干装置的A-A线剖视结构示意图；

图5为本实用新型提出的一种晶圆清洗用甩干装置的B-B线剖视结构示意图。

图中：1、安装底座；101、甩干平台；2、旋转平台；201、滑槽；202、夹持滑块；3、夹持板；301、透气开口；302、透气条纹；4、风干组件；401、连接管道；5、驱动组件；501、驱动杆；502、驱动盘；503、齿圈；504、齿轮。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

参照图1-5，一种晶圆清洗用甩干装置，包括安装底座1，安装底座1顶端安装有甩干平台101，甩干平台101上端转动连接有用于放置晶圆的旋转平台2，在甩干平台101内部设置有驱动旋转平台2转动的驱动设备，用于驱动旋转平台2定向高速旋转，实现对旋转平台2上端晶圆的甩干过程；其中旋转平台2上端至少设置有两组夹持组件，夹持组件的作用是从外侧对晶圆进行夹持限位固定，保证其在甩干过程中的稳定性。

夹持组件包括若干个夹持滑块202，若干个夹持滑块202位于旋转平台2上端周向分布，甩干平台101顶端开有用于供夹持滑块202滑动的滑槽201，夹持滑块202顶端固定连接有夹持板3，夹持板3内壁为弧形，多个夹持板3内壁弧形面位于一个虚拟圆柱体外壁上，多个夹持板3同步移动，能够通过夹持板3从外侧对晶圆进行夹持限位，旋转平台2内部设置有两组驱动组件5，两组驱动组件5分别与两组夹持组件对应，其中通过驱动组件5控制对应的夹持滑块202同步移动完成对晶圆的交替夹持限位，在甩干的过程当中，首先通过驱动组件5控制第一组夹持组件对晶圆进行夹紧限位，在预定时间后，通过第二组驱动组件5对晶圆进行夹紧限位后，控制第一组夹持组件展开，远离晶圆，两组夹持组件在晶圆转动的过程当中完成对晶圆的交替夹持，解决了晶圆甩干的水渍在单一位置残留难以排出的问题；这里需要说明的是，上述夹持组件的设置位置不限于附图中的中间位置，附图中只是为了更加便于理解此项技术，明显的，能够在旋转平台2上端设置多组夹持组件位于旋转平台2的边缘位置，同步对多组晶圆进行甩干。

夹持滑块202上端固定连接有两组夹持板3，两组夹持板3按照滑块移动方向对称分布，在夹持滑块202上端设置两组夹持板3，其能够延伸夹持板3与晶圆夹持的面积，扩大接触面积，减小接触面积的压力，能够对晶圆夹持得更加稳定，避免力的几种对晶圆产生损害。

夹持板3内壁表面开有若干个透气条纹302，若干个透气条纹302竖直方向布置并且朝着旋转平台2方向延伸，夹持板3顶端开有透气开口301，透气开口301与透气条纹302连通，其中晶圆在甩干的过程当中，水分朝着边缘部分流动，能够位于夹持板3的内壁上，通过竖直设置的透气条纹302，能够将大部分水分进行排走，进入到透气开口301内得到收集，避免晶圆边缘部分过多的水渍残留。

甩干平台101上方设置有环形的风干组件4，风干组件4下端开有环形风干口，风干组件4通过连接管道401外接风干设备，风干设备能够持续输送暖风，当夹持组件展开后，其位置与环形风干口位置相对，暖风能够对展开状态下的夹持板3进行烘干，加速夹持板3内壁的水分蒸发，保证后续夹持晶圆时的干燥状态。

作为优选的驱动方式之一，驱动组件5包括驱动盘502，旋转平台2内壁开有容纳腔室，驱动盘502与容纳腔室内壁转动连接，驱动盘502侧壁边缘部分转动连接有驱动杆501，驱动杆501末端与夹持滑块202转动连接，驱动盘502外壁固定连接有齿圈503，容纳腔室内壁转动连接有与齿圈503啮合的齿轮504，旋转平台2内部设置有驱动齿轮504旋转的电控设备，在电控设备驱动齿轮504定向转动时，其能够带动内部的驱动盘502定向转动，转动的驱动盘502能够通过驱动杆501实现对夹持滑块202的拉扯，多个夹持滑块202同步朝内移动，完成对晶圆的夹紧限位；反之，多个夹持滑块202反向移动，带动夹持板3处于展开状态。

作为优选的驱动方式之一，驱动组件5包括液压伸缩杆，液压伸缩杆位于旋转平台2内部，液压伸缩杆的伸缩末端与夹持滑块202侧壁固定连接，液压伸缩杆外接液压控制设备，其中旋转平台2的中间部分中空，其内设置转动密封件，液压控制设备通过转动密封件控制多个液压伸缩杆同步移动，同上，多个夹持滑块202同步移动的过程当中，能够实现夹持板3对晶圆的同步夹紧或者展开过程，完成驱动。

本实用新型使用时，当需要对晶圆进行甩干时，将晶圆放置于旋转平台2上端预定位置，此时通过驱动组件5控制第一组夹持组件从外侧对晶圆进行夹持限位，旋转平台2在持续的旋转过程当中完成对晶圆的甩干；在晶圆甩干一定时间后，通过第二组驱动组件5控制第二组夹持组件从外侧实现对晶圆的夹持后，第一组夹持组件在对应的驱动组件5的作用下展开，通过风干组件4对展开的第二组夹持组件进行风干，保证其内侧壁表面的干燥程度，保证后续夹持晶圆时处于干燥的状态，实现更佳的甩干效果，避免水渍残留。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种晶圆清洗用甩干装置，包括安装底座（1），所述安装底座（1）顶端安装有甩干平台（101），所述甩干平台（101）上端转动连接有用于放置晶圆的旋转平台（2），其特征在于，所述旋转平台（2）上端至少设置有两组夹持组件，所述夹持组件包括若干个夹持滑块（202），若干个所述夹持滑块（202）位于旋转平台（2）上端周向分布，所述甩干平台（101）顶端开有用于供夹持滑块（202）滑动的滑槽（201），所述夹持滑块（202）顶端固定连接有夹持板（3），所述夹持板（3）内壁为弧形，多个所述夹持板（3）内壁弧形面位于一个虚拟圆柱体外壁上，所述旋转平台（2）内部设置有两组驱动组件（5），两组所述驱动组件（5）分别与两组夹持组件对应，其中通过驱动组件（5）控制对应的夹持滑块（202）同步移动完成对晶圆的交替夹持限位。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗用甩干装置，其特征在于，所述夹持滑块（202）上端固定连接有两组夹持板（3），两组所述夹持板（3）按照滑块移动方向对称分布。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗用甩干装置，其特征在于，所述夹持板（3）内壁表面开有若干个透气条纹（302），若干个所述透气条纹（302）竖直方向布置并且朝着旋转平台（2）方向延伸，所述夹持板（3）顶端开有透气开口（301），所述透气开口（301）与透气条纹（302）连通。

4.根据权利要求3所述的一种晶圆清洗用甩干装置，其特征在于，所述甩干平台（101）上方设置有环形的风干组件（4），所述风干组件（4）下端开有环形风干口，所述风干组件（4）通过连接管道（401）外接风干设备。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的一种晶圆清洗用甩干装置，其特征在于，所述驱动组件（5）包括驱动盘（502），所述旋转平台（2）内壁开有容纳腔室，所述驱动盘（502）与容纳腔室内壁转动连接，所述驱动盘（502）侧壁边缘部分转动连接有驱动杆（501），所述驱动杆（501）末端与夹持滑块（202）转动连接，所述驱动盘（502）外壁固定连接有齿圈（503），所述容纳腔室内壁转动连接有与齿圈（503）啮合的齿轮（504），所述旋转平台（2）内部设置有驱动齿轮（504）旋转的电控设备。

6.根据权利要求1-4任意一项所述的一种晶圆清洗用甩干装置，其特征在于，所述驱动组件（5）包括液压伸缩杆，所述液压伸缩杆位于旋转平台（2）内部，所述液压伸缩杆的伸缩末端与夹持滑块（202）侧壁固定连接，所述液压伸缩杆外接液压控制设备。

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